パターン形成方法

【課題】パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能であり、しかもテント性と解像度とを高度に両立したパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも感光層を有するパターン形成材料における該感光層を被処理基体上に積層した後、露光が、該感光層の任意の２以上の領域に対して、それぞれ異なるエネルギー量の光を照射することにより行われ
前記露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われることを特徴とするパターン形成方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも感光層を有するパターン形成材料における該感光層を被処理基体上に積層した後、露光が、該感光層の任意の２以上の領域に対して、それぞれ異なるエネルギー量の光を照射することにより行われることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われることを少なくとも含む請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含む請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
マイクロレンズが、描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有する請求項３に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
非球面が、トーリック面である請求項２から４のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項６】
マイクロレンズが、円形のレンズ開口形状を有する請求項３から５のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項７】
レンズ開口形状が、そのレンズ面に遮光部を設けることにより規定される請求項３から６のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項８】
被処理基体がホール部を有し、該ホール部上のホール部上感光層に対して照射される光のエネルギー量と、該ホール部上感光層以外の感光層に対して照射される光のエネルギー量とが異なる請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項９】
ホール部上感光層に対して照射される光のエネルギー量をＡ、該ホール部上感光層以外の感光層に対して照射される光のエネルギー量をＢとしたとき、Ａ＞Ｂである請求項８に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
光変調手段が、ｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の前記描素部をパターン情報に応じて制御可能である請求項１から９のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
光変調手段が、空間光変調素子である請求項１から１０のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
永久パターンが、配線パターンであり、該永久パターンの形成がエッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかにより行われる請求項１３に記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である請求項１から１４のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
感光層が、ドライフィルムレジストの転写により形成される請求項１から１５のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
感光層が、液体状レジストの塗布により形成される請求項１から１６のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１８】
感光層が、バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤とを含む請求項１から１７のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１９】
パターン形成材料が、支持体上に少なくとも感光層を有する請求項１から１８のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項２０】
パターン形成材料が、支持体と感光層との間に、クッション層を有する請求項１から１９のいずれかに記載のパターン形成方法。

【図１】