【課題】波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。この補助パターン３０１は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン２０４を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置の振動によるマスクの損傷を防止する。
【解決手段】基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持する。所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０との間隔を広げて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。あるいは、所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０又はチャック１０に支持された基板１との間に緩衝部材を入れて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するとき、異物によるマスクの損傷を簡単な構成で防止し、マスクと基板との間隔を小さくして、マスクと基板とのギャップ合わせに要する時間を短縮する。
【解決手段】基板の受け渡し位置と露光位置との間に、基板上の異物、またはチャックと基板との間の異物により盛り上がった基板に接触する接触手段（３０）を配置し、接触手段を、その下を通過する基板との間隔が、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動するときのマスクと基板との間隔以下に成る高さに設置して、基板を搭載したチャックを受け渡し位置から露光位置へ移動しながら、接触手段の振動又は接触手段が発生する音を第１のセンサー（４０）で検出し、第１のセンサーの検出結果に基づいて、異物がマスクの下へ移動する前に、チャックの移動を停止する。 （もっと読む）

【課題】マスクを保持する吸着力が低下した場合でも、マスクの落下を防止することができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、パターンを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部１４と、を備える。マスク保持部１１は、マスクＭの外周縁部Ｍａと当接可能なマスク支承体４４と、マスク支承体４４がマスクＭの外周縁部Ｍａと接離するように、マスク支承体４４を駆動する駆動機構４５と、を備えて、マスクＭの落下を防止するマスク落下防止手段４３を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置の熱による誤作動を確実に防止するとともに温度低下後の復旧を容易に行う。
【解決手段】パターン描画装置の制御部では、各半導体集積回路装置６１においてＦＰＧＡ６１１のデバイス温度が継続的に測定されており、デバイス温度が停止温度よりも高くなった際に、ＣＰＵ６１３からＦＰＧＡ６１１に対して回路設定開始信号が送信されることにより、ＦＰＧＡ６１１から論理回路が消去されて待機状態とされ、その後、デバイス温度が復旧温度よりも低くなった際に、ＣＰＵ６１３によりＦＰＧＡ６１１に論理回路が再設定されることによりＦＰＧＡ６１１が復旧される。パターン描画装置１では、このような制御方法により半導体集積回路装置６１が制御されることにより、ＦＰＧＡ６１１からの熱による半導体集積回路装置６１の誤作動を確実に防止することができ、また、ＦＰＧＡ６１１の温度低下後の復旧を容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光センサーとマイクロミラーとの位置関係に多少のずれが生じたような場合或いは光軸が多少ずれた場合でも、検査可能とし、且つ検査時間を短縮する。
【解決手段】平行な光束を照射する光源と、互いに独立して揺動可能な多数のマイクロミラーを具備し、該マイクロミラーの各々により光源からの光を反射して偏向するＤＭＤと、該ＤＭＤで反射偏向された光を被露光対象に照射する光学手段と、からなる露光機において、ＤＭＤを構成する複数のマイクロミラーのそれぞれを異なる周波数（ｆ１〜ｆＮ）で駆動し、光学手段を通した光の変化を光センサーで捉え、光センサーの出力をそれぞれの周波数に対応するフィルター（Ｆ１〜ＦＮ）を通して得、それぞれのマイクロミラーを駆動した駆動源における周波数波形と、対応するフィルターの出力波形とを比較することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光センサーとマイクロミラーとの位置関係に多少のずれが生じたような場合或いは光軸が多少ずれた場合でも、検査可能とし、且つ検査時間を短縮する。
【解決手段】平行な光束を照射する光源（１）と、揺動可能な多数のマイクロミラー（３）を具備し、光源からの光を反射して偏向するＤＭＤ（２）と、ＤＭＤで反射偏向された光を被露光対象に照射する光学手段（４）と、からなる露光機において、１つの光センサー（５）に対して、複数のマイクロミラーが対応するように、光センサーの大きさ及び光学手段の倍率を調整し、多数のマイクロミラーを、個々の光センサーに対応する複数マイクロミラー毎にグループ化すること、１つ又は複数の光センサーを１つのクラスターとし、多数の光センサーを複数のクラスター（Ａ〜Ｄ）に区別けすること、同一のクラスター内で、センサーグループ毎に個々のマイクロミラーのＯＮ／ＯＦＦ検査をすること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コストアップを招くことなく、振動等の異常発生による画像品質の劣化を抑制することができる描画装置、露光装置、および描画方法を提供する。
【解決手段】感光材料１５０を支持した移動ステージ１５２と露光ヘッド１６６とを相対移動させて記録媒体を露光する露光装置において、移動ステージ１５２の位置ずれなど感光材料１５０に異常な露光が行われる異常状態を検出したときに、露光ヘッド１６６による露光を停止し、移動ステージ１５２と露光ヘッド１６６との相対位置を露光ヘッド１６６による露光を停止した停止位置より露光開始側の位置に戻した後、該停止位置を含む所定範囲内の位置から露光が再開されるように制御する。 （もっと読む）

【課題】 試料の描画中に発生する電子ビームの位置異常、電子ビーム照射量等の特性の異常の発生を即座に検出できる電子ビーム装置及びその電子ビーム装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】ブランキングデータに基づいて、電子ビームを偏向制御する偏向制御手段と、偏向制御手段により試料上に照射されるように偏向制御された電子ビームを通過させる開口部、および、前記偏向制御手段により前記試料上に照射されないように偏向制御された電子ビームを遮蔽する遮蔽部を有するアパーチャ手段と、電子ビームが遮蔽部に照射された際に前記アパーチャ手段から発生する光または反射電子及び２次電子のうち少なくとも１つを検出する検出手段と、検出手段の検出結果に基づいて、試料上での照射状態を求める手段と、を備える。
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【課題】レチクル１０を載置する２つのフォーク２を具備したレチクル１０を搬送するための搬送アーム１において、レチクル１０の静電破壊を簡便に検査するための搬送アーム１およびそれを具備した露光装置を提供する。
【解決手段】フォーク２の先端にフォーク２の前後および上下方向に可動に設けられた可動部材４と、可動部材４の先端にレチクル１０の表面に接触することが可能に設けられた導電性部材３と、フォーク２の内部あるいは外側を通して設けられた伸縮可能な一対の導電線とを有する通電確認手段を具備し、導電線の一端は、可動部材４の導電性部材３に導通し、導電線の他端は、通電検査手段に導通することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吸着力を低下させる異常がワークに存在するか否かをコストの大幅な上昇等を招くことなく検出することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】ワークステージ１２上に露光すべきワークＷを吸着して露光を行う露光装置は、ワーク吸引孔１６の吸引圧が−３０ｋＰａを超えるとＯＮ状態になり且つ−３０ｋＰａを下回るとＯＦＦ状態になる第１のバキュームセンサ２０と、ワーク吸引孔１６の吸引圧が０ｋＰａを超えるとＯＮ状態になり且つ０ｋＰａを下回るとＯＦＦ状態になる第２のバキュームセンサ２１と、バキュームセンサ２０，２１のＯＮ／ＯＦＦ状態に基づいて吸着力を低下させる異常がワークＷに存在するか否かを検出する異常検出手段２２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】検版を容易かつ確実に行えるようにした、不可視画像が形成された無処理の印刷版を効率よく作製する印刷版の作製方法およびそのための装置を提供する。
【解決手段】印刷版を露光し、不可視領域において分光吸収変化が生じた露光部分によって画像を形成するとともに、不可視領域の分光吸収変化を読み取り、読み取られた分光吸収変化によって形成される画像を可視像として再構成し、再構成された可視像を出力することにより、あるいは、露光が終了した領域に、後段の印刷工程で読み取りが必要な情報をインクジェットにより描画することにより、上記課題を解決し、湿式現像処理をすることなく印刷版を作製する。 （もっと読む）

【課題】マスクのセット間違えを防止することができるマスク照合方法及びマスク照合システムを提供すること。
【解決手段】製造使用マスクを指示するマスク情報管理データベース１と、識別コードを付与したマスクと、識別コードを読み取ることを特徴とする読み取り装置５と、読み取られた識別コード情報と、指示されたマスクを照合することを特徴とする照合処理装置２から構成されており、マスクの照合を自動的に行うことができるため、マスクのセットミスによる不良品の製造を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 クランプ部材でクランプされているワークに対して、そのクランプ領域を除いてアライメント処理等を実行できる画像形成方法及び画像形成装置の提供を課題とする。
【解決手段】 クランプ部材でクランプされたワーク１００が載置されたステージ２０を露光部２８に対して相対的に搬送しつつ、ワーク１００上の露光基準マーク位置を計測し、その計測した位置情報に基づいて画像情報を補正し、その補正した画像情報を基に露光部２８により走査露光して、ワーク１００の被露光面１０１に画像を形成する画像形成方法及び装置であって、クランプ部材によるクランプ位置の誤差領域を含む露光領域を露光可能領域と設定し、その露光可能領域外をクランプ部材にクランプさせるとともに、露光部２８のオートフォーカス用の検出手段９８に、その露光可能領域をセンシングさせる。 （もっと読む）

【課題】 ステージに対してクランプ部材が着脱可能に取り付けられる場合に、クランプ部材の検出方法と、検出結果に基づき、クランプ領域を除いてアライメント処理等を実行できる画像形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】 ワーク１００が載置されたステージ２０を露光部２８に対して相対的に搬送しつつ、ワーク１００上の露光基準マーク位置を計測し、画像情報を補正し、露光部２８により走査露光して、被露光面１０１に画像を形成する方法及び装置であって、ステージ２０上のワーク１００の高さ方向の変位を露光部２８のオートフォーカス用の検出手段９８で検出し、ワーク１００の既知の厚さとの差から、ワーク１００がクランプ部材４０でクランプされているか、否かを判断し、無と判断された場合には、被露光面１０１全体を露光可能領域と設定し、有と判断された場合には、クランプ領域Ｐを検出し、その検出結果に基づいて、露光可能領域を設定する。 （もっと読む）

【課題】 画素光ビーム欠陥検出装置において、画素光ビームの欠陥をより正確に検出することができるようにする。
【解決手段】 露光装置１０の空間光変調器３６から、選択部２１０により、順次、多数の微小光変調素子Ｍの中の一部の微小光変調素子Ｍを選択し、変調状態制御部２２０により選択した微小光変調素子群Ｍｇのみを全てオン状態にさせ、オン状態にさせた微小光変調素子群Ｍｇを通った画素光ビームの全光量を光量検出部２３０によって検出し、比較部により、その光量を予め取得した基準光量と比較し、判定部により、上記光量が基準光量未満であるときに、微小光変調素子群Ｍｇを通った画素光ビームＬ中に欠陥が存在すると判定する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において、感光材料上に結像させる露光パターンの品質の低下を抑制する。
【解決手段】 光源から発せられた紫外または紫色の波長を持つ光Ｌｅを反射させる変調素子８２を２次元状に多数配列してなる変調素子アレイ部８１、上記光Ｌｅを透過させる透過材からなる光透過窓部８７、および上記変調素子アレイ部８１を光透過窓部８７との間に密封するための密封カバー部８８を有する空間光変調器８０であって、上記光透過窓部８７が、この光透過窓部８７の表面Ｇ０中の露光光路外領域Ｇ２のみへの光の照射を受けて上記密封空間Ｍ中に存在する浮遊粒子Ｒが露光光路外領域Ｇ２に堆積せしめられた空間光変調器８０を用いて、光透過窓部８７を通って入射した上記光源６６から発せられた光Ｌｅを上記変調素子８２で反射させ空間光変調させて光透過窓部８７から射出させ、この射出させた光Ｌｅを感光材料上に結像させてこの感光材料を露光する。 （もっと読む）

【課題】電源に異常が発生した場合に、装置内部の構成部品が暴走することを未然に防止することができる電源制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の電源制御装置は、少なくとも１つの構成部品と、各々の構成部品の動作を制御する少なくとも１つの制御基板とを備える装置で用いられるもので、電源部と、電源部から出力される電源を、各々の構成部品および各々の制御基板に独立に供給する電源基板とを備える。電源基板は、電源基板から各々の制御基板に電源が供給されると、各々の制御基板から電源基板にフィードバックされる、各々の制御基板で使用される電源の正常状態／異常状態を表す信号に基づいて、電源基板から構成部品の各々に供給される電源の出力／出力停止を各々独立に制御する出力制御回路を備える。 （もっと読む）

【課題】汚染物質によるレンズ・アレイの損傷をなくすか実質的に低減するリソグラフィ装置および方法を提供する。
【解決手段】投影システム１０８は、アレイ内の各レンズが、基板１１４上にパターン化したビームの各部分の焦点を結ぶように、基板１１４からある間隔のところに位置するレンズのアレイを備える。変位システムは、レンズ・アレイと基板との間で相対的変位を行う。粒子検出装置は、レンズ・アレイと基板との間の相対的変位により、レンズ・アレイに近づく基板上の粒子を検出するために位置する。自由作動間隔制御システムは、相対的変位により検出した粒子がレンズ・アレイを通過する場合に、レンズ・アレイを基板から遠ざけるように、検出装置の粒子の検出に応じてレンズ・アレイと基板との間の間隔を広くするように配置されている。それ故、例えば、基板表面上に位置する粒子による掻き傷によるレンズ・アレイへの損傷を避けることができる。 （もっと読む）