基板搬送装置
【課題】基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することが可能。
【解決手段】搬送対象の基板Ｗを載置して、基板Ｗを所定の搬送方向Ｄに沿って搬送する搬送ステージ１２，１３，１４を有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，１３，１４上で搬送方向Ｄに沿って移動可能であり、基板Ｗを保持する保持部２３と、保持部２３の近傍に設けられ、保持部２３で保持された基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５と、を備えた。
【解決手段】搬送対象の基板Ｗを載置して、基板Ｗを所定の搬送方向Ｄに沿って搬送する搬送ステージ１２，１３，１４を有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，１３，１４上で搬送方向Ｄに沿って移動可能であり、基板Ｗを保持する保持部２３と、保持部２３の近傍に設けられ、保持部２３で保持された基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５と、を備えた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板やプリント基板等を搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラス基板や半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板を搬送して検査等の処理を行う基板搬送装置がある。基板搬送装置は、基板の検査処理を行う検査処理部と、外部から検査処理部へ基板を搬送または検査処理部から外部へ基板を搬送する搬送部とを有する。
【０００３】
搬送部は、基板を支持し、搬送方向に沿って回転可能なローラと、基板を吸着して搬送方向に移動可能な吸着パッドとを備える。搬送部は、ローラに支持された基板を吸着パッドによって吸着保持し、この吸着パッドを移動させることで基板の搬送を行う。また、基板の支持には、ローラに代えて、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートを用いる場合もある。浮上プレートは、ローラと比して基板の搬送に起因して発生する振動を抑制することができる。
【０００４】
上述した基板搬送装置として、弾性体からなり、ベースに取り付けられる基部、および基部からガラス基板に密着する縁面まで末広がりに広がるコーン部を有する吸着パッドと、吸着パッドの周囲を覆う弾性シートと、を備え、弾性シートのベースからの高さが、吸着パッドが基板を吸着保持した状態で基板と当接する高さであるガラス吸着保持装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。ガラス吸着保持装置では、弾性シートを上述した高さとなるように調整することで、加減速時の慣性力による基板の加減速方向のずれを弾性シートと基板との摩擦力によって防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−３７５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１が開示するガラス吸着保持装置は、加減速方向（基板の搬送方向）に対するずれは防止できるものの、搬送中に基板の面に直交する方向の振動等が生じると、吸着パッドによる基板の保持が解消されてしまうおそれがあった。また、特許文献１では浮上プレートを用いているが、上述したローラを用いて基板を搬送する場合においては、搬送中における振動がより強く生じることととなり、同様の基板の保持が解消されてしまうおそれがあった。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することが可能な基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる基板搬送装置は、搬送対象の基板を載置して、該基板を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送ステージを有する基板搬送装置であって、前記搬送ステージ上で前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板を保持する保持部と、前記保持部の近傍に設けられ、該保持部で保持された前記基板の主面を押圧する押圧部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部は、前記基板の前記搬送方向と平行な一方の端部を保持し、前記押圧部は、前記端部の端面との距離が、該端面と保持部との距離以上である位置を押圧することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部は、前記基板の端部の主面を吸着する１または複数の吸着部を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、複数の前記保持部を備えたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部が前記基板を押圧する押圧力の大きさは、前記吸着部が前記基板を吸着する吸着力の大きさより小さいことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、略棒状をなし、先端で前記基板の主面と当接することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路が設けられ、前記流路と連結してエアを吸引する吸引部をさらに有することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、少なくとも前記基板を押圧する部分が弾性部材からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明にかかる基板搬送装置は、保持部によって保持した基板に対し、保持部の近傍に設けられる押圧部が基板の主面を押圧するようにしたので、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の実施の形態にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す斜視図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す側視図である。
【図６】図６は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す上面図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態の変形例３にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態の変形例４にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。
【００１９】
まず、本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板搬送装置として被検査対象である基板の検査を行うフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置を例に挙げて説明する。ＦＰＤ検査装置は、露光装置やコーター／ディベロッパー、エッチング装置などの製造装置等に直結して被検査対象となる基板の全数検査を行うようなインライン型であってもよいし、カセット等の基板ストッカーから直接搬入出して一部の基板のみを抜き取り検査するオフライン型（スタンドアローン型）であってもよい。
【００２０】
図１は、本実施の形態にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、搬送された矩形をなす基板Ｗの欠陥を検出する基板処理部２と、基板処理部２全体の制御を行う制御機構３と、を備える。また、基板処理部２は、移動する基板Ｗの欠陥を検出する光学ユニット１００を保持するガントリー（Gantry）１０と、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，１３，１４と、を備える。なお、ガントリー１０は、門型のフレーム構造で、搬送ステージ１２上に跨ぐように設けられる。
【００２１】
ガントリー１０および搬送ステージ１２，１３，１４は、例えば図２に示すような架台１１に固定される。架台１１は、例えばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせた鋼管フレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１１と設置面（例えば床）との間には、例えばスプリングや空気圧ダンパー、油圧ダンパーなどで構成された振動吸収機構１１ａが設けられる。これにより、ガントリー１０および搬送ステージ１２，１３，１４の振動がさらに防止される。
【００２２】
光学ユニット１００は、搬送ステージ１２が形成する搬送経路上に設定された、搬送ステージ１２の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この光学ユニット１００によって取得された画像（高倍率画像）を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。光学ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。また、図示しない照明部が基板Ｗに対して光を基板Ｗに照射して、顕微鏡１０１がこの反射光を取得し、取得した反射光から得られる画像データをもとに、検査部３３が基板Ｗ上に形成された膜の膜厚測定を行う。なお、上述した構成は、光学ユニット１００と基板Ｗとを相対的に移動させる構成であれば他の構成であってもよい。例えば、基板Ｗを搬送ステージ１２の上に固定し、光学ユニット１００を基板Ｗの平面上を走査するように構成してもよい。また、光学ユニット１００を移動させる構成に代えて、ガントリー１０に光学ユニット１００を複数並設する構成としてもよい。この場合、移動する基板の一部或いは全体を複数の光学ユニット１００によって走査することによって画像を取得することができる。本説明では、光学ユニット１００（ガントリー１０）が設けられる領域を検査空間ＰＲ１という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。
【００２３】
照明部は、光学ユニット１００内から基板Ｗに向けて照明光を照明する落射照明光、または基板Ｗの光学ユニット１００側と反対方向から基板Ｗに向けて照明光を照射する透過照明光を照射する。照明部は、光学ユニット１００の外部、例えば、搬送ステージ１２の検査ラインＬ１に沿って照明光を照射可能に設けられる。この照明部は、光学ユニット１００の移動に伴って移動するものであってもよいし、検査ラインＬ１に沿って延びる照明部材によって構成されるものであってもよい。
【００２４】
また、光学ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対してレーザ照射や塗布修正等の欠陥修正を行う欠陥修正ユニット、顕微鏡１０１に代えて観察・画像保存する高解像カメラからなる撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに適宜置き替えることができる。すなわち、処理ユニットには、光学ユニット、欠陥修正ユニット、撮像ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板Ｗに対して各処理を行う構成も含んでもよい。
【００２５】
搬送ステージ１２，１３，１４は、例えば複数の板状部材が基板Ｗの搬送方向Ｄと垂直な方向に並設された、すのこ状に組み合わされた構造を有する。この搬送ステージ１２，１３，１４を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。各搬送ステージ１２，１３，１４の板状部材には、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに回転可能なフリーローラ１２１，１３１，１４１がそれぞれ設けられる。なお、フリーローラ１２１，１３１，１４１は、ラグランジュ点のように基板Ｗの撓み振動が発生しにくい間隔で配置されることが好ましい。また、搬送ステージの搬送方向Ｄに垂直な方向の長さ（幅）は、載置される基板Ｗにおける同一方向の長さ（幅）より小さい。
【００２６】
ここで、搬送ステージ１３に搬送された基板Ｗは、所定の位置に載置されるように位置決めされる。基板Ｗの位置決め方法としては、搬送ステージ１３上に搬入された基板Ｗを支持して搬送ステージ１３に載置するリフトピン、および搬送ステージ１３に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。
【００２７】
なお、搬送ステージ１２，１３，１４は、エア供給部からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴が設けられ、このエアによって基板を支持する浮上プレートによって構成されてもよい。
【００２８】
また、搬送ステージ１２，１３，１４の搬送方向Ｄに平行な方向の外縁側には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着保持して搬送する基板搬送機構２０が設けられる。
【００２９】
図３は、基板搬送機構２０を模式的に示す斜視図である。また、図４は、基板搬送機構２０を模式的に示す部分断面図である。基板搬送機構２０は、搬送ステージの搬送方向Ｄに平行な一方の端部側に設けられ、搬送方向Ｄに平行に延びる搬送軸２１上を移動する搬送部２２を有する。搬送部２２は、搬送方向Ｄに沿って設けられ、基板Ｗの搬送方向Ｄに平行な一方の端部を保持する複数（本実施の形態では２つ）の保持部２３と、保持部２３（吸着部２４）の近傍に設けられ、基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５とを有する。また、各保持部２３は、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する略円筒状をなす複数の吸着部２４を有する。基板搬送機構２０は、例えば、搬送軸２１としてリニアモータガイドを用いるとともに、搬送部２２としてリニアモータを用いることによって実現される。なお、基板搬送機構２０は、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成によっても実現可能である。
【００３０】
吸着部２４は、吸着部２４の上面に設けられ、基板Ｗの主面と接触して基板Ｗの吸着保持を行う吸着パッド２４１を有する。吸着パッド２４１には、一方で吸着パッド２４１と連結し、他方で図示しないポンプと連結してエアを流通する流路２４２が設けられる。吸着パッド２４１は、このポンプによる吸引によって、基板Ｗを吸着する。
【００３１】
押圧部２５は、棒状をなし、アクチュエータ２５１によって搬送ステージ１２，１３，１４の上面と垂直な方向に昇降可能であり、先端部２５２ａで基板Ｗの主面と当接する押圧ピン２５２を有する。押圧ピン２５２は、少なくとも先端部２５２ａが、ＰＥＥＫ（ポリエーテル・エーテル・ケトン）材等の耐摩擦性を有する樹脂を用いて形成される。また、先端部２５２ａは、先端に向かって縮径している。
【００３２】
また、ＦＰＤ検査装置１が、少なくとも基板処理部２を囲み、光学ユニット１００の上方に設けられるクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵ（Ｆａｎ Ｆｉｌｔｅｒ Ｕｎｉｔ）を有する外装を備えていれば、クリーンルームを形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された内部空間である。
【００３３】
ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に光学ユニット１００の移動領域を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、光学ユニット１００近傍に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。
【００３４】
制御機構３は、制御部３０、入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４を備える。制御機構３は、ＲＯＭ、ＲＡＭ、通信機能等を備えたコンピュータで実現される。
【００３５】
制御部３０は、ＦＰＤ検査装置１全体の制御を行う。入力部３１は、キーボード、マウス、タッチパネル、ボタン等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から入力する。出力部３２は、ディスプレイ等を用いて構成される。
【００３６】
検査部３３は、光学ユニット１００によって取得された画像またはそのスペクトルをもとに基板Ｗの測定および／または検査を行う。
【００３７】
記憶部３４は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、ＦＰＤ検査装置１が処理を実行する際にその処理にかかわる検査プログラムを含む各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成される。
【００３８】
上述したＦＰＤ検査装置１では、外部から搬送ステージ１３に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０の制御のもと、基板搬送機構２０によって吸着保持して搬送方向Ｄに搬送し、光学ユニット１００が基板Ｗの欠陥検査等の検査処理を行う。
【００３９】
図５は、フリーローラ１３１、吸着部２４（吸着パッド２４１）および押圧ピン２５２によって基板Ｗを支持した際の支持状態を示す側視図である。図５に示すように、フリーローラ１３１に支持された基板Ｗは、基板Ｗの端部で吸着部２４の吸着パッド２４１によって吸着保持される。この状態において、制御部３０は、アクチュエータ２５１を駆動して押圧ピン２５２を上昇させ、先端部２５２ａを基板Ｗの主面に当接させる。
【００４０】
このとき、吸着パッド２４１が基板Ｗを吸着する吸着力をＦ１とし、押圧ピン２５２が基板Ｗを押圧する押圧力をＦ２とする。このとき、吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係が、Ｆ１＞Ｆ２となる。ここで、押圧力Ｆ２は、吸着力Ｆ１の半分以下、例えば１／２〜１／３程度の力であることが好ましい。なお、押圧ピン２５２は、基板Ｗの主面に対して直交する方向から当接するものとして説明したが、上述した力の関係が成り立てば、基板の主面に対して傾斜して当接するものであってもよい。
【００４１】
図６は、吸着部２４（吸着パッド２４１）と押圧ピン２５２との配置を示す上面図である。図６に示すように、吸着パッド２４１の開口中心と押圧ピン２５２の中心（先端部２５２ａの頭頂部）との間の距離をｄ１とし、吸着パッド２４１の直径をｄ２とする。このとき、距離ｄ１は、直径ｄ２の２〜５倍である。より好ましくは、距離ｄ１が、直径ｄ２の２〜３倍である。この関係が成り立つように吸着パッド２４１および押圧ピン２５２が配設される。なお、このとき、押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面との距離が、この端面と吸着部２４との距離以上である位置に配設される。
【００４２】
上述したような力および距離の関係で吸着部２４および押圧部２５が配置され、吸着パッド２４１によって吸着保持された基板Ｗに対して押圧ピン２５２が吸着の方向と反対方向の力を加えることによって、吸着パッド２４１近傍における基板Ｗの剛性を高めることで、基板上の振動が吸着パッドに伝達しない。これにより、吸着パッド２４１と基板Ｗとの吸着保持状態が解除されることなく、安定した基板Ｗの保持と搬送とを実現することができる。
【００４３】
このとき、押圧ピン２５２は、頭頂部に向かって縮径する先端部２５２ａによって、基板Ｗに対して点接触している。これにより、押圧ピン２５２は、基板Ｗの振動に対して常に一定の押圧力が基板Ｗに加わるため、吸着パッド２４１に対する安定した振動遮断効果を得ることができる。一方、押圧ピン２５２の上端が面である場合、押圧ピン２５２は基板Ｗと面接触するため、基板上の振動によっては押圧ピン２５２の基板Ｗに対する接触位置や接触面積が変化し、加える押圧力が不安定になってしまい、安定した振動遮断効果を得られないおそれがある。
【００４４】
上述した実施の形態では、吸着部によって吸着保持した基板に対し、吸着部近傍に設けられる押圧ピンが基板を押圧するようにしたため、基板と吸着部との間の吸着エラーを防止することができる。特に、近年の基板の大型化に伴い、基板上における振動が生じやすくなっているため、発生した振動が吸着部に伝達することを防止することによって、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。
【００４５】
また、吸着部の吸着エラー（基板保持状態の解消）の対策として、予期される振動を計算したうえで設定された安全率をもとに吸着固定力を算出し、吸着パッドの吸着力設定に反映することが挙げられる。しかしながら、振動源は多岐に渡るため、すべての現象を考慮した計算が困難である。このため、設定される安全率を高くするなどして対応せざるを得ないが、要因が限定できないために安全率を高めても吸着エラーを防止できない場合や、設定された安全率にするための過剰な装置構成が必要となり、装置の大型化、コストの増大を引き起こす場合がある。また、吸着エラーが発生した場合、振動源を特定して振動の伝搬経路の遮断、減衰または振動源自体の隔離を行わなければならず、大掛かりな装置改造を余儀なくされる場合もあった。
【００４６】
一方で、本実施の形態によれば、吸着部近傍に設けられる押圧ピンにより、簡易な構成で吸着部に伝達する振動を防止し、吸着エラーの発生を抑制し、安定した基板の搬送を行うことができる。
【００４７】
なお、本実施の形態では、オフライン型のＦＰＤ検査装置に適用されるものとして説明したが、インライン型のＦＰＤ検査装置にも適用可能である。インライン型の場合は、搬送ステージ１３の光学ユニット１００側と異なる側から基板が搬送されるため、吸着部２４（吸着パッド２４１）を下降または搬送ステージ１３の上面から退避させる構成を加えることが好ましい。
【００４８】
上述した実施の形態にかかる基板の搬送において、各吸着パッドに置き換え、シール材等によって基板を保持して搬送させる構成であってもよいし、基板を挟持して基板を搬送させる構成であっても適用可能である。
【００４９】
ここで、上述した押圧ピン２５２に対して少なくとも先端部２５２ａがゴム等の弾性部材からなるものであってもよい。弾性部材によって振動の高周波成分を減衰させることができる。このため、基板で発生する振動が高周波である場合に振動が吸着パッドに伝達することを防止することによって、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。また、弾性によって基板と当接させる力（押圧力）の調整が容易になる。なお、弾性部材は、固有振動数が２０〜３０Ｈｚ以下の低い固有振動数であればゴムに限らず適用できる。
【００５０】
この場合、弾性部材は、弾性変形によって基板に対して圧接することが可能であるため、押圧ピンの先端部が頭頂部に向けて縮径しない形状（先端が平面）であっても適用できる。
【００５１】
図７は、本実施の形態の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例１では、押圧部２６が、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路２６２が設けられた押圧ピン２６１を有する。流路２６２は、エアを吸引する吸引部２６３と連結することによって、押圧ピン２６１の先端部分で当接した基板Ｗを吸引して吸着保持する。
【００５２】
このとき、吸着部２４側の流路２４２と押圧部２６側の流路２６２とは、異なる流路である。また、各流路２４２，２６２は、エアの吸引量が異なり、具体的には、流路２４２側の吸引量は、流路２６２の吸引量より大きい。すなわち、基板Ｗに対する吸着パッド２４１による吸着力は、押圧ピン２６１による吸着力と比して大きい。
【００５３】
変形例１では、上述した実施の形態のような吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を維持するとともに、押圧ピン２６１の基板Ｗに対する当接状態を一段と確実なものとするため、一層安定した基板の搬送が可能となる。
【００５４】
図８は、本実施の形態の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の吸着部と押圧部との配置を示す模式図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例２では、上述した実施の形態のように各吸着部２４の近傍であって、図１等で示す保持部２３で保持する一群の吸着部２４の一部を覆うように複数の押圧ピン２５２が設けられる押圧部２７を有する。なお、各押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。
【００５５】
押圧部２７は、図８に示すように、複数の押圧ピン２５２が、一群の吸着部２４を覆うように弧状をなして配設される。このとき、各押圧ピン２５２は、吸着部２４と押圧ピン２５２との距離が、上述した距離ｄ１となるように配置される。また、吸着部２４の近傍に位置する（押圧力が及ぶ）押圧ピン２５２からの押圧力の合計が上述した吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を満たすように、押圧ピン２５２の押圧力（基板Ｗに対する上昇高さ）が調整される。
【００５６】
図９は、本実施の形態の変形例３にかかるＦＰＤ検査装置の吸着部と押圧部との配置を示す模式図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例３では、上述した実施の形態のように各吸着部２４の近傍であって、各吸着部２４を覆うように複数の押圧ピン２５２が設けられる押圧部２８を有する。なお、各押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。
【００５７】
押圧部２８は、図９に示すように、複数の押圧ピン２５２が、各吸着部２４を覆うように弧状をなして配設される。このとき、各押圧ピン２５２は、吸着部２４と押圧ピン２５２との距離が、上述した距離ｄ１となるように配置される。また、吸着部２４の近傍に位置する（押圧力が及ぶ）押圧ピン２５２からの押圧力の合計が上述した吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を満たすように、押圧ピン２５２の押圧力（基板Ｗに対する上昇高さ）が調整される。
【００５８】
上述した変形例３にかかる各押圧ピンの昇降駆動は、各押圧ピンごとに駆動するものであってもよいし、複数の押圧ピンを一体的に駆動するものであってもよい。一体的に押圧ピンを駆動する場合は、押圧ピンの配置位置に応じて、基板Ｗに加える押圧力が上述したものとなるように、互いの押圧ピンの配設高さが調節されていることが好ましい。
【００５９】
また、上述した変形例３の押圧ピン２５２の配置において、押圧ピン２５２の先端部２５２ａが弾性部材の場合は、図１０に示す変形例４のように、弧状をなす弾性部材２９１（押圧部２９）によって各吸着部２４を覆うようにすることもできる。なお、弾性部材２９１は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。また、変形例１にかかる押圧ピン２５２の配置の場合でも同様に、弧状の弾性部材と基板Ｗの端面Ｓとによって一群の吸着部２４を覆うようにすることができる。これにより、弾性部材が、基板Ｗ上で伝達される振動を減衰させて、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。
【００６０】
また、上述した実施の形態および変形例にかかる押圧ピンの数は、上述した吸着部との距離および吸着力との関係を満たせば、任意に設定可能である。また、本実施の形態では、搬送部が搬送ステージの外縁側に設けられ、吸着部が基板の端部側を吸着保持するものとして説明したが、搬送部（搬送軸）が搬送ステージの中央部に設けられ、吸着部が基板の中央部を保持するものである場合は、押圧ピンは、保持部（吸着部）を介して両側に配置されるものであってもよいし、保持部（吸着部）の全周を取り囲む円環状に配置されるものであってもよい。
【００６１】
以上のように、本発明にかかる基板搬送装置は、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することに有用である。
【符号の説明】
【００６２】
１ ＦＰＤ検査装置
２ 基板処理部
３ 制御機構
１０ ガントリー
１１ 架台
１１ａ 振動吸収機構
１２，１３，１４ 搬送ステージ
２０ 基板搬送機構
２１ 搬送軸
２２ 搬送部
２３ 保持部
２４ 吸着部
２５，２６，２７，２８，２９ 押圧部
３０ 制御部
３１ 入力部
３２ 出力部
３３ 検査部
３４ 記憶部
１００ 光学ユニット
１０１ 顕微鏡
１２１，１３１，１４１ フリーローラ
２４１ 吸着パッド
２４２，２６２ 流路
２５１ アクチュエータ
２５２，２６１ 押圧ピン
２５２ａ 先端部
２６３ 吸引部
２９１ 弾性部材
Ｌ１ 検査ライン
ＰＲ１ 検査空間
ＴＲ１，ＴＲ２ 搬送空間
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板やプリント基板等を搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラス基板や半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板を搬送して検査等の処理を行う基板搬送装置がある。基板搬送装置は、基板の検査処理を行う検査処理部と、外部から検査処理部へ基板を搬送または検査処理部から外部へ基板を搬送する搬送部とを有する。
【０００３】
搬送部は、基板を支持し、搬送方向に沿って回転可能なローラと、基板を吸着して搬送方向に移動可能な吸着パッドとを備える。搬送部は、ローラに支持された基板を吸着パッドによって吸着保持し、この吸着パッドを移動させることで基板の搬送を行う。また、基板の支持には、ローラに代えて、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートを用いる場合もある。浮上プレートは、ローラと比して基板の搬送に起因して発生する振動を抑制することができる。
【０００４】
上述した基板搬送装置として、弾性体からなり、ベースに取り付けられる基部、および基部からガラス基板に密着する縁面まで末広がりに広がるコーン部を有する吸着パッドと、吸着パッドの周囲を覆う弾性シートと、を備え、弾性シートのベースからの高さが、吸着パッドが基板を吸着保持した状態で基板と当接する高さであるガラス吸着保持装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。ガラス吸着保持装置では、弾性シートを上述した高さとなるように調整することで、加減速時の慣性力による基板の加減速方向のずれを弾性シートと基板との摩擦力によって防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−３７５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１が開示するガラス吸着保持装置は、加減速方向（基板の搬送方向）に対するずれは防止できるものの、搬送中に基板の面に直交する方向の振動等が生じると、吸着パッドによる基板の保持が解消されてしまうおそれがあった。また、特許文献１では浮上プレートを用いているが、上述したローラを用いて基板を搬送する場合においては、搬送中における振動がより強く生じることととなり、同様の基板の保持が解消されてしまうおそれがあった。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することが可能な基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる基板搬送装置は、搬送対象の基板を載置して、該基板を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送ステージを有する基板搬送装置であって、前記搬送ステージ上で前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板を保持する保持部と、前記保持部の近傍に設けられ、該保持部で保持された前記基板の主面を押圧する押圧部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部は、前記基板の前記搬送方向と平行な一方の端部を保持し、前記押圧部は、前記端部の端面との距離が、該端面と保持部との距離以上である位置を押圧することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部は、前記基板の端部の主面を吸着する１または複数の吸着部を有することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、複数の前記保持部を備えたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部が前記基板を押圧する押圧力の大きさは、前記吸着部が前記基板を吸着する吸着力の大きさより小さいことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、略棒状をなし、先端で前記基板の主面と当接することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路が設けられ、前記流路と連結してエアを吸引する吸引部をさらに有することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記押圧部は、少なくとも前記基板を押圧する部分が弾性部材からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明にかかる基板搬送装置は、保持部によって保持した基板に対し、保持部の近傍に設けられる押圧部が基板の主面を押圧するようにしたので、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の実施の形態にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す斜視図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す側視図である。
【図６】図６は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す上面図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態の変形例３にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態の変形例４にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。
【００１９】
まず、本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板搬送装置として被検査対象である基板の検査を行うフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置を例に挙げて説明する。ＦＰＤ検査装置は、露光装置やコーター／ディベロッパー、エッチング装置などの製造装置等に直結して被検査対象となる基板の全数検査を行うようなインライン型であってもよいし、カセット等の基板ストッカーから直接搬入出して一部の基板のみを抜き取り検査するオフライン型（スタンドアローン型）であってもよい。
【００２０】
図１は、本実施の形態にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、搬送された矩形をなす基板Ｗの欠陥を検出する基板処理部２と、基板処理部２全体の制御を行う制御機構３と、を備える。また、基板処理部２は、移動する基板Ｗの欠陥を検出する光学ユニット１００を保持するガントリー（Gantry）１０と、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，１３，１４と、を備える。なお、ガントリー１０は、門型のフレーム構造で、搬送ステージ１２上に跨ぐように設けられる。
【００２１】
ガントリー１０および搬送ステージ１２，１３，１４は、例えば図２に示すような架台１１に固定される。架台１１は、例えばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせた鋼管フレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１１と設置面（例えば床）との間には、例えばスプリングや空気圧ダンパー、油圧ダンパーなどで構成された振動吸収機構１１ａが設けられる。これにより、ガントリー１０および搬送ステージ１２，１３，１４の振動がさらに防止される。
【００２２】
光学ユニット１００は、搬送ステージ１２が形成する搬送経路上に設定された、搬送ステージ１２の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この光学ユニット１００によって取得された画像（高倍率画像）を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。光学ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。また、図示しない照明部が基板Ｗに対して光を基板Ｗに照射して、顕微鏡１０１がこの反射光を取得し、取得した反射光から得られる画像データをもとに、検査部３３が基板Ｗ上に形成された膜の膜厚測定を行う。なお、上述した構成は、光学ユニット１００と基板Ｗとを相対的に移動させる構成であれば他の構成であってもよい。例えば、基板Ｗを搬送ステージ１２の上に固定し、光学ユニット１００を基板Ｗの平面上を走査するように構成してもよい。また、光学ユニット１００を移動させる構成に代えて、ガントリー１０に光学ユニット１００を複数並設する構成としてもよい。この場合、移動する基板の一部或いは全体を複数の光学ユニット１００によって走査することによって画像を取得することができる。本説明では、光学ユニット１００（ガントリー１０）が設けられる領域を検査空間ＰＲ１という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。
【００２３】
照明部は、光学ユニット１００内から基板Ｗに向けて照明光を照明する落射照明光、または基板Ｗの光学ユニット１００側と反対方向から基板Ｗに向けて照明光を照射する透過照明光を照射する。照明部は、光学ユニット１００の外部、例えば、搬送ステージ１２の検査ラインＬ１に沿って照明光を照射可能に設けられる。この照明部は、光学ユニット１００の移動に伴って移動するものであってもよいし、検査ラインＬ１に沿って延びる照明部材によって構成されるものであってもよい。
【００２４】
また、光学ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対してレーザ照射や塗布修正等の欠陥修正を行う欠陥修正ユニット、顕微鏡１０１に代えて観察・画像保存する高解像カメラからなる撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに適宜置き替えることができる。すなわち、処理ユニットには、光学ユニット、欠陥修正ユニット、撮像ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板Ｗに対して各処理を行う構成も含んでもよい。
【００２５】
搬送ステージ１２，１３，１４は、例えば複数の板状部材が基板Ｗの搬送方向Ｄと垂直な方向に並設された、すのこ状に組み合わされた構造を有する。この搬送ステージ１２，１３，１４を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。各搬送ステージ１２，１３，１４の板状部材には、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに回転可能なフリーローラ１２１，１３１，１４１がそれぞれ設けられる。なお、フリーローラ１２１，１３１，１４１は、ラグランジュ点のように基板Ｗの撓み振動が発生しにくい間隔で配置されることが好ましい。また、搬送ステージの搬送方向Ｄに垂直な方向の長さ（幅）は、載置される基板Ｗにおける同一方向の長さ（幅）より小さい。
【００２６】
ここで、搬送ステージ１３に搬送された基板Ｗは、所定の位置に載置されるように位置決めされる。基板Ｗの位置決め方法としては、搬送ステージ１３上に搬入された基板Ｗを支持して搬送ステージ１３に載置するリフトピン、および搬送ステージ１３に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。
【００２７】
なお、搬送ステージ１２，１３，１４は、エア供給部からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴が設けられ、このエアによって基板を支持する浮上プレートによって構成されてもよい。
【００２８】
また、搬送ステージ１２，１３，１４の搬送方向Ｄに平行な方向の外縁側には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着保持して搬送する基板搬送機構２０が設けられる。
【００２９】
図３は、基板搬送機構２０を模式的に示す斜視図である。また、図４は、基板搬送機構２０を模式的に示す部分断面図である。基板搬送機構２０は、搬送ステージの搬送方向Ｄに平行な一方の端部側に設けられ、搬送方向Ｄに平行に延びる搬送軸２１上を移動する搬送部２２を有する。搬送部２２は、搬送方向Ｄに沿って設けられ、基板Ｗの搬送方向Ｄに平行な一方の端部を保持する複数（本実施の形態では２つ）の保持部２３と、保持部２３（吸着部２４）の近傍に設けられ、基板Ｗの主面を押圧する押圧部２５とを有する。また、各保持部２３は、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する略円筒状をなす複数の吸着部２４を有する。基板搬送機構２０は、例えば、搬送軸２１としてリニアモータガイドを用いるとともに、搬送部２２としてリニアモータを用いることによって実現される。なお、基板搬送機構２０は、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成によっても実現可能である。
【００３０】
吸着部２４は、吸着部２４の上面に設けられ、基板Ｗの主面と接触して基板Ｗの吸着保持を行う吸着パッド２４１を有する。吸着パッド２４１には、一方で吸着パッド２４１と連結し、他方で図示しないポンプと連結してエアを流通する流路２４２が設けられる。吸着パッド２４１は、このポンプによる吸引によって、基板Ｗを吸着する。
【００３１】
押圧部２５は、棒状をなし、アクチュエータ２５１によって搬送ステージ１２，１３，１４の上面と垂直な方向に昇降可能であり、先端部２５２ａで基板Ｗの主面と当接する押圧ピン２５２を有する。押圧ピン２５２は、少なくとも先端部２５２ａが、ＰＥＥＫ（ポリエーテル・エーテル・ケトン）材等の耐摩擦性を有する樹脂を用いて形成される。また、先端部２５２ａは、先端に向かって縮径している。
【００３２】
また、ＦＰＤ検査装置１が、少なくとも基板処理部２を囲み、光学ユニット１００の上方に設けられるクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵ（Ｆａｎ Ｆｉｌｔｅｒ Ｕｎｉｔ）を有する外装を備えていれば、クリーンルームを形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された内部空間である。
【００３３】
ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に光学ユニット１００の移動領域を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、光学ユニット１００近傍に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。
【００３４】
制御機構３は、制御部３０、入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４を備える。制御機構３は、ＲＯＭ、ＲＡＭ、通信機能等を備えたコンピュータで実現される。
【００３５】
制御部３０は、ＦＰＤ検査装置１全体の制御を行う。入力部３１は、キーボード、マウス、タッチパネル、ボタン等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から入力する。出力部３２は、ディスプレイ等を用いて構成される。
【００３６】
検査部３３は、光学ユニット１００によって取得された画像またはそのスペクトルをもとに基板Ｗの測定および／または検査を行う。
【００３７】
記憶部３４は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、ＦＰＤ検査装置１が処理を実行する際にその処理にかかわる検査プログラムを含む各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成される。
【００３８】
上述したＦＰＤ検査装置１では、外部から搬送ステージ１３に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０の制御のもと、基板搬送機構２０によって吸着保持して搬送方向Ｄに搬送し、光学ユニット１００が基板Ｗの欠陥検査等の検査処理を行う。
【００３９】
図５は、フリーローラ１３１、吸着部２４（吸着パッド２４１）および押圧ピン２５２によって基板Ｗを支持した際の支持状態を示す側視図である。図５に示すように、フリーローラ１３１に支持された基板Ｗは、基板Ｗの端部で吸着部２４の吸着パッド２４１によって吸着保持される。この状態において、制御部３０は、アクチュエータ２５１を駆動して押圧ピン２５２を上昇させ、先端部２５２ａを基板Ｗの主面に当接させる。
【００４０】
このとき、吸着パッド２４１が基板Ｗを吸着する吸着力をＦ１とし、押圧ピン２５２が基板Ｗを押圧する押圧力をＦ２とする。このとき、吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係が、Ｆ１＞Ｆ２となる。ここで、押圧力Ｆ２は、吸着力Ｆ１の半分以下、例えば１／２〜１／３程度の力であることが好ましい。なお、押圧ピン２５２は、基板Ｗの主面に対して直交する方向から当接するものとして説明したが、上述した力の関係が成り立てば、基板の主面に対して傾斜して当接するものであってもよい。
【００４１】
図６は、吸着部２４（吸着パッド２４１）と押圧ピン２５２との配置を示す上面図である。図６に示すように、吸着パッド２４１の開口中心と押圧ピン２５２の中心（先端部２５２ａの頭頂部）との間の距離をｄ１とし、吸着パッド２４１の直径をｄ２とする。このとき、距離ｄ１は、直径ｄ２の２〜５倍である。より好ましくは、距離ｄ１が、直径ｄ２の２〜３倍である。この関係が成り立つように吸着パッド２４１および押圧ピン２５２が配設される。なお、このとき、押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面との距離が、この端面と吸着部２４との距離以上である位置に配設される。
【００４２】
上述したような力および距離の関係で吸着部２４および押圧部２５が配置され、吸着パッド２４１によって吸着保持された基板Ｗに対して押圧ピン２５２が吸着の方向と反対方向の力を加えることによって、吸着パッド２４１近傍における基板Ｗの剛性を高めることで、基板上の振動が吸着パッドに伝達しない。これにより、吸着パッド２４１と基板Ｗとの吸着保持状態が解除されることなく、安定した基板Ｗの保持と搬送とを実現することができる。
【００４３】
このとき、押圧ピン２５２は、頭頂部に向かって縮径する先端部２５２ａによって、基板Ｗに対して点接触している。これにより、押圧ピン２５２は、基板Ｗの振動に対して常に一定の押圧力が基板Ｗに加わるため、吸着パッド２４１に対する安定した振動遮断効果を得ることができる。一方、押圧ピン２５２の上端が面である場合、押圧ピン２５２は基板Ｗと面接触するため、基板上の振動によっては押圧ピン２５２の基板Ｗに対する接触位置や接触面積が変化し、加える押圧力が不安定になってしまい、安定した振動遮断効果を得られないおそれがある。
【００４４】
上述した実施の形態では、吸着部によって吸着保持した基板に対し、吸着部近傍に設けられる押圧ピンが基板を押圧するようにしたため、基板と吸着部との間の吸着エラーを防止することができる。特に、近年の基板の大型化に伴い、基板上における振動が生じやすくなっているため、発生した振動が吸着部に伝達することを防止することによって、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。
【００４５】
また、吸着部の吸着エラー（基板保持状態の解消）の対策として、予期される振動を計算したうえで設定された安全率をもとに吸着固定力を算出し、吸着パッドの吸着力設定に反映することが挙げられる。しかしながら、振動源は多岐に渡るため、すべての現象を考慮した計算が困難である。このため、設定される安全率を高くするなどして対応せざるを得ないが、要因が限定できないために安全率を高めても吸着エラーを防止できない場合や、設定された安全率にするための過剰な装置構成が必要となり、装置の大型化、コストの増大を引き起こす場合がある。また、吸着エラーが発生した場合、振動源を特定して振動の伝搬経路の遮断、減衰または振動源自体の隔離を行わなければならず、大掛かりな装置改造を余儀なくされる場合もあった。
【００４６】
一方で、本実施の形態によれば、吸着部近傍に設けられる押圧ピンにより、簡易な構成で吸着部に伝達する振動を防止し、吸着エラーの発生を抑制し、安定した基板の搬送を行うことができる。
【００４７】
なお、本実施の形態では、オフライン型のＦＰＤ検査装置に適用されるものとして説明したが、インライン型のＦＰＤ検査装置にも適用可能である。インライン型の場合は、搬送ステージ１３の光学ユニット１００側と異なる側から基板が搬送されるため、吸着部２４（吸着パッド２４１）を下降または搬送ステージ１３の上面から退避させる構成を加えることが好ましい。
【００４８】
上述した実施の形態にかかる基板の搬送において、各吸着パッドに置き換え、シール材等によって基板を保持して搬送させる構成であってもよいし、基板を挟持して基板を搬送させる構成であっても適用可能である。
【００４９】
ここで、上述した押圧ピン２５２に対して少なくとも先端部２５２ａがゴム等の弾性部材からなるものであってもよい。弾性部材によって振動の高周波成分を減衰させることができる。このため、基板で発生する振動が高周波である場合に振動が吸着パッドに伝達することを防止することによって、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。また、弾性によって基板と当接させる力（押圧力）の調整が容易になる。なお、弾性部材は、固有振動数が２０〜３０Ｈｚ以下の低い固有振動数であればゴムに限らず適用できる。
【００５０】
この場合、弾性部材は、弾性変形によって基板に対して圧接することが可能であるため、押圧ピンの先端部が頭頂部に向けて縮径しない形状（先端が平面）であっても適用できる。
【００５１】
図７は、本実施の形態の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の要部の構成を示す部分断面図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例１では、押圧部２６が、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路２６２が設けられた押圧ピン２６１を有する。流路２６２は、エアを吸引する吸引部２６３と連結することによって、押圧ピン２６１の先端部分で当接した基板Ｗを吸引して吸着保持する。
【００５２】
このとき、吸着部２４側の流路２４２と押圧部２６側の流路２６２とは、異なる流路である。また、各流路２４２，２６２は、エアの吸引量が異なり、具体的には、流路２４２側の吸引量は、流路２６２の吸引量より大きい。すなわち、基板Ｗに対する吸着パッド２４１による吸着力は、押圧ピン２６１による吸着力と比して大きい。
【００５３】
変形例１では、上述した実施の形態のような吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を維持するとともに、押圧ピン２６１の基板Ｗに対する当接状態を一段と確実なものとするため、一層安定した基板の搬送が可能となる。
【００５４】
図８は、本実施の形態の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の吸着部と押圧部との配置を示す模式図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例２では、上述した実施の形態のように各吸着部２４の近傍であって、図１等で示す保持部２３で保持する一群の吸着部２４の一部を覆うように複数の押圧ピン２５２が設けられる押圧部２７を有する。なお、各押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。
【００５５】
押圧部２７は、図８に示すように、複数の押圧ピン２５２が、一群の吸着部２４を覆うように弧状をなして配設される。このとき、各押圧ピン２５２は、吸着部２４と押圧ピン２５２との距離が、上述した距離ｄ１となるように配置される。また、吸着部２４の近傍に位置する（押圧力が及ぶ）押圧ピン２５２からの押圧力の合計が上述した吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を満たすように、押圧ピン２５２の押圧力（基板Ｗに対する上昇高さ）が調整される。
【００５６】
図９は、本実施の形態の変形例３にかかるＦＰＤ検査装置の吸着部と押圧部との配置を示す模式図である。なお、図１等で上述したものと同じ構成要素には同じ符号を付してある。変形例３では、上述した実施の形態のように各吸着部２４の近傍であって、各吸着部２４を覆うように複数の押圧ピン２５２が設けられる押圧部２８を有する。なお、各押圧ピン２５２は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。
【００５７】
押圧部２８は、図９に示すように、複数の押圧ピン２５２が、各吸着部２４を覆うように弧状をなして配設される。このとき、各押圧ピン２５２は、吸着部２４と押圧ピン２５２との距離が、上述した距離ｄ１となるように配置される。また、吸着部２４の近傍に位置する（押圧力が及ぶ）押圧ピン２５２からの押圧力の合計が上述した吸着力Ｆ１と押圧力Ｆ２との関係を満たすように、押圧ピン２５２の押圧力（基板Ｗに対する上昇高さ）が調整される。
【００５８】
上述した変形例３にかかる各押圧ピンの昇降駆動は、各押圧ピンごとに駆動するものであってもよいし、複数の押圧ピンを一体的に駆動するものであってもよい。一体的に押圧ピンを駆動する場合は、押圧ピンの配置位置に応じて、基板Ｗに加える押圧力が上述したものとなるように、互いの押圧ピンの配設高さが調節されていることが好ましい。
【００５９】
また、上述した変形例３の押圧ピン２５２の配置において、押圧ピン２５２の先端部２５２ａが弾性部材の場合は、図１０に示す変形例４のように、弧状をなす弾性部材２９１（押圧部２９）によって各吸着部２４を覆うようにすることもできる。なお、弾性部材２９１は、基板Ｗの端面Ｓとの距離をｄ３とし、この端面Ｓと保持部２３との距離をｄ４とすると、ｄ３≧ｄ４となる位置に設けられる。また、変形例１にかかる押圧ピン２５２の配置の場合でも同様に、弧状の弾性部材と基板Ｗの端面Ｓとによって一群の吸着部２４を覆うようにすることができる。これにより、弾性部材が、基板Ｗ上で伝達される振動を減衰させて、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。
【００６０】
また、上述した実施の形態および変形例にかかる押圧ピンの数は、上述した吸着部との距離および吸着力との関係を満たせば、任意に設定可能である。また、本実施の形態では、搬送部が搬送ステージの外縁側に設けられ、吸着部が基板の端部側を吸着保持するものとして説明したが、搬送部（搬送軸）が搬送ステージの中央部に設けられ、吸着部が基板の中央部を保持するものである場合は、押圧ピンは、保持部（吸着部）を介して両側に配置されるものであってもよいし、保持部（吸着部）の全周を取り囲む円環状に配置されるものであってもよい。
【００６１】
以上のように、本発明にかかる基板搬送装置は、基板の搬送中に振動が発生した場合であっても基板を確実に保持することに有用である。
【符号の説明】
【００６２】
１ ＦＰＤ検査装置
２ 基板処理部
３ 制御機構
１０ ガントリー
１１ 架台
１１ａ 振動吸収機構
１２，１３，１４ 搬送ステージ
２０ 基板搬送機構
２１ 搬送軸
２２ 搬送部
２３ 保持部
２４ 吸着部
２５，２６，２７，２８，２９ 押圧部
３０ 制御部
３１ 入力部
３２ 出力部
３３ 検査部
３４ 記憶部
１００ 光学ユニット
１０１ 顕微鏡
１２１，１３１，１４１ フリーローラ
２４１ 吸着パッド
２４２，２６２ 流路
２５１ アクチュエータ
２５２，２６１ 押圧ピン
２５２ａ 先端部
２６３ 吸引部
２９１ 弾性部材
Ｌ１ 検査ライン
ＰＲ１ 検査空間
ＴＲ１，ＴＲ２ 搬送空間
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送対象の基板を載置して、該基板を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送ステージを有する基板搬送装置であって、
前記搬送ステージ上で前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板を保持する保持部と、
前記保持部の近傍に設けられ、該保持部で保持された前記基板の主面を押圧する押圧部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記保持部は、前記基板の前記搬送方向と平行な一方の端部を保持し、
前記押圧部は、前記端部の端面との距離が、該端面と保持部との距離以上である位置を押圧することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記保持部は、前記基板の端部の主面を吸着する１または複数の吸着部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
複数の前記保持部を備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記押圧部が前記基板を押圧する押圧力の大きさは、前記吸着部が前記基板を吸着する吸着力の大きさより小さいことを特徴とする請求項３または４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記押圧部は、略棒状をなし、先端で前記基板の主面と当接することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記押圧部は、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路が設けられ、
前記流路と連結してエアを吸引する吸引部をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記押圧部は、少なくとも前記基板を押圧する部分が弾性部材からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項１】
搬送対象の基板を載置して、該基板を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送ステージを有する基板搬送装置であって、
前記搬送ステージ上で前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板を保持する保持部と、
前記保持部の近傍に設けられ、該保持部で保持された前記基板の主面を押圧する押圧部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記保持部は、前記基板の前記搬送方向と平行な一方の端部を保持し、
前記押圧部は、前記端部の端面との距離が、該端面と保持部との距離以上である位置を押圧することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記保持部は、前記基板の端部の主面を吸着する１または複数の吸着部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
複数の前記保持部を備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記押圧部が前記基板を押圧する押圧力の大きさは、前記吸着部が前記基板を吸着する吸着力の大きさより小さいことを特徴とする請求項３または４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記押圧部は、略棒状をなし、先端で前記基板の主面と当接することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記押圧部は、先端部分に開口端を有し、エアを流通する流路が設けられ、
前記流路と連結してエアを吸引する吸引部をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記押圧部は、少なくとも前記基板を押圧する部分が弾性部材からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１３−６２３６３（Ｐ２０１３−６２３６３Ａ）
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９９６５３（Ｐ２０１１−１９９６５３）
【出願日】平成２３年９月１３日（２０１１．９．１３）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月１３日（２０１１．９．１３）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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