ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法
【課題】交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、そのステージ装置を備えた露光装置、及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
加工対象物を保持して高精度な位置決めを行う必要があるステージ装置では、振動を抑制する必要がある。特に、ステージ装置の本体が、上記加工対象物を保持する移動体とステージ定盤によって構成され、上記移動体を駆動させて加工処理を行う場合、この駆動で付与される推力によって反力が生じる。この反力が、上記本体に伝達されると、本体を振動させることになるため、この反力をキャンセルさせる機構が必要になる。このようなステージ装置を備えたものとしては、たとえば、移動体上に保持された基板にマスクのパターンを投影する露光装置がある。以下、露光装置を例に説明する。
【０００３】
上記露光装置としては、たとえば、ステップアンドリピート式の露光装置とステップアンドスキャン式の露光装置がある。前者は、移動体が所定の距離の移動と停止を繰り返し、停止中に露光光を一括照射して、マスクに描画されたパターンを基板上に転写するものである。また、後者は、スリット状の露光領域でのみ露光光を照射しながら、マスクステージと基板ステージからなる移動体を同期走査させて、マスクに描画されたパターンを基板上に転写するものである。
【０００４】
いずれの露光装置においても、移動体の駆動手段として、たとえば、電磁式リニア駆動手段を採用する場合に、可動子に付与した推力に対応する反力が固定子に伝達される。固定子をステージ装置が設置されている同一の設置面に設置すると、この設置面を介してステージ装置に上記反力が伝達され、最終的にステージ装置の本体を振動させるように作用する。本体が、このような振動作用を受けると、光軸のズレなどにより、結像特性の劣化につながるという不都合があった。
【０００５】
上記反力は、たとえば、ステップアンドスキャン式の露光装置の場合、マスクステージと基板ステージの同期走査により、同時に発生する。そこで、従来、上記各反力を移動体と離間した位置に設置された剛性部材に、伝達手段を介して伝達させるステージ装置が提案されていた（例えば特許文献１参照）。この各々の伝達手段によって、上記剛性部材に伝達された反力は、相互に相殺され、上記本体の振動は、抑制されていた。すなわち、上記反力をキャンセルする反力の受け構造を設けて、上記振動の抑制を補償していた。また、たとえば、可変の移動質量体を設けて移動体の駆動と逆方向の駆動をさせることで上記反力をキャンセルするカウンターマスによる補償も行われていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２１６０８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上記従来技術は、走査方向の駆動によって生じる反力を相殺するものとして提案されていた。しかしながら、上記ステージ装置は、走査方向（スキャン方向）のほか、走査方向に直交する非走査方向（ステップ方向）にも駆動させるため、この場合にも反力が生じていた。ステップ方向の駆動によって生じる反力に起因して上記本体が振動した場合、整定時間の確保のための時間を要し、結果としてスループットを悪化させるという不都合があった。すなわち、ステップアンドリピート式の露光装置の場合、移動体が所望の位置に位置決めされるまで、露光操作を開始できなかった。また、ステップアンドスキャン式の露光装置の場合、マスクステージと基板ステージの同期整定を十分に確保しなければ、次の走査処理を行うことはできなかった。
【０００８】
なお、上記ステップ方向の駆動によって生じる反力をキャンセルするために、上記スキャン方向の場合同様、反力の受け構造やカウンターマスなど別構造体を設けることにより、上記振動を抑制することは可能である。しかしながら、スキャン方向とステップ方向の双方に設けると、ステージ装置全体の構造を複雑化するという不都合があった。また、近年、装置の大型化、高加速度化に伴い、上記反力が大きくなっているため、大規模なアクチュエータが必要になり、高コスト化を招くという問題もあった。
【０００９】
そこで、本発明は、交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体を含む本体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するため、本発明は、交差する第１の軸方向と第２の軸方向に移動可能な移動体とこの移動体を載置するステージ定盤とから構成される本体と、前記移動体を前記第１の軸方向に駆動する第１駆動手段と第２の軸方向に駆動する第２駆動手段とから構成される駆動手段とを有するステージ装置であって、
前記本体と本体の設置面との間に介在させる防振手段と、前記第２駆動手段が設置された補助ステージとを備え、前記補助ステージは、前記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で、前記第１駆動手段によって、前記移動体の第１の軸方向への移動に同期して追従移動し、
前記本体と補助ステージとは、前記駆動手段によって移動するときに、前記駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、駆動手段によって交差する２軸方向に移動体を駆動するときに生じる反力により、前記本体が振動することを抑制するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るステージ装置の斜視図を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係るステージ装置の走査方向から見た側面図を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係るステージ装置の非走査方向から見た側面図を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面等を参照して説明する。なお、以下の説明では、具体的な構成、動作等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
【００１４】
また、以下の実施形態では、本発明にかかるステージ装置をステップアンドスキャン式の露光装置に設けた例で説明するが、これに限定する趣旨ではない。従って、ステップアンドリピート式の露光装置に設けたステージ装置でもよく、また、交差する２軸方向に駆動させるものであればよく、基板ステージに限定する趣旨ではない。
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係るステージ装置を備えたステップアンドスキャン方式の露光装置の構成を示す概略図である。
【００１６】
図１にかかる露光装置は、主に、本体ベース６０上に照明光学系４０、マスクステージ３０、投影光学系１０、基板Ｗを保持するステージ装置２０、干渉計５０を配置して構成される。この露光装置は、投影光学系１０を挟んで、マスクステージ３０上で保持されたマスクＭのパターンをステージ装置２０上で保持されている基板Ｗに縮小投影する。この縮小投影は、マスクＭに向けて照射する照明光学系４０の光源の光を利用し、マスクＭから発せられる回析光によって行われる。なお、照明光学系４０とマスクＭとの間には、観察光学系４１が配置される。観察光学系４１は、マスクＭと投影光学系１０によって基板Ｗ上に結像される像を観察することができる。
【００１７】
マスクステージ３０は、マスクステージ定盤３１と移動ステージ３２とを有し、マスクステージ定盤３１の上に移動ステージ３２が配置され、その上にマスクＭが保持されている。移動ステージ３２により、マスクＭは、露光装置の設置面に対して水平方向に直交する２軸の方向（以下「Ｘ、Ｙ方向」という）に移動可能である。また、Ｘ、Ｙ方向の２軸で形成されるＸＹ面内で回転する回転方向にも移動可能である。
【００１８】
上記縮小投影により、マスクＭから基板Ｗへのパターンの転写は、マスクＭと基板Ｗの縮小倍率比と同じ速度比で同期走査することにより行われる。このマスクＭの転写対象パターンが転写される基板Ｗ上の個々の領域をショットという。なお、基板Ｗ上には、各ショットとのアライメントに使用されるアライメントマークが形成されている（図示せず）。このアライメントマークは、上記観察光学系４１で観察可能である。
【００１９】
ステージ装置２０は、電磁式リニア駆動手段（リニアモータ）を利用し、Ｘ、Ｙ方向、回転方向及びＸＹ面に直交する軸に平行なＺ方向に移動可能であり、図示しないチャックを介して基板Ｗを保持して移動する移動体を備える。
【００２０】
なお、干渉計５０は、マスクステージ３０とステージ装置２０のそれぞれの位置を計測する。この干渉計５０は、検出光の光源となるレーザヘッド５１、ビームスプリッター５２、折り曲げミラー５３、検出光を反射するバーミラー５４及び５５から構成される。
【００２１】
次に、図２乃至図４を使用して、本発明にかかるステージ装置２０を説明する。上記した通り、本実施の形態では、ステップアンドスキャン方式の露光装置に搭載されたステージ装置を例に説明するが、これに限定する趣旨ではない。従って、図２乃至図４では、Ｘ、Ｙ方向の２軸で説明しているが、交差する第１の軸方向と第２の軸方向であればよく、上記Ｘ、Ｙ方向に限定するものではない。なお、図２乃至図４のＸ方向をステップ方向（非走査方向）とし、Ｙ方向をスキャン方向（走査方向）とする。図２は、ステージ装置２０の斜視図であり、図３は、ステージ装置２０をＹ方向から見た側面図であり、図４は、ステージ装置２０をＸ方向から見た側面図である。さらに、図２乃至図４では、Ｘ、Ｙ方向の動作を説明する便宜上、ステージ装置２０の回転方向、Ｚ方向の動作に関する機構を省略している。
【００２２】
ステージ装置２０は、基板Ｗを基板ホルダー２０１で保持する。基板ホルダー２０１は、上記Ｘ方向及びＹ方向に移動可能な移動体の上に設置され、この移動体は、基板ステージ定盤２０３に載置されている。この移動体は、Ｙ方向に移動するＹ移動体２０２とＸ方向に移動するＸ移動体２０９を含む。ステージ装置２０の本体は、上記移動体と基板ステージ定盤２０３によって構成される。
【００２３】
Ｙ移動体２０２は、エアベアリング２０４を介して基板ステージ定盤２０３上に設けられたＹガイド２０５に案内されて、Ｙ方向に移動する。本実施の形態では、Ｙガイド２０５を２本設けているがこれに限定する趣旨ではない。なお、基板ステージ定盤２０３には、Ｙ移動体２０２のヨーイングを規制するため、Ｙガイド２０５と並行してヨーガイド２０６が設けられている。なお、ヨーガイド２０６も、Ｙガイド２０５同様、エアベアリング２０７を介して、Ｙ移動体２０２を案内する。ヨーガイド２０６は、基板ステージ定盤２０３上で、２本のＹガイド２０５の略中間に設置されている。基板ステージ定盤２０３は、設置面６０（上記露光装置では、本体ベース６０）上に、防振手段２０８を介在させて設置される。防振手段２０８は、たとえば、バネ要素とダンピング要素を有し、設置面からの振動の伝達を遮断するマウントであればよい。また、マウントは、パッシブ型のほか、アクティブ制御されているものでもよく、基板ステージ定盤２０３への支持点数も特に限定はない。
【００２４】
Ｘ移動体２０９は、Ｙ移動体２０２の上に設けられ、エアベアリング２１１を介して、Ｙ移動体２０２上に設けられたＸガイド２１０に案内されて、Ｘ方向に移動する。
【００２５】
Ｙ移動体２０２とＸ移動体２０９を上記各軸方向に駆動する駆動手段は、本実施の形態では、可動子と固定子からなる電磁式リニア駆動手段（リニアモータ）を利用したもので説明する。この場合、好適には、可動子として永久磁石が用いられ、固定子としてコイルが用いられる。また、本実施の形態では、各軸方向には、それぞれ上記本体を挟んで１対の電磁式リニア駆動手段を設けているが、設置個数は、これに限定されるものではない。また、駆動手段は、電磁式リニア駆動手段に限定するものではなく、たとえば、ボールネジ方式など、他の駆動手段であってもよい。
【００２６】
Ｙ移動体２０２をＹ方向に駆動する駆動手段２１２（第１駆動手段）は、板状に形成された可動子２１２ａと可動子２１２ａの可動範囲を凹状の溝で形成した固定子２１２ｂから構成される。本実施の形態では、この可動子２１２ａと固定子２１２ｂからなる駆動手段２１２は、Ｙ移動体２０２と本体ベース６０に、２つ設置されている。可動子２１２ａは、Ｙ方向から見てＹ移動体２０２の底面両端部から、設置面６０に向かってそれぞれ延設されている。固定子２１２ｂは、Ｙガイド２０５と短手方向に並列するように、基板ステージ定盤２０３を挟んで、本体から離間した位置で設置面６０に設置される。可動子２１２ａは、固定子２１２ｂの上記凹状の溝に、わずかな隙間を介して接触しないように設置される。
【００２７】
Ｘ移動体２０９をＸ方向に駆動する駆動手段２１３（第２駆動手段）も、駆動手段２１２同様、可動子２１３ａと固定子２１３ｂから構成される。本実施の形態では、この可動子２１３ａと固定子２１３ｂからなる駆動手段２１３は、Ｘ移動体２０９と補助ステージ２１４に、２つ設置されている。可動子２１３ａは、Ｘ方向から見てＸ移動体２０９の底面両端部から、基板ステージ定盤２０３方向に向かってそれぞれ延設されている。固定子２１３ｂは、Ｘガイド２１０と短手方向に並列するように、上記移動体とは非接触に設置される。可動子２１３ａは、固定子２１３ｂの凹状の溝に、わずかな隙間を介して接触しないように設置される。
【００２８】
上記の通り、固定子２１３ｂを上記移動体から非接触に設置するために、固定子２１３ｂは、上記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で移動体のＹ方向への移動に同期して追従移動する補助ステージ２１４に設置される。本実施の形態では、補助ステージ２１４は、上記移動体を非接触に挟んで対向配置された１対の板状体２１４ａと２１４ｂとを備える。この１対の板状体２１４ａと２１４ｂは、各対向面の両端部に設置された連結部材２１４ｃと２１４ｄによって連結されている。固定子２１３ｂは、本実施の形態にかかる補助ステージ２１４では、板状体２１４ａと２１４ｂにそれぞれ設置されている。補助ステージ２１４を上記移動体のＹ方向への移動に同期して追従移動させるために、駆動手段２１８（第３駆動手段）を設けている。駆動手段２１８も、第１駆動手段、第２駆動手段同様、可動子２１８ａと固定子２１８ｂから構成されている。可動子２１８ａは、Ｙ方向から見て板状体２１４ａ及び板状体２１４ｂの両端部にそれぞれ設置されている。固定子２１８ｂは、第１駆動手段の各固定子２１２ｂに並列して、上記本体と離間した位置に設置される。なお、補助ステージ２１４は、本体のＹ方向への移動に同期して追従移動すればよい。従って、部品点数を減らすためには、この第３駆動手段を設けずに、補助ステージ２１４も、第１駆動手段で駆動するように構成すればよい。
【００２９】
上記追従移動の案内は、案内手段２１６によって行われる。案内手段２１６は、固定子２１８ｂと並行配置され、設置面６０に設置された複数本の支持手段２１７によって支持されている。案内手段２１６には、リニアガイドナット２１５を介して板状体２１４ａ及び２１４ｂが載置されている。なお、本実施の形態では、支持手段２１７は、固定子２１２ｂと固定子２１８ｂとの間に設置されているが、これらの位置関係に限定されない。また、支持手段２１７、固定子２１２ｂ、固定子２１８ｂは、いずれも、同一平面上の設置面６０に設置されているが、上記本体と直接接触していなければよく、同一平面上に設置することに限定するものではない。従って、たとえば、固定子２１８ｂを側壁面に設置してもよい。さらに、本実施の形態では、支持手段２１７は、直接設置面６０に設置されているが、基板ステージ定盤２０３と設置面６０との間に介在させた防振手段２０８とは別の防振手段を介在させて設置してもよい。
【００３０】
なお、可動子２１３ａと固定子２１３ｂとの間のクリアランスは、本体と補助ステージ２１４との位置関係で決定される。本体と補助ステージ２１４との間の距離が変動した場合、可動子２１３ａと固定子２１３ｂが接触する可能性もある。そこで、上記距離を測定する測定手段を設け、測定された距離を所定の距離に維持するために、補助ステージ２１４の位置を制御するフィードバック制御手段を設ければよい（図示せず）。上記測定手段としては、たとえば、干渉計を使用すればよい。
【００３１】
次に、図２及び図３を参照して、駆動手段２１２及び駆動手段２１３によってステージ装置２０を駆動した場合の作用について説明する。まず、Ｙ方向、すなわち、スキャン方向（走査方向）に駆動した場合、駆動手段２１２の固定子２１２ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、可動子２１２ａに含まれている磁石にローレンツ力が作用し、可動子２１２ａに推力が発生する。この推力は、Ｙ移動体２０２を所定の方向に駆動するが、同時に、固定子２１２ｂに反力が生じる。固定子２１２ｂは、設置面６０に設置されているため、この反力は設置面６０に伝達される。設置面６０は、この反力に起因して振動する。しかし、Ｙ移動体２０２を載置する基板ステージ定盤２０３は、設置面６０との間に防振手段２０８を介在させているため、上記振動に対して絶縁配置されている。従って、上記振動によるエネルギーは減衰され、上記振動の影響は、Ｙ移動体２０２及びステージ定盤２０３にはほとんど及ばない。
【００３２】
なお、補助ステージ２１４を上記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動させる場合、駆動手段２１８の固定子２１８ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、上記同様、可動子２１８ａに推力が発生し、補助ステージ２１４を追従移動させることができる。このとき固定子２１８ｂに生じる反力も、設置面６０に伝達され、設置面６０を振動させるが、上記同様、防振手段２０８により、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３及び補助ステージ２１４は、この振動に対して絶縁配置されている。従って、この振動は、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３及び補助ステージ２１４へはほとんど及ばない。
【００３３】
次に、ステージ装置２０をＸ方向、すなわち、ステップ方向（非走査方向）に駆動した場合、まず、駆動手段２１３の固定子２１３ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、可動子２１３ａに含まれている磁石にローレンツ力が作用し、可動子２１３ａに推力が発生する。図３を参照して、矢印のＴは、推力が働く方向を示す。この推力Ｔには、Ｘ移動体２０９を所定の方向に駆動するが、同時に、固定子２１３ｂに反力が生じる。図３の矢印のＲは、反力Ｒが働く方向を示す。反力Ｒは、図３で示す通り、補助ステージ２１４の板状体２１４ａ、案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に伝達される。設置面６０は、この反力に起因して振動するが、上記Ｙ方向の場合同様、この振動によるエネルギーは、防振手段２０８によってほとんど減衰される。従って、ステップ方向の駆動の場合も、Ｘ移動体２０９、ステージ定盤２０３は、絶縁配置されており、この振動は、Ｘ移動体２０９、ステージ定盤２０３へはほとんど及ばない。
以上より、上記振動は、Ｘ移動体２０９、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３のステージ装置２０本体及び補助ステージ２１４には、ほとんど及ばない。
【００３４】
なお、上記の通り、支持手段２１７にも、設置面６０との間に、別の防振手段を設けることにより、上記反力Ｒが設置面６０に伝達される前にエネルギーが減衰されるので、防振手段２０８と相俟ってさらに良好な効果が得られる。
【００３５】
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【符号の説明】
【００３６】
２０： ステージ装置
６０： 設置面
２０１： 基板ホルダー
２０２： Ｙ移動体
２０３： 基板ステージ定盤
２０４： エアベアリング
２０５： Ｙガイド
２０６： ヨーガイド
２０７： エアベアリング
２０８： 防振手段
２０９： Ｘ移動体
２１０： Ｘガイド
２１１： エアベアリング
２１２： 駆動手段（第１駆動手段）
２１３： 駆動手段（第２駆動手段）
２１４： 補助ステージ
２１５： リニアガイドナット
２１６： 案内手段
２１７： 支持手段
２１８： 駆動手段（第３駆動手段）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、そのステージ装置を備えた露光装置、及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
加工対象物を保持して高精度な位置決めを行う必要があるステージ装置では、振動を抑制する必要がある。特に、ステージ装置の本体が、上記加工対象物を保持する移動体とステージ定盤によって構成され、上記移動体を駆動させて加工処理を行う場合、この駆動で付与される推力によって反力が生じる。この反力が、上記本体に伝達されると、本体を振動させることになるため、この反力をキャンセルさせる機構が必要になる。このようなステージ装置を備えたものとしては、たとえば、移動体上に保持された基板にマスクのパターンを投影する露光装置がある。以下、露光装置を例に説明する。
【０００３】
上記露光装置としては、たとえば、ステップアンドリピート式の露光装置とステップアンドスキャン式の露光装置がある。前者は、移動体が所定の距離の移動と停止を繰り返し、停止中に露光光を一括照射して、マスクに描画されたパターンを基板上に転写するものである。また、後者は、スリット状の露光領域でのみ露光光を照射しながら、マスクステージと基板ステージからなる移動体を同期走査させて、マスクに描画されたパターンを基板上に転写するものである。
【０００４】
いずれの露光装置においても、移動体の駆動手段として、たとえば、電磁式リニア駆動手段を採用する場合に、可動子に付与した推力に対応する反力が固定子に伝達される。固定子をステージ装置が設置されている同一の設置面に設置すると、この設置面を介してステージ装置に上記反力が伝達され、最終的にステージ装置の本体を振動させるように作用する。本体が、このような振動作用を受けると、光軸のズレなどにより、結像特性の劣化につながるという不都合があった。
【０００５】
上記反力は、たとえば、ステップアンドスキャン式の露光装置の場合、マスクステージと基板ステージの同期走査により、同時に発生する。そこで、従来、上記各反力を移動体と離間した位置に設置された剛性部材に、伝達手段を介して伝達させるステージ装置が提案されていた（例えば特許文献１参照）。この各々の伝達手段によって、上記剛性部材に伝達された反力は、相互に相殺され、上記本体の振動は、抑制されていた。すなわち、上記反力をキャンセルする反力の受け構造を設けて、上記振動の抑制を補償していた。また、たとえば、可変の移動質量体を設けて移動体の駆動と逆方向の駆動をさせることで上記反力をキャンセルするカウンターマスによる補償も行われていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２１６０８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上記従来技術は、走査方向の駆動によって生じる反力を相殺するものとして提案されていた。しかしながら、上記ステージ装置は、走査方向（スキャン方向）のほか、走査方向に直交する非走査方向（ステップ方向）にも駆動させるため、この場合にも反力が生じていた。ステップ方向の駆動によって生じる反力に起因して上記本体が振動した場合、整定時間の確保のための時間を要し、結果としてスループットを悪化させるという不都合があった。すなわち、ステップアンドリピート式の露光装置の場合、移動体が所望の位置に位置決めされるまで、露光操作を開始できなかった。また、ステップアンドスキャン式の露光装置の場合、マスクステージと基板ステージの同期整定を十分に確保しなければ、次の走査処理を行うことはできなかった。
【０００８】
なお、上記ステップ方向の駆動によって生じる反力をキャンセルするために、上記スキャン方向の場合同様、反力の受け構造やカウンターマスなど別構造体を設けることにより、上記振動を抑制することは可能である。しかしながら、スキャン方向とステップ方向の双方に設けると、ステージ装置全体の構造を複雑化するという不都合があった。また、近年、装置の大型化、高加速度化に伴い、上記反力が大きくなっているため、大規模なアクチュエータが必要になり、高コスト化を招くという問題もあった。
【０００９】
そこで、本発明は、交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体を含む本体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するため、本発明は、交差する第１の軸方向と第２の軸方向に移動可能な移動体とこの移動体を載置するステージ定盤とから構成される本体と、前記移動体を前記第１の軸方向に駆動する第１駆動手段と第２の軸方向に駆動する第２駆動手段とから構成される駆動手段とを有するステージ装置であって、
前記本体と本体の設置面との間に介在させる防振手段と、前記第２駆動手段が設置された補助ステージとを備え、前記補助ステージは、前記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で、前記第１駆動手段によって、前記移動体の第１の軸方向への移動に同期して追従移動し、
前記本体と補助ステージとは、前記駆動手段によって移動するときに、前記駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、駆動手段によって交差する２軸方向に移動体を駆動するときに生じる反力により、前記本体が振動することを抑制するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るステージ装置の斜視図を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係るステージ装置の走査方向から見た側面図を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係るステージ装置の非走査方向から見た側面図を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面等を参照して説明する。なお、以下の説明では、具体的な構成、動作等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
【００１４】
また、以下の実施形態では、本発明にかかるステージ装置をステップアンドスキャン式の露光装置に設けた例で説明するが、これに限定する趣旨ではない。従って、ステップアンドリピート式の露光装置に設けたステージ装置でもよく、また、交差する２軸方向に駆動させるものであればよく、基板ステージに限定する趣旨ではない。
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係るステージ装置を備えたステップアンドスキャン方式の露光装置の構成を示す概略図である。
【００１６】
図１にかかる露光装置は、主に、本体ベース６０上に照明光学系４０、マスクステージ３０、投影光学系１０、基板Ｗを保持するステージ装置２０、干渉計５０を配置して構成される。この露光装置は、投影光学系１０を挟んで、マスクステージ３０上で保持されたマスクＭのパターンをステージ装置２０上で保持されている基板Ｗに縮小投影する。この縮小投影は、マスクＭに向けて照射する照明光学系４０の光源の光を利用し、マスクＭから発せられる回析光によって行われる。なお、照明光学系４０とマスクＭとの間には、観察光学系４１が配置される。観察光学系４１は、マスクＭと投影光学系１０によって基板Ｗ上に結像される像を観察することができる。
【００１７】
マスクステージ３０は、マスクステージ定盤３１と移動ステージ３２とを有し、マスクステージ定盤３１の上に移動ステージ３２が配置され、その上にマスクＭが保持されている。移動ステージ３２により、マスクＭは、露光装置の設置面に対して水平方向に直交する２軸の方向（以下「Ｘ、Ｙ方向」という）に移動可能である。また、Ｘ、Ｙ方向の２軸で形成されるＸＹ面内で回転する回転方向にも移動可能である。
【００１８】
上記縮小投影により、マスクＭから基板Ｗへのパターンの転写は、マスクＭと基板Ｗの縮小倍率比と同じ速度比で同期走査することにより行われる。このマスクＭの転写対象パターンが転写される基板Ｗ上の個々の領域をショットという。なお、基板Ｗ上には、各ショットとのアライメントに使用されるアライメントマークが形成されている（図示せず）。このアライメントマークは、上記観察光学系４１で観察可能である。
【００１９】
ステージ装置２０は、電磁式リニア駆動手段（リニアモータ）を利用し、Ｘ、Ｙ方向、回転方向及びＸＹ面に直交する軸に平行なＺ方向に移動可能であり、図示しないチャックを介して基板Ｗを保持して移動する移動体を備える。
【００２０】
なお、干渉計５０は、マスクステージ３０とステージ装置２０のそれぞれの位置を計測する。この干渉計５０は、検出光の光源となるレーザヘッド５１、ビームスプリッター５２、折り曲げミラー５３、検出光を反射するバーミラー５４及び５５から構成される。
【００２１】
次に、図２乃至図４を使用して、本発明にかかるステージ装置２０を説明する。上記した通り、本実施の形態では、ステップアンドスキャン方式の露光装置に搭載されたステージ装置を例に説明するが、これに限定する趣旨ではない。従って、図２乃至図４では、Ｘ、Ｙ方向の２軸で説明しているが、交差する第１の軸方向と第２の軸方向であればよく、上記Ｘ、Ｙ方向に限定するものではない。なお、図２乃至図４のＸ方向をステップ方向（非走査方向）とし、Ｙ方向をスキャン方向（走査方向）とする。図２は、ステージ装置２０の斜視図であり、図３は、ステージ装置２０をＹ方向から見た側面図であり、図４は、ステージ装置２０をＸ方向から見た側面図である。さらに、図２乃至図４では、Ｘ、Ｙ方向の動作を説明する便宜上、ステージ装置２０の回転方向、Ｚ方向の動作に関する機構を省略している。
【００２２】
ステージ装置２０は、基板Ｗを基板ホルダー２０１で保持する。基板ホルダー２０１は、上記Ｘ方向及びＹ方向に移動可能な移動体の上に設置され、この移動体は、基板ステージ定盤２０３に載置されている。この移動体は、Ｙ方向に移動するＹ移動体２０２とＸ方向に移動するＸ移動体２０９を含む。ステージ装置２０の本体は、上記移動体と基板ステージ定盤２０３によって構成される。
【００２３】
Ｙ移動体２０２は、エアベアリング２０４を介して基板ステージ定盤２０３上に設けられたＹガイド２０５に案内されて、Ｙ方向に移動する。本実施の形態では、Ｙガイド２０５を２本設けているがこれに限定する趣旨ではない。なお、基板ステージ定盤２０３には、Ｙ移動体２０２のヨーイングを規制するため、Ｙガイド２０５と並行してヨーガイド２０６が設けられている。なお、ヨーガイド２０６も、Ｙガイド２０５同様、エアベアリング２０７を介して、Ｙ移動体２０２を案内する。ヨーガイド２０６は、基板ステージ定盤２０３上で、２本のＹガイド２０５の略中間に設置されている。基板ステージ定盤２０３は、設置面６０（上記露光装置では、本体ベース６０）上に、防振手段２０８を介在させて設置される。防振手段２０８は、たとえば、バネ要素とダンピング要素を有し、設置面からの振動の伝達を遮断するマウントであればよい。また、マウントは、パッシブ型のほか、アクティブ制御されているものでもよく、基板ステージ定盤２０３への支持点数も特に限定はない。
【００２４】
Ｘ移動体２０９は、Ｙ移動体２０２の上に設けられ、エアベアリング２１１を介して、Ｙ移動体２０２上に設けられたＸガイド２１０に案内されて、Ｘ方向に移動する。
【００２５】
Ｙ移動体２０２とＸ移動体２０９を上記各軸方向に駆動する駆動手段は、本実施の形態では、可動子と固定子からなる電磁式リニア駆動手段（リニアモータ）を利用したもので説明する。この場合、好適には、可動子として永久磁石が用いられ、固定子としてコイルが用いられる。また、本実施の形態では、各軸方向には、それぞれ上記本体を挟んで１対の電磁式リニア駆動手段を設けているが、設置個数は、これに限定されるものではない。また、駆動手段は、電磁式リニア駆動手段に限定するものではなく、たとえば、ボールネジ方式など、他の駆動手段であってもよい。
【００２６】
Ｙ移動体２０２をＹ方向に駆動する駆動手段２１２（第１駆動手段）は、板状に形成された可動子２１２ａと可動子２１２ａの可動範囲を凹状の溝で形成した固定子２１２ｂから構成される。本実施の形態では、この可動子２１２ａと固定子２１２ｂからなる駆動手段２１２は、Ｙ移動体２０２と本体ベース６０に、２つ設置されている。可動子２１２ａは、Ｙ方向から見てＹ移動体２０２の底面両端部から、設置面６０に向かってそれぞれ延設されている。固定子２１２ｂは、Ｙガイド２０５と短手方向に並列するように、基板ステージ定盤２０３を挟んで、本体から離間した位置で設置面６０に設置される。可動子２１２ａは、固定子２１２ｂの上記凹状の溝に、わずかな隙間を介して接触しないように設置される。
【００２７】
Ｘ移動体２０９をＸ方向に駆動する駆動手段２１３（第２駆動手段）も、駆動手段２１２同様、可動子２１３ａと固定子２１３ｂから構成される。本実施の形態では、この可動子２１３ａと固定子２１３ｂからなる駆動手段２１３は、Ｘ移動体２０９と補助ステージ２１４に、２つ設置されている。可動子２１３ａは、Ｘ方向から見てＸ移動体２０９の底面両端部から、基板ステージ定盤２０３方向に向かってそれぞれ延設されている。固定子２１３ｂは、Ｘガイド２１０と短手方向に並列するように、上記移動体とは非接触に設置される。可動子２１３ａは、固定子２１３ｂの凹状の溝に、わずかな隙間を介して接触しないように設置される。
【００２８】
上記の通り、固定子２１３ｂを上記移動体から非接触に設置するために、固定子２１３ｂは、上記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で移動体のＹ方向への移動に同期して追従移動する補助ステージ２１４に設置される。本実施の形態では、補助ステージ２１４は、上記移動体を非接触に挟んで対向配置された１対の板状体２１４ａと２１４ｂとを備える。この１対の板状体２１４ａと２１４ｂは、各対向面の両端部に設置された連結部材２１４ｃと２１４ｄによって連結されている。固定子２１３ｂは、本実施の形態にかかる補助ステージ２１４では、板状体２１４ａと２１４ｂにそれぞれ設置されている。補助ステージ２１４を上記移動体のＹ方向への移動に同期して追従移動させるために、駆動手段２１８（第３駆動手段）を設けている。駆動手段２１８も、第１駆動手段、第２駆動手段同様、可動子２１８ａと固定子２１８ｂから構成されている。可動子２１８ａは、Ｙ方向から見て板状体２１４ａ及び板状体２１４ｂの両端部にそれぞれ設置されている。固定子２１８ｂは、第１駆動手段の各固定子２１２ｂに並列して、上記本体と離間した位置に設置される。なお、補助ステージ２１４は、本体のＹ方向への移動に同期して追従移動すればよい。従って、部品点数を減らすためには、この第３駆動手段を設けずに、補助ステージ２１４も、第１駆動手段で駆動するように構成すればよい。
【００２９】
上記追従移動の案内は、案内手段２１６によって行われる。案内手段２１６は、固定子２１８ｂと並行配置され、設置面６０に設置された複数本の支持手段２１７によって支持されている。案内手段２１６には、リニアガイドナット２１５を介して板状体２１４ａ及び２１４ｂが載置されている。なお、本実施の形態では、支持手段２１７は、固定子２１２ｂと固定子２１８ｂとの間に設置されているが、これらの位置関係に限定されない。また、支持手段２１７、固定子２１２ｂ、固定子２１８ｂは、いずれも、同一平面上の設置面６０に設置されているが、上記本体と直接接触していなければよく、同一平面上に設置することに限定するものではない。従って、たとえば、固定子２１８ｂを側壁面に設置してもよい。さらに、本実施の形態では、支持手段２１７は、直接設置面６０に設置されているが、基板ステージ定盤２０３と設置面６０との間に介在させた防振手段２０８とは別の防振手段を介在させて設置してもよい。
【００３０】
なお、可動子２１３ａと固定子２１３ｂとの間のクリアランスは、本体と補助ステージ２１４との位置関係で決定される。本体と補助ステージ２１４との間の距離が変動した場合、可動子２１３ａと固定子２１３ｂが接触する可能性もある。そこで、上記距離を測定する測定手段を設け、測定された距離を所定の距離に維持するために、補助ステージ２１４の位置を制御するフィードバック制御手段を設ければよい（図示せず）。上記測定手段としては、たとえば、干渉計を使用すればよい。
【００３１】
次に、図２及び図３を参照して、駆動手段２１２及び駆動手段２１３によってステージ装置２０を駆動した場合の作用について説明する。まず、Ｙ方向、すなわち、スキャン方向（走査方向）に駆動した場合、駆動手段２１２の固定子２１２ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、可動子２１２ａに含まれている磁石にローレンツ力が作用し、可動子２１２ａに推力が発生する。この推力は、Ｙ移動体２０２を所定の方向に駆動するが、同時に、固定子２１２ｂに反力が生じる。固定子２１２ｂは、設置面６０に設置されているため、この反力は設置面６０に伝達される。設置面６０は、この反力に起因して振動する。しかし、Ｙ移動体２０２を載置する基板ステージ定盤２０３は、設置面６０との間に防振手段２０８を介在させているため、上記振動に対して絶縁配置されている。従って、上記振動によるエネルギーは減衰され、上記振動の影響は、Ｙ移動体２０２及びステージ定盤２０３にはほとんど及ばない。
【００３２】
なお、補助ステージ２１４を上記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動させる場合、駆動手段２１８の固定子２１８ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、上記同様、可動子２１８ａに推力が発生し、補助ステージ２１４を追従移動させることができる。このとき固定子２１８ｂに生じる反力も、設置面６０に伝達され、設置面６０を振動させるが、上記同様、防振手段２０８により、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３及び補助ステージ２１４は、この振動に対して絶縁配置されている。従って、この振動は、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３及び補助ステージ２１４へはほとんど及ばない。
【００３３】
次に、ステージ装置２０をＸ方向、すなわち、ステップ方向（非走査方向）に駆動した場合、まず、駆動手段２１３の固定子２１３ｂに所定の位相で電流を流す。この電流により、可動子２１３ａに含まれている磁石にローレンツ力が作用し、可動子２１３ａに推力が発生する。図３を参照して、矢印のＴは、推力が働く方向を示す。この推力Ｔには、Ｘ移動体２０９を所定の方向に駆動するが、同時に、固定子２１３ｂに反力が生じる。図３の矢印のＲは、反力Ｒが働く方向を示す。反力Ｒは、図３で示す通り、補助ステージ２１４の板状体２１４ａ、案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に伝達される。設置面６０は、この反力に起因して振動するが、上記Ｙ方向の場合同様、この振動によるエネルギーは、防振手段２０８によってほとんど減衰される。従って、ステップ方向の駆動の場合も、Ｘ移動体２０９、ステージ定盤２０３は、絶縁配置されており、この振動は、Ｘ移動体２０９、ステージ定盤２０３へはほとんど及ばない。
以上より、上記振動は、Ｘ移動体２０９、Ｙ移動体２０２、ステージ定盤２０３のステージ装置２０本体及び補助ステージ２１４には、ほとんど及ばない。
【００３４】
なお、上記の通り、支持手段２１７にも、設置面６０との間に、別の防振手段を設けることにより、上記反力Ｒが設置面６０に伝達される前にエネルギーが減衰されるので、防振手段２０８と相俟ってさらに良好な効果が得られる。
【００３５】
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【符号の説明】
【００３６】
２０： ステージ装置
６０： 設置面
２０１： 基板ホルダー
２０２： Ｙ移動体
２０３： 基板ステージ定盤
２０４： エアベアリング
２０５： Ｙガイド
２０６： ヨーガイド
２０７： エアベアリング
２０８： 防振手段
２０９： Ｘ移動体
２１０： Ｘガイド
２１１： エアベアリング
２１２： 駆動手段（第１駆動手段）
２１３： 駆動手段（第２駆動手段）
２１４： 補助ステージ
２１５： リニアガイドナット
２１６： 案内手段
２１７： 支持手段
２１８： 駆動手段（第３駆動手段）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交差する第１の軸方向と第２の軸方向に移動可能な移動体とこの移動体を載置するステージ定盤とから構成される本体と、前記移動体を前記第１の軸方向に駆動する第１駆動手段と第２の軸方向に駆動する第２駆動手段とから構成される駆動手段とを有するステージ装置であって、
前記本体と本体の設置面との間に介在させる防振手段と、前記第２駆動手段が設置された補助ステージとを備え、前記補助ステージは、前記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で、前記第１駆動手段によって、前記移動体の第１の軸方向への移動に同期して追従移動し、
前記本体と補助ステージとは、前記駆動手段によって移動するときに、前記駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記補助ステージは、前記第１の軸方向への移動を案内する案内手段と、この案内手段を支持する支持手段とを備え、この支持手段は、前記設置面に、前記防振手段とは別の防振手段を介在させて設置されていることを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、前記第１駆動手段に代えて前記補助ステージを追従移動させる第３駆動手段を有し、前記本体及び前記補助ステージとは、前記第３駆動手段によって前記補助ステージが移動するときに、第３駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記駆動手段は、前記移動体又は補助ステージを駆動する前記第１の軸方向又は第２の軸方向に並行して、前記本体を挟んで１対の電磁式リニア駆動手段によって構成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記補助ステージは、前記移動体を非接触に挟んで対向配置された１対の板状体と、この１対の板状体の対向面の両端部を連結する連結部材とから構成され、前記１対の板状体に、前記第２の軸方向に前記移動体を駆動する１対の前記電磁式リニア駆動手段をそれぞれ設置したものであることを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
【請求項６】
前記本体と前記補助ステージとの間の距離を測定する測定手段と、この測定手段によって測定された距離から、本体と補助ステージとの間の距離を所定の距離に維持するために、補助ステージの位置を制御するフィードバック制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
マスクのパターンを前記移動体の上に保持された基板に投影する露光装置であって、
前記第１の軸方向を走査方向とし、前記第２の軸方向を非走査方向とする請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のステージ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１】
交差する第１の軸方向と第２の軸方向に移動可能な移動体とこの移動体を載置するステージ定盤とから構成される本体と、前記移動体を前記第１の軸方向に駆動する第１駆動手段と第２の軸方向に駆動する第２駆動手段とから構成される駆動手段とを有するステージ装置であって、
前記本体と本体の設置面との間に介在させる防振手段と、前記第２駆動手段が設置された補助ステージとを備え、前記補助ステージは、前記移動体に対して所定の間隔を維持した状態で、前記第１駆動手段によって、前記移動体の第１の軸方向への移動に同期して追従移動し、
前記本体と補助ステージとは、前記駆動手段によって移動するときに、前記駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記補助ステージは、前記第１の軸方向への移動を案内する案内手段と、この案内手段を支持する支持手段とを備え、この支持手段は、前記設置面に、前記防振手段とは別の防振手段を介在させて設置されていることを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、前記第１駆動手段に代えて前記補助ステージを追従移動させる第３駆動手段を有し、前記本体及び前記補助ステージとは、前記第３駆動手段によって前記補助ステージが移動するときに、第３駆動手段によって生じる反力に起因する振動に対して絶縁配置されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記駆動手段は、前記移動体又は補助ステージを駆動する前記第１の軸方向又は第２の軸方向に並行して、前記本体を挟んで１対の電磁式リニア駆動手段によって構成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記補助ステージは、前記移動体を非接触に挟んで対向配置された１対の板状体と、この１対の板状体の対向面の両端部を連結する連結部材とから構成され、前記１対の板状体に、前記第２の軸方向に前記移動体を駆動する１対の前記電磁式リニア駆動手段をそれぞれ設置したものであることを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
【請求項６】
前記本体と前記補助ステージとの間の距離を測定する測定手段と、この測定手段によって測定された距離から、本体と補助ステージとの間の距離を所定の距離に維持するために、補助ステージの位置を制御するフィードバック制御手段とを備えたことを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
マスクのパターンを前記移動体の上に保持された基板に投影する露光装置であって、
前記第１の軸方向を走査方向とし、前記第２の軸方向を非走査方向とする請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のステージ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２４９５５５（Ｐ２０１１−２４９５５５Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２１１４７（Ｐ２０１０−１２１１４７）
【出願日】平成２２年５月２７日（２０１０．５．２７）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２７日（２０１０．５．２７）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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