【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材２０の位置を調整する被露光部材位置調整装置１００と、被露光部材２０に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク３０の位置を調整するマスク位置調整装置２００とを備える露光装置１０であって、直交する２軸の一方の軸をＸ軸とし、他方の軸をＹ軸としたとき、被露光部材位置調整装置１００は、被露光部材２０をＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面上におけるＸ軸に沿った方向及びＹ軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置２００は、マスク３０をＸＹ平面に直交するＺ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】光学系中の光学部材の位置関係を容易に効率的に調整できるようにする。
【解決手段】光学部材の位置調整装置であって、レンズ３６Ａを支持する第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して第１方向Ｒ１に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して連結された第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して第２方向Ｒ２に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して連結された第３支持部５４Ａ３と、第３支持部５４Ａ３に対して第１支持部５４Ａ１及び第２支持部５４Ａ２をそれぞれ第１方向Ｒ１及び第２方向Ｒ２の回りに回転させる第１及び第２駆動機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基準チップ特定に用いる目印を半導体ウエハに形成する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、フォトレジスト膜の形成された半導体ウエハに、露光用マスクを介して第１、第２、第３露光を行う工程を有し、第１露光の第１ショット領域に対し、第２露光の第２ショット領域は第１方向に隣接し、第２ショット領域に対し第３露光の第３ショット領域は第１方向に隣接し、ショット領域は第１方向に交差し対向する第１、第２の辺と、第１方向に平行な第３、第４の辺を有する外周スクライブ領域を有し、第１の辺上に第１パターンが、第２の辺上で第１パターンと対向する位置に第１パターンを内包する透光領域の第２パターンが配置され、第１、第２露光は第１、第２パターンが重ならないように、第２、第３の露光は第１、第２パターンが重なるように行われる。 （もっと読む）

【課題】部品点数及び制御軸数を削減し、装置の小型化を図る。
【解決手段】基板７を複数の露光領域に分割し、基板７に投影する露光パターンが描かれた投影マスクを基板７の分割された露光領域にそれぞれ対応するよう複数の転写領域に分割し、分割された基板７の露光領域ごとに露光を行う分割露光装置において、投影マスクの上方位置に近接して配置され、投影マスクの面と平行にＸ方向に往復移動可能な遮光体２５と、遮光体２５の上方位置に近接して配置され、前記投影マスクの面に平行に前記Ｘ方向と直交するＹ方向に往復移動可能であって、基板７及び投影マスクの位置決めマークを撮像するＣＣＤカメラ１３−１〜４を覆うためのカバー５７と、を備え、遮光体２５及びカバー５７をそれぞれ所定の露光領域以外の光を遮蔽する位置に位置決めし、前記所定の露光領域を露光する。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５から出射されたアライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。アライメント時には、マイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間に移動され、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。カメラ６は、基板アライメントマーク１ａをマスクアライメントマーク２ａと共に複数回撮像し、撮像された像が重ね合わせられ、第２の制御装置９は、検出されたアライメントマークにより、基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】基板に対する微細パターンを容易に形成可能とする露光方法。
【解決手段】照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、マスクＭ１に対して基板Ｐを基板Ｐの面内方向である走査方向に移動させること、走査方向への移動中に基板Ｐを露光することを含む。移動中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、第１および第２領域が形成されたマスクを静止した状態で行うことを含む。第１領域と第２領域とは、走査方向に隣接して配置されている。 （もっと読む）

【課題】マスクの大きさが基板上の露光対象領域に比して小さい露光装置において、基板の全面を均一に露光でき、隣接する露光領域間における継ぎムラの発生を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】光源４から出射された露光光をマスク２に導く光学系として、光源４からの出射光を平行光にするコンデンサレンズ６とこれを透過した露光光をマスク面にて入射光と同倍率で結像させるオフナー光学系８とが設けられている。コンデンサレンズ６からの結像面には可変ブラインド７が配置され、結像面において露光光内に介在するシャッタ７２，７３を有し、シャッタ７２，７３によりマスク面露光領域におけるスキャン方向に直交する方向の少なくとも一方の端縁をスキャン方向に傾斜するように整形する。そして、２回のスキャン露光にて、マスク面露光領域における傾斜した端縁が重なるように、露光光の整形を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数枚のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光において、露光ムラを防止できるマイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ１は、ガラス板１１の上面及び下面に、夫々単位マイクロレンズアレイが積層され、上板１０及び下板１３により各単位マイクロレンズアレイが保持されている。各単位マイクロレンズアレイと、ガラス板１１には、位置合わせ用のマークが形成されていて、単位マイクロレンズアレイとガラス板１１とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されている。 （もっと読む）

【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ３０の上面上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ３０から搬出する基板Ｐの搬出方法は、前記基板ホルダ３０に予め保持された基板トレイ６０に前記基板Ｐを下方から支持させることと、前記基板トレイ６０に前記基板Ｐを吸着保持させることと、前記基板ホルダ３０から前記基板Ｐに対して気体を噴出することと、前記基板Ｐが前記基板トレイ６０に吸着保持され、且つ前記基板Ｐに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ６０を前記基板ホルダ３０の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Ｐを前記基板ホルダ３０から搬出することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 良好な結像性能と小型化を両立する投影光学系を提供する。
【解決手段】 投影光学系は、物体面に配置された物体の中間像を形成する第１の反射光学系と前記中間像を像面に投影する第２の反射光学系とを含む。前記第１の反射光学系は、前記物体面から出射され前記物体面に直交する第１方向に沿って入射した光を反射する第１の平面鏡と、前記第１の平面鏡からの光を反射する第１の光学系と、前記第１の光学系からの光を反射して前記中間像の形成位置に向け前記第１方向に沿って出射する第２の平面鏡とを有する。前記第２の平面鏡における光の反射位置と前記中間像の形成位置との間の前記第１方向における距離は前記第１の平面鏡における光の反射位置と前記物体面との間の前記第１方向における距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】 グレイトーンマスクを用いたＴＦＴ基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する２次元センサと、２次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５は、例えばカメラ６が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射する。アライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。露光用のマイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間にも存在し、これにより、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。そして、カメラ６により検出されたマスクアライメントマーク２ａの反射光及び基板アライメントマーク１ａにより、制御装置９は基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを使用した露光装置において、重ね合わせ露光時に複数のレイヤーで熱処理が行われてガラス基板が変形して従前のパターンに歪みが発生しても、高精度で重ね露光することができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】露光パターン５０ｆの領域を上層レイヤーが露光する際、基板１の熱歪みに合わせて、マスク３を露光光の光軸の周りに回転させ、マイクロレンズアレイ２をスキャン方向５に垂直の面内で傾動させる。これにより、スキャン方向及びスキャン方向に垂直の方向に関して、上層レイヤーのパターンの倍率を調節して、高精度で重ね露光することができる。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたパターンＰｍを基板Ｓに転写する露光装置ＥＸであって、マスクＭを照明する照明装置ＩＵと、基板Ｓに対してパターンＰｍの拡大像を投影する投影装置ＰＵと、マスクＭを保持する第一円筒面３１を有し、第一円筒面３１の周方向に回転するマスク保持部４０と、基板を搬送する第二円筒面３２を有し、マスク保持部４０と同一の回転軸Ｃを中心として第二円筒面３２の周方向に回転する基板搬送部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【課題】セルレイアウトが異なる基板を露光する際にも、高効率且つ低コストでパネルを露光できる露光装置及びこの露光装置に使用される遮光板を提供する。
【解決手段】露光用マスク２０は、表示パネルに対応するパターン領域２０ａが複数個配列されている。マイクロレンズアレイ２２は、スキャン方向に垂直の方向に２個のマイクロレンズアレイチップ２２ａが、その一部がこのスキャン方向に垂直の方向に相互に重なるように設けられている。遮光板３０は、マイクロレンズアレイチップ２２ａの一部を遮光するものであり、遮光板３０の開口部は、一方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが２個のパターン領域２０ａのみを露光し、他方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが他の３個のパターン領域２０ａのみを露光するように、マイクロレンズアレイチップの光透過を規制する。 （もっと読む）