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Fターム[5F031MA33]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 工程 (11,004) | 試験、測定、検査 (676)

Fターム[5F031MA33]に分類される特許

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【課題】検査時間を短縮し、かつ諸所の検査温度との誤差を抑制する検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】検査装置1aは被検査体2及び熱伝導体11aを載置可能な試料台10と、前記試料台10に対向して設けられ、前記被検査体2に接触して検査する探針(検査部)14、この探針14を支持するユニット15及びユニットホルダ13を有する基板12と、前記ユニットホルダ13及び前記試料台10に接触しうる前記熱伝導体11aとを有し、検査方法は試料台10に熱伝導体11aを設置する工程と、基板12と前記熱伝導体11aを接触させる工程と、前記熱伝導体11aを前記試料台10から移動し、前記試料台10に被検査体2を設置する工程と、前記被検査体2に探針14を接触させて検査をする工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】 過度な重量増を回避しつつ高精度な検査を実現しうる半導体ウエハ検査装置を提供すること。
【解決手段】 本願の半導体ウエハ検査装置は、鉛直方向上方を向く基準面210を有する定盤200と、定盤200によって自重の少なくとも一部が負担されており、x方向およびy方向に基準面210に沿って移動可能とされているとともに、集積回路が形成された機能面を有する半導体ウエハをこの機能面が鉛直方向上方を向く姿勢で支持するウエハ支持体300と、ウエハ支持体300をx方向およびy方向に移動させる移動手段400と、半導体ウエハの機能面を対象とした検査する検査ヘッドと、を備える。 (もっと読む)


【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板搬送の負荷を低減させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄するウェハ洗浄部141と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査するウェハ検査部142と、ウェハ洗浄部141とウェハ検査部142との間でウェハWを搬送する搬送手段143を有している。ウェハ洗浄部141、ウェハ検査部142及び搬送手段143は、筐体140の内部に設けられている。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備え、処理ユニットの構成を変更することなくフットプリントを小さくする、基板処理システムを提供する。
【解決手段】処理ステーションと、インターフェイスステーション5と、を備えた塗布現像処理システムにおいて、インターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前にウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット100と、洗浄後のウェハが露光可能な状態かどうかを検査する検査ユニット101と、洗浄ユニット100と検査ユニット101との間でウェハを搬送するアームを備えたウェハ搬送機構120を有している。洗浄ユニット100と検査ユニット101は、インターフェイスステーション5の正面側に、上下方向に多段に設けられ、ウェハ搬送機構120は、洗浄ユニット100及び検査ユニット101に隣接した領域に設けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の性能を向上させる。
【解決手段】製造されたパッケージを、トレイ11の上面19に形成されたポケット16に収納して搬送する際に、基部23と、突出部24とを含み、突出部24がポケット16内に入り込むときも、基部23がトレイ11の上面19と接触しないように配置された接触部材21を上方から接触させる。そして、パッケージ検出センサ22が検出した検出値に基づいて、ポケット16にパッケージが正常に収納されているか否かを検出する。 (もっと読む)


【課題】検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】基板Wの撮像処理を施す光学ユニット100と、基板Wを載置して、基板Wを搬送するステージ11とを有するFPD検査装置1であって、ステージ11の搬送方向Dに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Dと平行に延びる搬送軸131に沿って基板Wを保持して搬送する第1搬送部132と、基板Wが光学ユニット100にかかる領域で搬送方向Dと平行に延びる搬送軸141に沿って基板Wを保持して搬送し、第1搬送部132と比して高い移動分解能を有する第2搬送部142と、第1搬送部132および第2搬送部142における基板Wの搬送を制御する搬送制御部35と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット100と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査する検査ユニット101と、各ユニット100、101の間で基板を搬送するアームを備えたウェハ搬送機構120、130と、ウェハ搬送機構120、130の動作を制御するウェハ搬送制御部を有している。ウェハ搬送制御部は、検査の結果、ウェハの状態が洗浄ユニット100での再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該ウェハを洗浄ユニット100に再度搬送するように、ウェハ搬送機構120、130を制御する。 (もっと読む)


【課題】被処理基板と支持基板の剥離処理を適切且つ効率よく行う。
【解決手段】重合ウェハTを被処理ウェハWと支持ウェハSに剥離する剥離装置30は、被処理ウェハWを第1の温度に調節する温度調節機構124を備え、且つ当該被処理ウェハWを保持する第1の保持部110と、支持ウェハSを第1の温度よりも高い第2の温度に加熱する加熱機構141を備え、且つ当該支持ウェハSを保持する第2の保持部111と、少なくとも第1の保持部110又は第2の保持部111を相対的に移動させる移動機構150と、を有している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、材料や工程の追加を抑制しつつ、被吸着物をチャックステージに適切に真空吸着させることができる真空吸着保持装置および真空吸着保持方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明にかかる真空吸着保持装置は、被吸着物2を真空吸着により吸着面に吸着して保持させる、チャックステージ3と、被吸着物2に関する所定の情報を付与されることにより、所定の情報に応じて、チャックステージ3に吸着させるための真空度を自動的に制御する制御部15とを備える。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハに対するウエハ工程がほぼ終了した段階で、ウエハの表面に表面保護テープを貼り付けた状態で、ウエハの裏面に対して、バックグラインディング処理を施し、その後、ウエハの裏面を真空吸着した状態で、表面保護テープ上に剥離用補助テープを貼り付けて、当該剥離用補助テープに張力を付与することにより、ウエハから表面保護テープを剥離することが広く行われている。
【解決手段】本願発明は、ウエハの裏面を真空吸着した状態で、表面保護テープ上に剥離用補助テープを貼り付けて、当該剥離用補助テープに張力を付与することにより、前記ウエハから前記表面保護テープを剥離する工程を含む半導体装置の製造方法に於いて、前記真空吸着に関する真空吸引系を前記ウエハの周辺部を担当する周辺吸引系と、前記ウエハの内部領域を担当する内部吸引系とを含むようにしたものである。 (もっと読む)


【課題】基板検査を短いタクトタイムで行うことができる基板検査装置および基板搬送方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板検査装置1は、検査する基板を搬入する基板搬入部3と、基板を検査する基板検査部4と、検査が終了した基板を搬出する基板搬出部5とを有し、さらに気体を吐出することによって前記基板を浮上させる浮上プレート20と、基板搬入部3に搬入され、浮上プレート20により浮上した基板を保持し、個別の搬送軸上を個別に移動して搬送する基板搬送部6,7と、基板を保持した基板搬送部6、7が、基板搬入部3と、基板検査部4と、基板搬出部5とに分割された各ブロックに重複して位置しないよう制御する制御部10と、を備える。 (もっと読む)


【課題】検査工程と整列工程を1台の設備で行うことによって工数削減と設備費のコストダウン及び設置スペースの縮小を図ることができるLED素子のソーティング装置を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハ2を裁断して得られる複数のLED素子3の各特性をそれぞれ検査するとともに、各LED素子3の位置をそれぞれ検出し、各LED素子3をその特性データと位置データに基づいて各ランク毎に整列させてシート4上に貼付するLED素子3のソーティング装置1を、放射状に延びる複数のアーム11を備えた回転可能且つ上下動可能なインデックスユニット10を設け、該インデックスユニット10の前記各アーム11を回転及び上下動させてその先端に前記LED素子3を吸着しつつ、該LED素子3の位置検出と特性の検査、各ランク毎の整列及びシートへの貼付を順次行うよう構成する。 (もっと読む)


【課題】レチクルの変形を最小限に抑えることができるレチクル支持機構を提供し、レチクルの検査装置を提供する。
【解決手段】レチクル104を支持するレチクル支持機構1を、レチクル支持台102とレチクル支持台102上に載置された中間部材103とを有して構成し、レチクル支持台102が中間部材103を介してレチクル104支持するように構成する。レチクル支持台102は、レチクル104の隣接する2隅を使用して2点でレチクル104を支持し、中間部材103を1点で支持する。中間部材103は、レチクル104の上述の2隅とは異なる2つの隅を使用してレチクル104を支持する。このレチクル支持機構1を使用して検査装置100を構成する。 (もっと読む)


【課題】検査ステージに載置される基板の貼り付きを防止する。
【解決手段】凹凸状のステージ手2の基板保持部201〜214の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターン29を複数設け、基板と載置面との接触面積を小さくする。ピン状パターン29を基板保持部の全表面に渡って設け、基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数設ける。真空吸着及び圧空用の穴を基板のサイズに合せその4隅に対応付けて配置する。ピン逃げ穴を千鳥配置とする。基板保持部の基板載置面にプール状窪み部を設け、そこに真空吸着用穴と圧空用穴を設ける。 (もっと読む)


【課題】発熱源を有し、真空槽内で移動する移動体を常時効率よく冷却することができ、メンテナンスに手間がかからない真空処理装置を提供することである。
【解決手段】真空槽1の床に敷設された軌道3に沿わせた凹溝9の底に設けた磁性体の受熱部1bと、これと対向するように移動体としてのロボット2側に設けた放熱部2bとの間に満たした磁性流体11を、放熱部2bに設けたリニアモータの2次磁極としての永久磁石4と受熱部1bの磁性体の間に発生する磁束に吸着して、受熱部1bと移動体側の放熱部2bとの間に保持することにより、放熱部2bの熱を磁性流体11を介して受熱部1bに伝達して、真空槽1内で移動する移動体を常時効率よく冷却でき、かつ、メンテナンスに手間がかからないようにした。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハをステージ上に配置する際、確実に位置決め精度を向上させることができる技術を提供する。
【解決手段】本発明における位置決めガイドPAGがリング形状をしているため、半導体ウェハの外縁部全体にわたって位置決めガイドPAGで保持することができる。このことから、たとえ、半導体ウェハの外縁部の一部に割れやカケが存在していても、本発明における位置決めガイドPAGによれば、半導体ウェハを確実に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】EUV露光装置内でのウェハー割れを防ぐ薬液塗布装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の薬液塗布装置101は、基板の主表面上に薬液を塗布する薬液塗布ユニット102と、前記基板の裏面全体への異物の付着状態を検査する検査ユニット104と、前記検査ユニット104による検査結果に基づいて前記基板を良品として外部に搬出するか否かを判定する制御ユニット114と、を備える。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で静電チャックの吸着面に対するウェハの載置状態を判定する。
【解決手段】試料に対して一次荷電粒子線を照射する機能を備えた荷電粒子線装置において、試料を吸着させる静電チャックに、斜孔或いは切り欠きを設ける。また、当該斜孔或いは切り欠きを斜光した光軸が通過するように一対の投光器および受光器を配置する。さらに、受光器の出力信号を用いて静電チャックに対する試料の載置状態を判定する制御部を設ける。制御部は、試料が昇降部により下降し、光軸を試料が遮光した時の受光器の出力信号を用いて、試料の載置状態を判定する。 (もっと読む)


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