【課題】薬液に溶解した気体を除去することができる薬液供給装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】薬液を貯蔵する薬液貯蔵容器２が、気体が透過可能、かつ液体が透過不能である、可撓性を有する材質からなる内側容器２２と、内側容器２２を収納する外側容器２１とを備える。外側容器２１と内側容器２２との間に、加圧配管３を通じて加圧気体等を導入することにより、内側容器２２は外側から加圧圧縮される。当該加圧により内側容器２２から送出された薬液は、供給配管４を通じて対象物に供給される。また、薬液供給待機期間中に、内側容器２２と外側容器２１との間の空間を減圧する、真空ポンプ１０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像処理を含む一連の処理を、その前工程および後工程を含めて高スループットで行うことができる処理装置を提供すること、およびこれに加えて、フットプリントを極力小さくすることができる処理装置を提供すること。
【解決手段】いずれも基板Ｇが略水平に搬送されつつ所定の処理が行われる、洗浄処理ユニット21と、レジスト処理ユニット23と、現像処理ユニット43とを有し、さらに各処理ユニットに付随する熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された複数の熱的処理ユニットセクション24,25,44を有し、露光装置3を挟んで一方側に洗浄処理ユニット21およびレジスト処理ユニット23が存在し、他方側に現像処理ユニット43が存在する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、塗布ローラに汚染物質の物質を付着させない、長期間現像性が安定した塗布ローラを有する感光材料処理装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、感光材料の感光面側に配設された塗布ローラと、感光材料の感光面と反対側に配設され前記塗布ローラに当接するバックアップローラとを備え、前記塗布ローラと前記バックアップローラとの間に感光材料を通過させることにより感光材料に処理液を塗布する感光材料処理装置であって、前記塗布ローラは芯材表面に弾性層を設け、該弾性層の外周にワイヤーを巻回した塗布ローラであることを特徴とする感光材料処理装置。 （もっと読む）

【課題】移動時の配管長さの変化により液の温度変化を抑制すると共に、バタツキや膨らみ等による塵の発生を抑制する複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも液用管体６１と電気用管体６２を含む複数の管体６１，６２が並列状に固着され、一端が固定設備側の配管連結ブロックに接続され、他端が移動体側のノズルヘッドに接続される複合配管６０において、複数の管体６１，６２を可撓性を有する被覆部材６３にて一体結合し、液用管体６１内に空間を空けて液供給管６４を挿入すると共に、液用管体６１と液供給管６４との空間部６８ａ内に温度調整用流体６５を介在可能に形成する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの線幅寸法のばらつきを抑制可能とした、レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジストパターンの形成方法は、第一基板上にフォトレジストを塗布し、この塗布されたフォトレジストに所定のパターンを露光した後、現像を施すレジストパターンの形成方法であって、前記塗布、前記露光および前記現像の少なくとも１つの工程において、前記第一基板が属するロットの切り替え時に常に、前記ロットが滞在する雰囲気の入れ替えを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱処理装置等の処理装置の増設を容易にし、装置自体に係る処理のスループットを向上させると共に各熱処理装置の用力の管理を容易化し、被処理基板の処理に係る歩留まりを向上することができる。
【解決手段】被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構７０を各々備えた熱処理装置ＨＰを複数積層して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置であって、前記熱処理装置ブロックＨＰＢ毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する冷却液供給機構８１と、この冷却液供給機構８１より供給される冷却液は分岐され１つの熱処理装置ブロック内の複数の熱処理部ＨＰの温調機構７０に各々冷却液を供給する供給機構９９と、温調機構側から熱処理部側に向かって気体の流れを形成する排気口を熱処理部の温調機構の対抗する側に少なくとも１つ具備し構成された排気機構と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】検査モジュールにて基板が無駄に滞在する時間を削減し、これにより塗布、現像装置のスループットを向上することのできる技術を提供すること。
【解決手段】処理ステーションで処理を受けた基板を、キャリアステーションに受け渡す検査ステーションにおいて、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、基板を一時的に滞留させるバッファユニットと、制御部によりその動作が制御される基板搬送手段が設けられ、検査モジュールが基板の処理を行う間、後続の、その検査モジュールによる検査対象となっている基板は、前記基板搬送手段によりバッファユニットに搬送され、滞留されることで、検査モジュールにおける基板の滞留を抑え、スループットの向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】作業性がよく、装置構成がコンパクトで液漏れ等のトラブルの少ないバッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び液処理ユニットへの処理液の供給方法を提供する。
【解決手段】液処理装置の供給タンクから供給ノズルへと供給される処理液の供給経路の途中に設置されるバッファタンク３において、そのバッファタンク容器３１内に、このタンク本体内を貯留部３７ａをなす第１の貯留領域と、第２の貯留領域とに仕切る仕切り部材（隔壁部３９ａ）と、仕切り部材の一部を構成し、第１の貯留領域から第２の貯留領域への通路をなすろ過用のフィルタ３８ａと、第１の貯留領域に溜まった気泡を排出するための第１のベント（１次ベントポート部３４）と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】平流し方式の現像処理において現像時間の短縮化や線幅均一性の向上を効率的に実現すること。
【解決手段】この現像ユニット（ＤＥＶ）９４は、平流しの搬送路１２０に沿って上流側から搬入部１２２、加熱部１２４、現像部１２６、第１および第２リンス部１２８，１３０、乾燥部１３２および搬出部１３４を一列に配置する。搬送路１２０上の基板Ｇを加熱部１２４で設定温度まで加熱してから、直ぐ下流側の現像部１２６で基板Ｇ上に現像液を供給するので、現像中に基板Ｇからの放熱で現像液が加熱され、現像液が活性化してその液膜の中で対流が起こり、レジスト膜の可溶部の溶解が促進され、現像速度が向上する。 （もっと読む）

【課題】現像後に非画像部における顔料を良好に除去することができ、非画像部における残色をなくして検版性を高め、かつ印刷中の汚れも防止できる平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】表面親水性のアルミニウム支持体上に、酸価が０.３ｍｅｑ／ｇ以下のバイ
ンダーポリマーを含有する感光層を設け、該感光層が、−ＣＯＯＨ基、−ＰＯ₃Ｈ₂基および−ＯＰＯ₃Ｈ₂基を有さない顔料分散剤を用いて分散した顔料を含有する平版印刷版原版。当該平版印刷版原版を、３６０〜４５０ｎｍの波長域に発振波長を有するレーザーで画像露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液を用いて現像を行う方式の平版印刷版原版であって、現像性と耐刷性を両立することの可能な平版印刷版原版およびこれを用いる平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 レーザーで画像露光した後、自動現像機を用いて、ｐＨが２〜１０の現像液により現像を行う方式に用いられる平版印刷版原版であって、親水性支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、（Ｃ）ラジカル重合性化合物、（Ｄ）酸価０．３ｍｅｑ／ｇ以下のバインダーポリマーおよび（Ｅ）特定のオキシエチレン含有硫酸塩を含有する感光層と、保護層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版およびこれを用いる平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】一のロットＡの基板と後続の他のロットＢの基板との間で、第２の加熱ユニットの加熱処理温度を変更する場合に、スループットの向上を図ること。
【解決手段】温調ユニットＣＰＬ２、塗布ユニットＢＣＴ、加熱ユニットＬＨＰ２、温調ユニットＣＰＬ３、塗布ユニットＣＯＴ、加熱ユニットＬＨＰ３、冷却ユニットＣＯＬの順にウエハＷを搬送する場合に、ロットＡの最後のウエハＡ１０を加熱ユニットＬＨＰ３にて処理した後、当該ユニットＬＨＰ３の加熱温度を変更し、前記ロットＢの先頭のウエハＢ１が温調ユニットＣＰＬ３に搬送された搬送サイクルの次の搬送サイクルから、当該先頭のウエハＢ１に続く加熱ユニットＬＨＰ２にて加熱処理されたウエハＢを退避ユニットＢＦ２に順次満たしていき、また加熱ユニットＬＨＰ３の温度変更後においては、前記退避ユニットＢＦ２内のウエハＢを順次下流側のモジュールに搬送するようにウエハを搬送する。 （もっと読む）

【課題】現像液の供給循環機構に設けた濾過フィルタＦのポアサイズをより高精細なものに切り換えずとも、現像ノズルの詰まりが発生し難い現像ノズルを提供する。
【解決手段】Ａ）上部に上部口、下部に下部口、上部口から下部口に垂直に貫通し、上半中空部８１Ａとトラップとして機能する下半中空部８１Ｂで構成する垂直中空部８１、垂直中空部から、屈曲中空部８２、屈曲中空部の下部に屈曲下部口を有する中空アダプター８０、Ｂ）屈曲中空部内のストレーナー８３、Ｃ）屈曲下部口の現像ノズル先端部８４、Ｄ）下部口に接続する開閉バルブ８５及び排液管８６を少なくとも具備する。 （もっと読む）

【課題】現像性に優れ、ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液を製版工程で繰り返し使用しても、現像性の低下やカスの発生を防止し、製版工程のコストを削減することができるとともに、感度および耐刷性にも優れた平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】親水性支持体上に、水酸基を有し且つ酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下のバインダーとラジカル重合性化合物とを含有する感光層を設けたことを特徴とする平版印刷版原版。当該平版印刷版原版を、３６０〜４５０ｎｍの波長域に発振波長を有するレーザーで画像露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】アミノ化合物の含有量の変動による現像性の低下、インキ反発層剥離を抑制し、ポジ型、直描型水なし平版印刷版のいずれをも長期間安定して処理することができる水なし平版印刷版用処理液を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるエチレングリコール誘導体と、（ｂ）１分子中に１級アミノ基を２個以上有するアミノ化合物を含有することを特徴とする水なし平版印刷版用処理液。
Ｒ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＨ （Ｉ）
（上記式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜５の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像可能であり、現像速度が速く、耐刷性にも優れた平版印刷版の作成方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、（Ｂ）開始剤化合物、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下であるバインダー、及び（Ｅ）親水性基を有する連鎖移動剤を含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザーで画像露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 露光後加熱処理の温度分布、現像処理時の現像ムラを現像処理で一括して補正し、調整時間の短縮化をはかる。
【解決手段】 現像処理装置の調整方法において、モニタマークが配置された露光マスクを用い、設定露光量でマークを感光性樹脂膜の複数の位置に転写して複数の露光量モニタパターンを形成し（S303）、モニタパターンが形成された基板に加熱処理を行った後に冷却処理を行い（S304,305）、長手方向の長さが基板の最大幅より大きいノズルを走査させる現像処理装置を用いて感光性樹脂膜の現像処理を行い（S307）、現像処理後、各モニタパターンの状態を測定し（S308）、モニタパターンの状態の平均値を複数の位置について求め、ノズルの長手方向のモニタパターンの状態の分布を求め（S308）、モニタパターンの状態分布から現像処理装置の制御パラメータを算出して変更する（S309，S310）。 （もっと読む）

【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０
の水性現像液で現像する製版方法、およびこの方法に用いる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）３５０〜４５０ｎｍに吸収極大を有する特定の増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）酸価０．３ｍｅｑ／ｇ以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法およびこの方法に用いる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、レジストを塗布し、液浸露光した後の基板を現像するにあたり、基板の裏面に付着した液が乾燥することで発生するパーティクルによる汚染を防ぐことができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】 液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送する搬送手段と、前記基板の裏面に付着した、前記液層を形成した液を、前記基板が搬送手段に保持されている状態で検知する液検知部と、この液検知部の検知結果に基づいて基板の裏面の液除去処理を行うか否か判定する制御部と、液除去処理を行うと判定した基板の裏面の液を除去するための液除去手段と、を備えるように構成してウォータマークの形成を抑える。
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【課題】基板の場所による現像液に曝される現像時間の変動を解消し、基板の面内の寸法バラツキの少ない、均一な厚さ、パターン形状が安定した再現性の優れた現像処理するカラーフィルタの製造に用いる現像装置及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板搬送方向と直交する水平面に対して直交方向に並列して配置するコンベアーロール面を傾斜させ、コンベアーロール上に載置した基板が水平方向に基板搬送されながら、傾斜させた基板面の、直上で、平行して配置した複数のスプレーノズルから基板面上へ現像液が供給されて、基板が水平移動しながら現像処理をするカラーフィルタの製造に用いる現像装置であって、前記傾斜させたコンベアーロールのうち、傾斜面の高い側に追加スプレーノズルを設けたことを特徴とする現像装置。 （もっと読む）