【課題】、版面上の位置による表面温度差で現像後のセル形状が異なりはなはだしい場合には部分的にセル部以外や非画線部の感光剤皮膜まで溶解除去されてしまうという問題を解決して安定な再現性を有する工程を実現するための方法の開発が望まれていた。
【解決手段】珪酸ナトリウムを主成分とするアルカリ現像液により感光剤被膜が設けられたセル部を腐食することにより現像するグラビア版の現像方法において、感光剤被膜の温度を３５℃未満とすることを特徴とするグラビア版の現像方法を提供する。
特に、感光剤被膜の温度を３５℃未満とする手段として、グラビア版にエアノズルによる空気吹き付けを行うことが効果的である。 （もっと読む）

本発明は、好ましくはＣＴＰプロセスで、印刷プレート、特にはオフセット印刷プレートを作製する現像装置の動作方法に関する。前記方法によれば、汚染された現像液が分離機（６）に送り込まれて処理される。少なくとも一部の汚染物質は、前記分離機の遠心領域で現像液から分離される。現像装置は、現像液を入れるものでありかつ分離機に接続された、容器（１）を備えている。
（もっと読む）

【課題】 所定パターンが容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法において、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、樹脂層に対して、現像液を膜状に連続的に供給しながら、所定パターンを形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 収容容器の蓋と基板を保持するステージの上昇の際の相対距離を制御して基板へのパーティクルの付着を抑制するようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｇを保持するステージ５０と、ステージ５０を昇降可能に駆動する基板昇降手段５１と、ステージ５０及び基板Ｇを収容する上部に開口部５２を有する下部チャンバ５３と、下部チャンバ５３の上部開口部５２を開閉する上部チャンバ５４と、上部チャンバ５４を昇降可能に駆動する蓋体昇降手段５５とを設ける。基板昇降手段５１の駆動手段６０Ａと、蓋体昇降手段５５の駆動手段６０Ｂとを別個に形成すると共に、これら駆動手段６０Ａ，６０Ｂを制御手段であるＣＰＵ７０からの制御信号に基づいて同時に、あるいは、一方の昇降手段が昇降動作した後に同時に動作し、かつ、上記蓋体と基板保持手段との相対距離を制御可能に形成する。 （もっと読む）

【課題】 微細構造体の倒壊を防止するとともに、効率よく現像、洗浄またはエッチングをするための方法を提供する。
【解決手段】 本発明の微細構造体の製造方法は、リソグラフィにより基板上の樹脂層を露光し、露光後の樹脂層に現像液を供給して樹脂型を形成する工程を含み、供給する現像液にメガヘルツ帯域の振動を与えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルター基板のフォト装備に利用される現像液を一元化することにより、最小限のフォトバックアップ装備でも生産力の極大化が可能であるフォト装備及びこれを利用したカラーフィルター基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】省スペースで処理能力の高い、しかも均一性の高い処理が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板２０主表面が斜め上方を向くように傾斜させた状態で基板２０を所定範囲の傾斜角度に保持する基板保持手段と、傾斜させた状態の基板２０の少なくとも一辺方向に対して略均等に処理液を供給し、基板２０主表面の全域に処理液を満たす処理液供給手段と、上記基板２０と上記処理液供給手段とを相対的に移動させる移動手段とを備える。上記基板保持手段による水平方向に対する基板２０の傾斜角度（α）は２５〜８０度の範囲である。上記処理液供給手段は、基板２０の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル３０からなり、上記移動手段は、ノズル３０を前記一辺方向と直交する基板２０主表面上を移動させる手段である。 （もっと読む）

１）現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像液循環系、２）前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタ、及び３）前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系を具備する現像装置。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ化学プロセスを温度制御するシステム、装置及び方法に関する。温度制御システムは、基板上にあらかじめ特定された複数のゾーンの温度を検出するよう構成された複数の温度センサ要素を有するマルチゾーン温度検出ユニットと、上記複数のゾーンの温度を調節するよう構成された複数の温度カプラ要素を有するマルチゾーン温度調節ユニットと、マルチゾーン温度検出ユニット及びマルチゾーン温度調節ユニットに作動的に且つ情報伝達可能に結合された温度コントローラユニットとを有する。温度コントローラユニットは、上記複数のゾーンの温度を調節するために、マルチゾーン温度検出ユニットから検出温度を受け取り、この検出温度情報を処理し、処理後の温度情報に基づいて温度制御情報を作成し、温度制御情報をマルチゾーン温度調節ユニットに伝達する。 （もっと読む）

【課題】 レジストを高精度に加熱・冷却する。
【解決手段】 熱伝導性の悪い基板１１上にレジストパターン形成を行うため、レジスト１２を加熱冷却する際に、温度調整板１３の温度を段階的又は連続的に変化させることにより、レジスト１２のベークの温度管理と時間管理を高精度に制御することが可能となり、レジストパターンの線幅制御性が向上し、特に微細パターンに対応することができる。 （もっと読む）