【課題】 多重描画形式の描画装置および描画方法において、描画ヘッドの取付角度誤差やパターン歪みの影響による解像性や濃度のむらを軽減する。
【解決手段】 ２次元状に配された多数の使用可能画素を有する画素アレイを備えた描画ヘッド３０であって、上記使用可能画素の画素列方向と描画ヘッド３０の走査方向とが所定の設定傾斜角度をなす描画ヘッド３０に関し、使用画素指定部１４０や設定変更手段１５０等から構成される使用画素設定手段により上記多数の使用可能画素のうちのＮ重描画に使用する使用画素が実動するように設定する。その後、露光ヘッド３０をステージ１４に対して相対移動させながら、上記設定により指定された使用画素を実動させて描画面上に描画を行なう。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】パターンをターゲットの表面に転写するマスクレスリソグラフィシステムであって、複数の小ビームを発生するための少なくとも１つのビーム発生装置と、小ビームの大きさを変調するための複数のモジュレータを備えた変調手段と、モジュレータの各々を制御する制御ユニットとを備え、制御ユニットは、それぞれの小ビームの大きさを制御するために、パターンデータを発生し、前記モジュレータにパターンデータを伝送し、この制御ユニットがパターンデータを記憶するための少なくとも１つのデータ記憶装置と、データ記憶装置からパターンデータを読み取るための少なくとも１つの読み取りユニットと、データ記憶装置から読み取られたパターンデータを少なくとも１つの被変調光ビームに変換するための少なくとも１つのデータ変換装置と、少なくとも１つの被変調光ビームを前記変調手段に伝送するための少なくとも１つの光伝送装置とを備えている。
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【課題】 ディスクの全面にトラック幅の第１のエレメントとともに半ピッチずれている第２のエレメントを含む微細パターンを高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】 レジストが塗布されたディスク11上に電子ビームEBを走査することにより転写パターンのトラック幅に配置される第１のエレメント13とトラック幅の半分に配置される第２のエレメント14とを描画するについて、電子ビーム描画装置40は、照射する電子ビームEBを半径方向に偏向する偏向手段21と、描画部分以外は電子ビームの照射を遮断するブランキング手段26とを備え、ディスクを一方向に回転させつつ、電子ビームを偏向手段により１トラック分ずつ半径方向に偏向させて、１回転で１トラック分の第１および第２のエレメント13，14の描画をブランキング手段を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスクを用いることなく、複数のビームを同時に照射することにより、特に、中心線に対する凹凸（エッジラフネス）の低減が図れ、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れたカラーフィルタの製造方法などの提供。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層に対し、不活性ガス雰囲気下で、複数のビームを同時に照射して該感光層を露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光層を現像する現像工程と、を含むカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

レジストが積層された基板を横切って光ビームのスポット格子アレイを走査することにより像が形成される高解像度かつ高データレートのスポット格子アレイ印刷システムが提供される。狭いメインローブを与えるように光ビームをアポダイジングすることにより高解像度が達成される。サイドローブがレジストのスレッシュホールドより高いエネルギーを含まないように確保し、無記憶レジストを使用し、更に、スポット格子アレイパターン及びレジストの記憶なし特性に使用される傾斜及びインターリーブ型走査パターンを使用することにより、基板に対するサイドローブの望ましからぬ記録が防止される。
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【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能であり、しかもテント性と解像度とを高度に両立したパターン形成方法の提供。
【解決手段】 少なくとも感光層を有するパターン形成材料における該感光層を被処理基体上に積層した後、露光が、該感光層の任意の２以上の領域に対して、それぞれ異なるエネルギー量の光を照射することにより行われ
前記露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明は、標的の表面上へとパターンを転写するための荷電粒子ビーム露光装置に関し、この露光装置は、実質的に１つの面内に位置し、それぞれが荷電粒子ビームを生成するように適合されたｎ個の複数の荷電粒子供給源（１）を具備するビーム生成器と、それぞれが１つの供給源と整列された複数の開口群を具備し、各ビームをｍ個の複数のビームレットへと分割して、結果、計ｎ×ｍ個のビームレットとする第１開口列（４）と、それぞれが１つの供給源および１つの開口群と整列された複数の偏向器群を具備する偏向器列（６）と、を具備する。偏向器群内の各偏向器は対応する群の１つの開口と整列され、各偏向器群は対応するビームに対して平行化作用を及ぼすように動作可能である。 （もっと読む）

本発明は、強度の時間的変動を有する少なくとも一つの光源（ＬＳ）から、少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）に、実質的に等しい量のエネルギーの伝送を可能にする方法であって、前記伝送が、少なくとも一つの照明の構成（１）を手段として制御され、かつ前記方法が、前記強度の変動と前記照明の構成の少なくとも一つの特徴の間の相関の設定を含む方法に関する。本発明はまた、少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）へのエネルギーの伝送を制御するための照明の構成（１）であって、前記伝送の制御は、前記少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）の各々への、実質的に等しい量のエネルギーの伝送を可能にする、照明の構成に関する。
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本発明は、光マスクレスリソグラフィ（ＯＭＬ）に関する。特に、マスク及び位相シフトマスク法との認識できる関係をＯＭＬに付与することに関する。
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本発明の一観点によれば、加工部材にパターンを露光するために、少なくとも第１の方向に所定の間隔を有する複数の露光ビームを用いることによって、電磁放射感応層により少なくとも部分的に被覆された加工部材にパターン付与する方法であって、前記所定の間隔が前記第１の方向における初期システム・ピッチに固定されており、前記方法が、第１の方向におけるパターン・ピッチを、システム・ピッチの整数倍となるようにスケーリングする動作と、パターンの寸法を維持するために、第１の方向における初期システム・ピッチを調整されたシステム・ピッチとなるように調整する動作と、露光ビームの所定の間隔を調整されたシステム・ピッチに調整する動作とを含む方法を含んでいる。本発明の他の観点は、詳細な説明、図面、及び特許請求の範囲に反映されている。
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放射源と、位相シフト・プレート及びステップ高さの差の少なくとも一方を使用して位相差を誘発するように適合された少なくとも１つの反射傾斜面とを含む、加工物にパターン形成するための装置。加工物にパターン形成するための装置に対応する方法。加工物にパターン形成するための装置、及びその中に含まれる場合がある空間光変調器を製造する方法。
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発明は感光材料を露光する装置に関する。この装置は原画像を記憶する電子画像メモリ２と、光源２２を備えた露光ユニット８と、原画像２の部分画像２４を表示する電子制御光変調器および感光材料１０上に前記部分画像２４を投影する投影レンズ２３と、モータ９およびモータ制御装置１２を備え、感光材料１０の面に平行に露光ユニット８を移動可能にする駆動装置と、原画像のフィルム帯２５，２６を光変調器２１に連続して伝送するスクロール手段７と、駆動装置９，１２をスクロール手段に同期させるための制御装置１とで構成される。印刷板１０全体を露光する処理時間を短縮するために、発明の装置は帯状の領域を記憶する高速の中間メモリ１６を備え、この中間メモリ１６から、露出される各部分画像２４の画像データが露出ユニット８の移動に同期して光変調器２１に伝送される。 （もっと読む）

基板をプリントするためのシステム及び技術。ある実装で、方法は、部位が繰り返し現れるアレイに不規則性を導入することによる部位の実質的に任意の配置での基板のパターニングを含む。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ照明方法、及びその方法を実行するのに適した投影照明系であって、約１９３ｎｍ以下の短い作動波長で良好な結像性能も可能にする投影照明系を提供する。
【解決手段】投影対物レンズの像面の領域内に配置された基板を照明するための照明方法とともに、その方法を実行するための投影照明系において、出力偏光状態を有して基板に向けられた出力放射光を発生する。少なくとも１つの偏光操作装置の補助による出力偏光状態の可変調節により、出力偏光状態を公称出力偏光状態に近づくように形成することができる。偏光操作は、偏光−光学測定データに基づいて制御ループ内で実行されることができる。 （もっと読む）

写真感光性を与えられた面にわたってレーザビームを走査することを含む、感光性を与えられた面上のストライプパターンのレーザ直接描画システム及びレーザ直接描画方法。ストライプパターンは、パルスレーザを使用し、且つ、ストライプの領域を追加して露光するようにパルスの送出を同期させることによって露光される。或いは、レーザは、回転されるパネルにわたって走査され、平行移動速度、走査速度、及び回転角度が、各ストライプを連続して露光し、且つ、ストライプ間の領域の露光を回避するように調整される。
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光学像は複数の副照射により放射線感応層（５）において形成され、それらの副照射において、光バルブ（２１乃至２５）のアレイ及び収束要素（４３）の対応するアレイ（４０）は副画像パターンに従ってレジスト層（５）においてスポットのパターンを形成するために用いられる。副照射の間で、レジスト層（５）はアレイ（２１乃至２５、４０）に対して移動される。レンズアレイ（４０）は走査領域に対して傾斜されることが可能であり、それ故、各々のレジスト層は複数のスポットにより走査される。更に、走査方向に対して垂直な方向において一部のスポットの重なり合いが又、生じる。このスポットの冗長性を、装置特徴のエッジの位置を変える、即ち、それを“微調整する”ように、冗長スポットの１つ又はそれ以上の強度を選択的に減少させる又はそれらをオフに切り換えることにより利用することができる。

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本発明は、複数小ビームリソグラフィシステムにおける小ビームの大きさを変調するための変調器に関する。この変調器は、小ビームの方向に影響を与えるための少なくとも１つの手段と、変調された光ビームからの光を受けこの光を信号へと変換するための受光素子と、この受光素子から受けた信号を、所定の離散値の組から選択された離散値を有する離散的な信号へと変換し、この離散的な信号を影響を与えるための手段に提供するために、受光素子と少なくとも１つの影響を与えるための手段とに結合している離散化手段とを有している。
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