【課題】ウェーハ露光のスループットを容易に向上できるウェーハ露光方法およびＥＵＶ露光装置を得ること。
【解決手段】ウェーハ５上で製品チップとなる製品領域をＥＵＶ露光処理部１でＥＵＶ露光するＥＵＶ露光ステップと、ウェーハ５上の周辺領域をＥＢ露光部２０ＣでＥＢ露光するＥＢ露光ステップと、を含み、ＥＢ露光部２０Ｃは、ＥＵＶ露光処理部１がウェーハ５のＥＵＶ露光を行なっている間に、ＥＵＶ露光されているウェーハ５とは異なるウェーハ５のＥＢ露光を行なう。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォーカスサーボ制御をより早く安定させることを目的とする。
【解決手段】複数の対象物（ワーク５）を支持する支持台２と、反射光に基づくフォーカスサーボ制御を行いながら対象物にレーザ光を照射するレーザ光照射装置３とを、相対移動させて露光を行うレーザ露光方法であって、レーザ光が対象物上のフォーカス開始位置ＦＳに到達した際にフォーカスサーボ制御を開始させる制御開始工程と、レーザ光が対象物上のフォーカス停止位置ＦＥに到達した際にフォーカスサーボ制御を停止させる制御停止工程と、レーザ光が対象物上のフォーカス停止位置ＦＥから次の対象物上のフォーカス開始位置ＦＳに到達するまでの間、光学部品（対物レンズ３５）の位置を所定位置に保持する保持工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被描画体上へ同心円状のパターンを精度よくかつ簡単な制御で描画する。
【解決手段】ロータリエンコーダ53を備えた回転ステージ41上に載置された被描画体上に電子ビームを照射し、該回転ステージ41を回転させつつ同心円状のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、所定の同心円に沿ったパターンを描画後、特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとし、電子ビームの照射をオフとした状態で、電子ビームの照射位置を半径方向にトラックピッチ分だけ偏向させた後、電子ビームの照射をオフとしてから回転ステージ41が１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオンとして所定の同心円に隣接する同心円に沿ったパターンの描画を開始し、該描画の開始から回転ステージが１回転した際に生じる特定のエンコーダパルスで電子ビームの照射をオフとする工程を繰り返して同心円状のパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】必要露光量が異なるエリアそれぞれに精度よくパターンを描画することを可能とする。
【解決手段】電子線の入射位置を、基板の移動速度と同等の速度で第１方向へ移動させることで、第１のパターンの描画位置への露光量を確保し、第１のパターンの描画が終了すると、電子線の入射位置をパターンが描画されない速度で第２方向へ移動し、電子線の入射位置を第２のパターンの描画位置へ位置決めする。これらの動作を交互に繰り返すことで基板上に規則的なパターンを連続的に形成することができる。また、規則的なパターンが形成された後は、入射位置を、基板表面にパターンが形成されない速度で第１方向と直交する方向へ往復移動させながら、照射位置へ位置決めする。これにより、電子線の偏向量を発散させることなく連続してパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ワークの損傷を未然に防止した、フォトレジスト層を有するワークの加工方法を提供する。
【解決手段】露光装置３０を用いてフォトレジスト層１２を有するワーク１０を加工する加工方法である。露光装置３０の対物レンズ３５ａとフォトレジスト層１２との間に、露光装置３０が発する光を透過可能な透明シート２０を配置し、この透明シート２０を通してフォトレジスト層１２を露光する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの２ビット信号長に対応する長エレメントを中央に隙間が生じることなく所定の描画長に、高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10を一方向回転させつつ、電子ビームEBを基板10の半径方向Ｙと直交するＸ方向へ高速に往復振動させるとともにＸ−Ｙ偏向を行って描画する際に、長エレメント14の描画は、２ビット信号長2kTの中央位置を中心位置sとして、所定比率で短くなった描画長の範囲を塗りつぶすように走査し、最終的な磁気ディスク媒体における２ビット信号長2Tに対し、両側に所定幅の非描画部を残して描画する。 （もっと読む）

【課題】中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査してハードディスクパターンを描画するに際して、各領域12Ａ，12Ｂ，12Ｃ…の半径方向位置毎に、回転角度に応じて生じるエンコーダパルスＡ₁，Ａ₂，Ａ₃…のうち、該各領域内の周方向描画開始位置が回転ステージの回転時に最も先に描画位置に位置する半径方向位置の回転方向前方で生じる所定のエンコーダパルスより後方、かつ半径方向位置毎の周方向描画開始位置より前方で生じる、半径方向位置毎に予め定められたエンコーダパルスを基準として、それぞれ予め定められた所定時間後に描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】高い精度を有し、安価に構成することが可能である、真空ステージ装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１内に、ステージ１１と、このステージ１１を回転させるエアースピンドル４と、このエアースピンドル４が収納されたボックス２０とを有し、ステージ１１を一軸方向に移動させる、断面円形状のスライド軸３が真空チャンバー１の内部から外部に延びて配置され、スライド軸３がボックス２０から両側に真空チャンバー１の外部へ一直線上に延びた単位構成が１個のみ設けられている真空ステージ装置を構成する。そして、この真空ステージ装置のスライド軸３に対して、その回転を規制すると共に、床面に対して静圧で浮上する構成を有している回転規制機構４０を設ける。 （もっと読む）

【課題】電子線描画装置におけるトラック間隔を検出し、その中で再現性のある移動ステージ変動を除いた、電子ビーム照射位置補正に必要な変動成分のみ正確に検出し、その変動信号で電子ビーム照射位置を変えてトラック間隔を一定に記録できる電子線描画装置、移動ステージ変動量算出方法、パターン描画方法を提供する。
【解決手段】電子線描画装置１００は、移動ステージ１６の位置を検出するリニアエンコーダ１８と、回転テーブル１４の回転角度を検出するロータリエンコーダ１８と、回転テーブル１４の１回転の中の所定回転角度におけるトラック間隔偏差Ｔｓを求めるトラック間隔偏差算出手段２１と、前記トラック間隔偏差算出装置２１で求められたトラック間隔偏差Ｔｓ分を走査電極３５における電子ビームＥＢの偏向に反映させてディスク基板１２への照射位置を調整する電子ビーム照射位置調整手段２２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備える微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向及び半径方向への往復振動により複数トラックのサーボエレメント13を１つずつ塗りつぶすように走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向へ大きく偏向して複数トラックのグルーブエレメント16を順に走査してグルーブパターン15を描画し、基板の１回転で複数トラックの描画を行う。 （もっと読む）

【課題】回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。
【解決手段】電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、
第１のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第１のステップと、
第２のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第２のステップと、
前記第１のドーズ量にて描画される部分と前記第２のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第３のステップと、
を含む電子ビーム描画方法。 （もっと読む）

【課題】基板が載置された基板トレイの変位を精度よく計測する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板トレイ４０の側面に、例えば鏡面加工を施すことにより平滑な反射面を形成する。これにより、光源６２からのレーザ光ＬＢ１ｘ，ＬＢ２ｘ，ＬＢ１ｙ，ＬＢ２ｙに対する高い反射率が確保され、精度よくＸＹ面内における基板トレイ４０の位置を計測することが可能となる。また、この計測結果を用いて、電子線を偏向させることにより、位置変動に起因する照射位置のずれ（変動）を抑制し、基板Ｗの表面に精度よくパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向によりサーボエレメント13を走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向Ｘへ大きく偏向走査してグルーブエレメント16を順に時間的間隔をもって描画して連続したグルーブパターン15を描画する。 （もっと読む）

【課題】例えば軸受装置のインナレースやアウタレースの表面ような曲面に温度センサのエレメントなどの露光パターンを高精度に形成することができるマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】 露光用光源１４の光をスポット光に整形して被露光表面ＥＦに向けて出射する光学手段１８と、光学手段から被露光表面に出射するスポット光の出射領域を変更し、且つ、スポット光の領域が変化する速度を変更する出射領域変更手段１２，２２と、露光用光源のオン・オフ制御を行い、且つ、出射領域変更手段を制御することで被露光表面に所定の露光パターンを形成する露光パターン制御手段２４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。
【解決手段】帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、遮光部分と透過部分とから構成されたパターンを有する中空円筒状マスクを介して露光し、金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、パターンの内面側が、特定の式で示される感光材料の感光波長領域の光に対する平均反射率が７０％以上、１００％未満の鏡面を有し、中空円筒状マスクは内部に光源を配設し、中空円筒状マスクの周面に感光材料を密着させ、感光材料の搬送速度と中空円筒状マスクの周速度とを同じにして露光する電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 （もっと読む）

基板の電子感受性面を選択露光することによってアイランドのアレイ（１２）を回転する基板にある同心状のトラック（１３）に形成する方法は、ビームの作用領域内の面にあるポイント（Ａ）にビームを方向付ける工程と、基板の回転方向（３１）にビームを偏向してポイント（Ａ’）がビームから所定の電子線量を受けるまでポイントに留める工程と、を備える。そして、ビームは、直前のポイント（Ａ’）から離間したさらなるポイント（ＢからＴ）に方向変更して同様の方法でビームによって照射される。方向変更することと偏向することとの処置は、基板の少なくとも１回転、好ましくは数回転に対して繰り返され、ポイントは、少なくとも１つのトラック（１３ａ）、好ましくは数トラック（１３ａから１３ｊ）に沿って照射される。そして、ポイントが基板にある目的のトラックすべてに沿って照射されるまで、基板の回転軸に垂直な基板の連続的または周期的な線形移動に連動して同様の処置を繰り返し、基板を横断するように作用領域をシフトさせ、照射されたポイント全体がアイランドのアレイを形成する。
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【課題】多数のレーザユニット間のレーザパワーのバラツキを抑える目的からＡＰＣ処理等のレーザパワー調整を行う場合で、レーザユニットに対峙する位置にドラムなどレーザ光を反射する部材が配置されている場合でも、ドラム表面でのレーザの反射光による干渉がなく、確実にＡＰＣ処理を実行でき、正確にレーザパワーを調整することができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】ドラム５のブランキング部分５Ａを光拡散部材４０で覆うことで光拡散部５Ｂを形成し、この光拡散部５Ｂでレーザ光を拡散するようにして、ドラム５の表面で反射されたレーザ光がレーザユニットに再入射することを防止し、フォトディレクタ１４がモニタ光１２ｂを検知できるようにし、制御手段３０は、必要とするレーザ光のモニタ光を受光することによりＡＰＣ処理を確実に実行し、正確にレーザパワーを調整できるようにした。 （もっと読む）

【課題】レーザユニットの出力特性やプレートへの記録（書き込み）特性が変化しても、特性の変化に対する補正を確実に行い最適な光量調整ができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】検出部３１が、レーザ光をモニタ光として捉えて、このモニタ光の光量を、レーザドライブ電流値（ＬＤ＿ｓｅｔ）に基づく検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）に変換して検出し、制御部３２が、予め設定した目標ＰＤ値（ＰＤ＿ｔａｒｇｅｔ）に徐々に大きくなるように変化する傾き補正を行い、検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）に基づく新ＬＤ値（ＬＤ＿ｂ）を設定して、この新ＬＤ値（ＬＤ＿ｂ）に基づきレーザドライブ電流値（ＬＤ＿ｓｅｔ）の補正を行い、検出ＰＤ値（ＰＤ＿ｖａｌｕｅ）を、温度の傾き補正を加えた目標ＰＤ値（ＰＤ＿ｔａｒｇｅｔ）に近似させて記録濃度を一定に保持するようにした。 （もっと読む）

【課題】支持体の表裏面に対し、簡単、ローコスト、かつ位置ズレなくパターンを露光する。
【解決手段】透明フイルム３の表裏面に設けられている第１感光層１９及び第２感光層２０に対し、第１感光層１９に対面するフォトマスク２９を介して光を照射する。第１感光層１９及び第２感光層２０の分光感度に対応する第１波長帯及び第２波長帯の光Ｌ１，Ｌ２は、フォトマスク２９に設けられた第１フィルタ層３５及び第２フィルタ層３６を透過し、各フィルタ層に設けられている第１パターン３９及び第２パターン４０が、第１感光層１９及び第２感光層２０に対して同時に露光される。 （もっと読む）

【課題】 感度の低い記録材料に対しても画像を適切に記録できるようにすることにより、感度の低い記録材料と感度の高い記録材料の両方に対して、画像の記録を適切に実行することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 ドットクロックより高い周波数の基準信号を発生する分周回路２２と、画像信号と前記基準信号の両方がオンとなったときにレーザーダイオード２７から出射されたレーザービームを記録材料に照射させるためのパルス露光制御回路３１と、画像信号がオンとなったときにレーザーダイオード２７から出射されたレーザービームを記録材料に照射する第１記録モードと、画像信号と基準信号の両方がオンとなったときにレーザーダイオード２７から出射されたレーザービームを記録材料に照射する第２記録モードとを切り換える切り換え手段２５とを備える。 （もっと読む）