【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】製品の精度向上と製作時間の短縮が可能な、位相シフトマスクを用いた非対称パターンの形成技術、さらには回折格子、半導体装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相シフトマスク３０（遮光部と透過部（位相シフトがない第１の透過部、位相シフトがある第２の透過部）が周期的に配置）を用いた回折格子の製造方法において、照明光源１０から放出された光を、位相シフトマスク３０を透過させ、この位相シフトマスク３０を透過させることにより生じる０次光と＋１次光とをＳｉウエハ５０の表面で干渉させて、このＳｉウエハ５０の表面のフォトレジスト６０を露光し、Ｓｉウエハ５０上にブレーズド状の断面形状を有する回折格子を形成する。 （もっと読む）

【課題】基準チップ特定に用いる目印を半導体ウエハに形成する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、フォトレジスト膜の形成された半導体ウエハに、露光用マスクを介して第１、第２、第３露光を行う工程を有し、第１露光の第１ショット領域に対し、第２露光の第２ショット領域は第１方向に隣接し、第２ショット領域に対し第３露光の第３ショット領域は第１方向に隣接し、ショット領域は第１方向に交差し対向する第１、第２の辺と、第１方向に平行な第３、第４の辺を有する外周スクライブ領域を有し、第１の辺上に第１パターンが、第２の辺上で第１パターンと対向する位置に第１パターンを内包する透光領域の第２パターンが配置され、第１、第２露光は第１、第２パターンが重ならないように、第２、第３の露光は第１、第２パターンが重なるように行われる。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】グレートーンマスクを使用するプロセスに有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１方向に沿った第１グレートーンパターンおよびそれと直交する第２方向に沿った第２グレートーンパターンを含むマスクＭを位置決めするマスク位置決め機構２と、基板Ｓを位置決めする基板位置決め機構４と、前記パターンの像を前記基板に形成する投影光学系３と、前記第１及び第２グレートーンパターンによって露光および現像を通して形成される第１及びだ２レジストパターンの厚さと当該露光におけるデフォーカス量との関係である第１及び第２デフォーカス特性とに基づいて、前記第１及び第２レジストパターンの厚さの差が許容範囲に収まるデフォーカス量を決定し、該デフォーカス量で前記基板に前記パターンの像が形成されるように前記基板の露光処理を制御する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】基板に対する微細パターンを容易に形成可能とする露光方法。
【解決手段】照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、マスクＭ１に対して基板Ｐを基板Ｐの面内方向である走査方向に移動させること、走査方向への移動中に基板Ｐを露光することを含む。移動中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、第１および第２領域が形成されたマスクを静止した状態で行うことを含む。第１領域と第２領域とは、走査方向に隣接して配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５は、例えばカメラ６が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射する。アライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。露光用のマイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間にも存在し、これにより、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。そして、カメラ６により検出されたマスクアライメントマーク２ａの反射光及び基板アライメントマーク１ａにより、制御装置９は基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光リソグラフィ用マスクの位相欠陥を簡便に救済する技術を提供する。
【解決手段】ＥＵＶリソグラフィ用マスクの製造に用いるマスクブランクの位相欠陥検査工程で位相欠陥が検出された場合、前記位相欠陥が凹欠陥か凸欠陥かを判定し、前記位相欠陥の凹凸に応じて、前記ＥＵＶリソグラフィ用マスクの前記位相欠陥を含む部位を局所的にデフォーカスさせて露光を行うことにより、ＥＵＶリソグラフィ用マスクの位相欠陥を修正することなく、半導体ウエハへの回路パターンの異常転写を抑制する。 （もっと読む）

【課題】ワーク・アライメントマーク（ワークマーク）の見え方が異なったとしても、ワークマークを正しく検出することができるようにすること。
【解決手段】作業者は、暗視野照明手段である照明手段１０ｃの高さをワークマークがクリアに見える位置に設定し、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上のワークマークＷＡＭ像を撮像し、登録パターンとして制御部１１の記憶部１１ｂに登録する。ワークマークを検出する際、制御部１１のアライメントマーク検出部１１ｃは、照明手段移動手段５により照明手段１０ｃの高さを変化させながら、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上をサーチし、ワークＷ上のパターンと登録パターンとを比較して一致度を求め、一致度が高いパターンが見つかると、このパターンをワークマークとして検出する。このワークマークを使って位置合わせ制御部１１ｅはマスクＭとワークＷの位置合せを行う。 （もっと読む）

【課題】複数段のファイバ光増幅器を備えたレーザ装置において、ファイバ光増幅器の励起を下流側から停止させ、意図しない発振に基づく機器の損傷を抑制する。
【解決手段】レーザ装置は、信号光を出力する信号光出力部１０と、複数のファイバ光増幅器２１〜２３を有し信号光を順次増幅して増幅光を出力する増幅部２０とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各々増幅用ファイバ(添え字ａ)と、励起光源(添え字ｂ)と、励起光源により発生された励起光を増幅用ファイバに伝送する伝送用ファイバ(添え字ｃ)とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各段の伝送用ファイバのファイバ長を上流側からＬ₁，Ｌ₂，Ｌ₃としたときに、Ｌ₁＞Ｌ₂＞Ｌ₃となるように構成される。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置内の液浸液と接触する基板及び／又は基板テーブル上で蒸発熱負荷による熱膨張及び／又は収縮による結像エラー、特にオーバレイエラーが引き起こされることを防止するため、ヒータの制御を容易にし、温度勾配が存在する状況で使用可能な温度検知プローブを提供する。
【解決手段】基板を支持するバールプレート内に１つ又は複数のヒータ４００を形成する。さらに温度検知プローブ５００は２つの部分６１０、６２０の平均温度を検知できる。温度検知プローブは第１の方向に細長く、少なくとも一方向に２０℃で少なくとも５００Ｗ／ｍＫの熱伝導率を有する材料からなる細長いハウジング内の温度センサを含む。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【課題】計測期間における計測部の温度安定化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】光源６３から射出される光で前記基板の上のマークＷＭを照明し、前記マークで反射した光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出部１１とを含み、前記マークの位置を計測する計測部と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部９０と、を有し、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量は、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低く、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を前記非計測期間で、前記計測期間における透過率よりも高くすることにより、前記非計測期間と前記計測期間の前記所定面における光量の差を低減する。 （もっと読む）

【課題】携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用し、基板材料の無駄を低減することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】マスク２０は、形成するパネルと同一の幅Ｗｐのパターンが形成されたパターン領域２０ａを有し、各パターン領域は、製造せんとするパネルの第２方向２の配列ピッチＰの整数ｎ（ｎ≧２）倍のピッチｎＰで配置されている。パターン２０ａの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイは、パターン領域２０ａと同数のマイクロレンズアレイチップ２２を第２方向２に配列したものであり、各マイクロレンズアレイチップ２２は、第２方向の長さがパターン２０ａの第２方向の幅Ｗｐよりも長く、各パターン領域２０ａの透過光は、対応するマイクロレンズアレイチップ２２により基板に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 収差感度を判定することができるリソグラフィ方法及び／又はアセンブリを提供する。
【解決手段】 パターンフィーチャを与えるために使用されるリソグラフィ装置の光学収差の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するリソグラフィ方法である。この方法は、第１の収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第１の収差状態にある場合にリソグラフィ装置でパターンフィーチャの第１の像を形成するステップと、像の特性を測定するステップと、第２の異なる収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第２の収差状態にある場合にリソグラフィ装置で前記同じパターンフィーチャの像を形成するステップと、像の同じ特性を測定するステップと、測定値を使用して収差状態の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】電気光学結晶への電荷の残留を解消することで、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑え、回折格子による適切な光変調の実現する。
【解決手段】交流信号をデータ信号によって振幅変調させた振幅変調信号を電気光学結晶に印加する。これによって、電気光学結晶には正側負側の両側に振動する信号が印加されることとなり、電気光学結晶への電荷の残留が解消することができる。その結果、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑えて、回折格子による適切な光変調の実現が可能となる。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 ウエハステージＷＳＴの位置情報は、ウエハＸ干渉計１８Ｘ_１，１８Ｘ_２、ウエハＹ干渉計１８Ｙ等と、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等とを用いて計測される。エンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等は、計測値の短期安定性が良好であるので、ウエハステージＷＳＴの２位置情報が精度良く計測される。ウエハステージＷＳＴは、エンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等の計測範囲内では、それらの計測結果に基づいて精度良く駆動される。 （もっと読む）

【課題】照明瞳輝度分布の形状、大きさ、および偏光状態について多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学装置を提供する。
【解決手段】照明光学装置は、光学ユニット３を備えている。光学ユニットは、入射光束を２つの光束に分割する光分割器３５と、第１光束の光路に配置可能な第１空間光変調器３３と、第２光束の光路に配置可能な第２空間光変調器３４と、第１空間光変調器を介した光束と第２空間光変調器を介した光束とを合成する光合成器３６とを備え、第１空間光変調器および第２空間光変調器は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素３３ａ，３４ａを有する。 （もっと読む）