【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することが可能。
【解決手段】搬送対象の基板Ｗを載置して、基板Ｗを所定の搬送方向Ｄに沿って搬送する搬送ステージ１２，１３，１４を有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，１３，１４上で搬送方向Ｄに沿って移動可能であり、基板Ｗを保持する保持部２３と、保持部２３の近傍に設けられ、保持部２３で保持された基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する途中での、基板の取り外しを前提とする基板保持部材の採用を可能にする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に複数の区画領域（ＳＡ１、ＳＡ２等）を形成するに当たり、基板Ｐ上に区画領域を形成する度毎に、基板Ｐを該基板Ｐの面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板Ｐの同一の検出対象部（例えばエッジ）の位置情報を例えば複数のセンサ１２２Ｘ_１、１２２Ｘ_２、１２２Ｙ_１を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板Ｐを露光領域ＩＡに対して位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】露光装置の構造部材の振動を抑制する。
【解決手段】 露光装置は、構造部材と、基板ステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージと、レチクルステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージと、構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部と、構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部と、制御部とを備える。制御部は、構造部材に作用する力の情報を取得し、第１カウンタマス駆動部により構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、第２カウンタマス駆動部により構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって構造部材に作用する力を相殺するように第１カウンタマス駆動部及び第２カウンタマス駆動部を制御する。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動力が失われた場合に、部材同士の衝突事故の発生を回避しつつ、再開作業もスムースに行えるような技術を提供する。
【解決手段】基板移送装置１０は、基台１１と、上面に基板を載置する載置面１２０が形成されたステージ１２と、ステージ１２を基台１１に対して移動させるステージ駆動機構１５と、ステージ１２が、ステージ１２に対する基板Ｗの受け渡しが行われる受け渡し位置Ｑから移動しないように制動する制動部１６とを備える。制動部１６を制御する制動制御部９０１は、例えば、ステージ１２が受け渡し位置Ｑに配置されている状態において、ステージ駆動機構１５への電力の供給が遮断された場合に、制動部１６にステージ１２を支持するベースプレート１５４を制動させる。 （もっと読む）

【課題】物体の位置の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで第１物体に対する第２物体の相対的な位置を測定する第１測定部１１０と、第１物体に対する第２物体の相対的な位置を求める処理を行う処理部と、を有し、処理部は、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ及び第２ヘッド１１３ａのうち一方のヘッドで以前に検出された回折格子１１１ａ、１１１ｂ上の位置を他方のヘッドの視野の中心に位置決めした状態で一方のヘッドで以前に検出された回折格子上の位置とは別の位置を一方のヘッドで検出する処理を、一方のヘッドが回折格子の全面を検出するまで繰り返して回折格子の変形量を求める第１処理と、回折格子の変形量に基づいて、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで測定された第１物体に対する第２物体の相対的な位置を補正する第２処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】固有振動数付近の共振による基板貼り合わせ装置の損傷を防止する。
【解決手段】複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、複数の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置であって、一方の基板が支持される第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他方の基板が支持される第２ステージと、第２ステージを除振する除振部と、除振部および第２ステージを含む系の固有振動数を調整する振動数調整部とを備える。振動数調整部は、予め定められた種類の振動が外部から与えられる旨を検出した場合に、固有振動数を調整してもよい。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー装置を含むクラスタ構成において、あるリソグラフィー装置に対するその周囲の装置からの振動の伝達を抑えることが可能なリソグラフィーシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィーシステム２０において、制御手段２３は、リソグラフィー装置２２のうち、第１の除振対象物２６Ａを含む第１のリソグラフィー装置２２Ａを除く少なくとも１台の第２のリソグラフィー装置２２Ｂ、２２Ｃが有する第２の移動体２７Ｂ、２７Ｃへの駆動指示情報３４ａ、３４ｂと、第２の移動体２７Ｂ、２７Ｃの移動動作に起因して第１の除振対象物２６Ａに生じる振動に関する制御指標３２ａ、３２ｂに基づいて第１のリソグラフィー装置２２Ａに含まれる第１の除振手段２５Ａを制御する。 （もっと読む）

【課題】振動が基板に投影されるパターンに及ぼす影響を低下させる。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。リソグラフィ装置はさらに、目標部分の露光の間にパターニングデバイスと基板との間の相対的振動を測定するよう構成された振動測定装置を備える。制御装置は、測定された相対的振動が基板上に投影されるパターンに及ぼす影響を補償するよう前記放射ビームのパワーを調整する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】改良型の制御システムを提供する。
【解決手段】オブジェクト上に作用するように配置された複数のアクチュエータを有するアクチュエータシステムを制御するコントローラが提供される。該コントローラは、ゲインバランシングマトリクスを用いてオブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第１の制御信号を前記複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第２の制御信号に変換する。システムは、第１の周波数帯域で第１のゲインバランシングマトリクスが使用され、第２の周波数帯域で第２のゲインバランシングマトリクスが使用されるようにさらに構成される。 （もっと読む）

【課題】 能動型制振の安定的な作動範囲を拡大することである。
【解決手段】 リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。さらに、リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築される基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付けされたビームを投影するように配置構成される投影システムとを備える。能動型制振システムが、投影システムの少なくとも一部の振動を減衰するために提供される。能動型制振システムは、投影システムの位置量を測定するセンサおよび、センサにより生成される信号に依拠して投影システムに力を加えるアクチュエータの組合せを備える。能動型制振システムは、制振構造体に連結され、制振構造体は、投影システムに連結される。 （もっと読む）

【課題】改善された結像性能を有する装置を提供する。
【解決手段】本発明は、振動絶縁システムを介してベースによって支持されたサポートフレームと、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写するように構成された投影システムであって、サポートフレームによってばね支持された第１のフレームを含む投影システムと、第１のフレームの運動を減衰するように構成された能動制振システムであって、第１のフレームの絶対的な運動を表す第１のセンサ出力を供給するように構成された第１のセンサシステム、第１のフレームとサポートフレームの間に力を加えるように配置された第１のアクチュエータシステム、および第１のセンサ出力に基づいて第１のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成されたコントロールシステムを含む能動制振システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】可動部材の移動によって発生する反力をベースに伝達する反力伝達部材を備えることで、移送システムに発生する振動を低減し得る、移送システム及びそれを備えたアレイテスト装置を提供しようとする。
【解決手段】本発明は、目的物を所定位置に移送させる移送システムに関するもので、目的物を移動させる可動部材の移動から発生する反力をベースに伝達する反力伝達部材を備えることで、移送システムの振動を低減し得る構成を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料ステージ装置における、ギャップの初期状態等の駆動条件に影響されることなく、熱ドリフトや振動によるノイズを抑えることが可能で、安定した試料テーブルの高速な位置決め制御方式を提供する。
【解決手段】試料ステージ装置１０は、ギャップ２５，２６等による駆動条件の影響を受けない所定周期毎の理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)を算出し、この所定周期毎に、レーザー干渉計３３，３４等により構成される位置検出器によるリアルタイムな測定位値ｘ(i) ，ｙ(i)と理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)との偏差ｄｘ(i) ，ｄｙ(i)をリアルタイムに求める構成になっている。その上で、この求められた偏差ｄｘ(i) ，ｄｙ(i)から測定値ｘ(i) ，ｙ(i)が理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)に追従するようなモータ２７，２８の速度指令値ｖｘ(i) ，ｖｙ(i)を算出し、リアルタイムな速度制御を行うフィードバック制御により、安定した試料テーブル１１の高速な位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】ステージ機構１は、Ｘベース１２０の上に固定されるＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１と、これに拘束されてＸ方向に移動可能なＸテーブル１２２と、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３と、Ｘベース１２０の上に固定されたＸテーブル１２２の制動機構であるＸブレーキ１２４などから構成される。制御装置２は、ステージ停止時にＸブレーキ１２４をＸテーブル１２２の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはＸアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】微動ステージと粗動ステージとの衝突時の衝撃を緩和する。
【解決手段】 例えば、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、及び微動ステージ５０がＸ軸方向に移動している際にその位置制御が不可能になると、主制御装置は、複数のＸリニアモータ２０ａ〜２０ｈ、及び複数のＸボイスコイルモータ１８ｘに対する電力供給を停止するとともに、複数の複数のＸボイスコイルモータ１８ｘのダイナミックブレーキを作動させ、所定時間経過後、複数のＸリニアモータ２０のダイナミックブレーキを作動させる。 （もっと読む）

【課題】交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダのずれとバイメタル作用による基板ホルダの平面度の悪化を防止する。
【解決手段】微動ステージ２１の四隅に真空吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えが可能な吸着部８２を設け、基板ホルダＰＨが衝撃等によりずれるおそれのあるときには、吸着部８２の真空吸着を行い基板ホルダＰＨのずれを防止し、基板ホルダＰＨがずれるおそれのないときには吸着部８２の真空吸引を停止若しくは弱めることで、バイメタル作用を緩和し、基板ホルダＰＨの平面度の悪化を防止する。 （もっと読む）