【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】基準チップ特定に用いる目印を半導体ウエハに形成する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、フォトレジスト膜の形成された半導体ウエハに、露光用マスクを介して第１、第２、第３露光を行う工程を有し、第１露光の第１ショット領域に対し、第２露光の第２ショット領域は第１方向に隣接し、第２ショット領域に対し第３露光の第３ショット領域は第１方向に隣接し、ショット領域は第１方向に交差し対向する第１、第２の辺と、第１方向に平行な第３、第４の辺を有する外周スクライブ領域を有し、第１の辺上に第１パターンが、第２の辺上で第１パターンと対向する位置に第１パターンを内包する透光領域の第２パターンが配置され、第１、第２露光は第１、第２パターンが重ならないように、第２、第３の露光は第１、第２パターンが重なるように行われる。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】基板に対する微細パターンを容易に形成可能とする露光方法。
【解決手段】照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、マスクＭ１に対して基板Ｐを基板Ｐの面内方向である走査方向に移動させること、走査方向への移動中に基板Ｐを露光することを含む。移動中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、第１および第２領域が形成されたマスクを静止した状態で行うことを含む。第１領域と第２領域とは、走査方向に隣接して配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５は、例えばカメラ６が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射する。アライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。露光用のマイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間にも存在し、これにより、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。そして、カメラ６により検出されたマスクアライメントマーク２ａの反射光及び基板アライメントマーク１ａにより、制御装置９は基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【課題】計測期間における計測部の温度安定化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】光源６３から射出される光で前記基板の上のマークＷＭを照明し、前記マークで反射した光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出部１１とを含み、前記マークの位置を計測する計測部と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部９０と、を有し、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量は、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低く、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を前記非計測期間で、前記計測期間における透過率よりも高くすることにより、前記非計測期間と前記計測期間の前記所定面における光量の差を低減する。 （もっと読む）

【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。
【解決手段】 マスクステージＭＳＴでは、マスクＭを保持するステージ本体６０がＹ軸（クロススキャン）方向に移動する際には、一対のＸビーム７０及び一対のＸテーブル９０と一体的にＹ軸方向に移動する。これに対し、ステージ本体６０がＸ軸（スキャン）方向に移動する際は、一対のＸテーブル９０がステージ本体６０と共に静止したＸビーム７０上をＸ軸方向に移動する。従って、マスクＭをスキャン方向に移動させるためのリニアモータの推力が小さくて良く、駆動反力の影響も低減できる。また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 （もっと読む）

【課題】投影光学系が大型である場合でも、結像性能の変化を抑制した露光装置を提供することができる。
【解決手段】投影光学系５を収容する鏡筒１１の内部に対して給気を実施する給気手段１２と、該給気手段１２を制御することで鏡筒１１の内部温度を調整する温度制御手段１３とを備える露光装置１であって、温度制御手段１３は、露光処理に伴う内部温度の上昇に合わせて、給気温度を上昇させるように給気手段１２を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数のカッティングパターンをウエハ上に形成する。
【解決手段】複数のカッティングパターンＣＰ_１〜ＣＰ_５が形成されたカッティングレチクルＣＲと開口パターンＭＰ_１，ＭＰ_２が形成されたマスキングレチクルＭＲとを用いて、カッティングパターンＣＰ_１〜ＣＰ_５と開口パターンＭＰ_１，ＭＰ_２とを組み合わせることによりカッティングパターンＣＰ_１〜ＣＰ_５を複数回に分けてウエハＷに形成する。これにより、カッティングパターンＣＰ_１〜ＣＰ_５がそれぞれ形成された複数のレチクルを用意することなく、それらが統合されたカッティングレチクルＣＲとマスキングレチクルＭＲのみを用いてマスクパターンの形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ処理に有用な光ビーム出力強度の平準化を提供する。
【解決手段】光ビームのエネルギをパルス間で平準化するシステムは、３次の非線形特性を有する光学デバイスを含む一群の光学デバイスを備える。一群の光学デバイスを通過する未平準化光ビームの透過特性は、光学デバイスからの出力光ビームの出力強度が平準化されるように変化する。一実施例の構成は、ビームスプリッタ、非線形干渉フィルタ、ミラー、及びビームコンバイナを含む。非線形干渉フィルタで反射された光ビームの第１の部分が光ビームに結合され、結合光ビームは平準化された出力強度を有する。他の実施例は、ビームステアリングシステムを構成する第１のプリズム及び第２のプリズムを少なくとも備える。リソグラフィシステム、及び、光ビームのエネルギをパルス間で平準化する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】計測用光学系の偏光特性の影響を軽減させて、被検光学系のジョーンズ行列で表される偏光特性を計測する。
【解決手段】投影光学系及び対物光学系よりなる光学系を介して偏光状態の異なる複数の光のストークスパラメータを計測してその光学系の第１のジョーンズ行列を求めるステップ１０６〜１１１と、対物光学系の瞳面を移動するステップ１１２と、その光学系の第２のジョーンズ行列を求めるステップ１１３と、その第１及び第２のジョーンズ行列のリー環表現上での差分情報を用いて投影光学系ＰＬ及び対物光学系１６Ｓの個別のジョーンズ行列を求めるステップ１１５、１１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】それまで使用されていた光学素子と構成が異なる光学素子を使用する場合に、光量分布に関して必要に応じて互換性を維持する。
【解決手段】照明方法において、第１の照明瞳面における光量分布を設定する回折光学素子を経由した光で第１被照射面を照明することと、その第１の照明瞳面の光量分布を計測し、この計測結果を第１光量分布として記憶することと、第２の照明瞳面２２Ｐにおける光量分布をその第１光量分布とほぼ同じ分布に設定可能な空間光変調器１３を経由した光で第２被照射面を照明することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減する露光装置を実現する。
【解決手段】 液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、基板１を移動するステージを有し、ステージは、基板１を保持する保持部２と、保持部２の外周に配置され、基板１と伴に液体を支持する補助部３と、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間を通った液体を回収口４を介して回収する回収部５とを有し、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間は、回収口４に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で物体を浮上支持すること又は物体を吸着保持することが可能な物体支持装置を提供する。
【解決手段】基板トレイ９０の支持部材９１は、断面略Ｕ字状の本体部８０と、該本体部８０の一対の対向面間に架設されたエアパッド８２とを有する。エアパッド８２は、支持部材９１の長手方向に所定間隔で複数設けられ、隣接する一対のエアパッド８２間には、補剛部材９３が挿入され、その補剛部材９３が本体部８０の一対の対向面間に架設される。 （もっと読む）

【課題】良好なアラインメント性能を有するアラインメントを生成する。
【解決手段】アライメントマークを生成する方法は、自己整合ダブルパターニングプロセスを使用する。アライメントマークパターンには、第１及び第２のサブセグメント化要素が提供される。ダイポール照明の配向を選択した後、ダイポールＸを使用してパターンが照明され、ウェーハ上に第１の要素を結像するが、第２の要素は結像しない。あるいは、ダイポールＹを使用してパターンが照明され、ウェーハ上に第２の要素を結像するが、第１の要素は結像しない。いずれの場合も、その後、自己整合ダブルパターニングプロセスを実行して、高いコントラスト及びウェーハ品質（ＷＱ）を有する製品様アライメントマークを生成することができる。その後、生成されたＸ及びＹのアライメントマークが、リソグラフィプロセスのアライメントステップに使用される。 （もっと読む）