【課題】直交２方向への２つのスライダを上下に階層し、下方のスライダとステージとの間にテンション部材を介装した場合に、上方のスライダの撓みを低減して上方のスライダに沿ったステージの移動誤差を小さくすることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】（下方の）第１スライダ１２とステージ３０との間に介装されたテンション部材６１Ａ、６１ＢのＺ軸方向への取付位置、即ちテンション部材６１Ａ、６１Ｂによるステージ３０の支持高さを調整可能とすることで、（上方の）第２スライダ１３に係るステージ３０の荷重配分を調整可能とし、ステージ３０が重い（質量が大きい）ほど、テンション部材６１Ａ、６１Ｂの取付位置（高さ）を上方向とすることで、第２スライダ１３に係るステージ３０の荷重配分を小さくすることができ、これにより第２スライダ１３に生じる撓みを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】微動ステージと粗動ステージとの衝突時の衝撃を緩和する。
【解決手段】 例えば、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、及び微動ステージ５０がＸ軸方向に移動している際にその位置制御が不可能になると、主制御装置は、複数のＸリニアモータ２０ａ〜２０ｈ、及び複数のＸボイスコイルモータ１８ｘに対する電力供給を停止するとともに、複数の複数のＸボイスコイルモータ１８ｘのダイナミックブレーキを作動させ、所定時間経過後、複数のＸリニアモータ２０のダイナミックブレーキを作動させる。 （もっと読む）

【課題】ステージの重力方向の駆動に伴う振動が外部に伝達されるのを抑制することが可能なカウンタマス装置を提供する。
【解決手段】このカウンタマス装置１００は、ステージ取付部１１にバネ部材２を介して懸架されたカウンタマス部３と、アクチュエータ固定部１２に設置され、カウンタマス部３に重力方向の推力を付与する磁気浮上ユニット６と、カウンタマス部３に設けられたステージ駆動部５と、ステージ駆動部５により重力方向に駆動されるステージ部４と、ステージ駆動部５によりステージ部４を重力方向に駆動する際の推力の反力に起因してカウンタマス部３が重力方向に移動する時に発生するバネ部材２の復元力を相殺する方向の推力を、磁気浮上ユニット６に発生させるように制御する制御部７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】さまざまなタイプのモータを同一の可動物体の作動のために使用でき、かつそのようなモータの使用による望ましくない効果を回避するアクチュエータ構成および制御を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのリラクタンスモータを介して所定の自由度で変位可能な位置決め装置を制御する制御システムが、少なくとも１つの力感知素子と、リラクタンスモータによって加えられた力の量を感知する対応する力感知素子からの出力に基づいて、リラクタンスモータによって加えられた力の量を調整するコントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】微動ステージの走査方向の微小駆動のモータ容量の低減を図り、微動ステージ部および粗動ステージの小型軽量化とともに、粗動ステージと微動ステージの磁気浮上により非接触支持を実現し、ステージの高速化、高精度な６自由度制御を可能にするステージ装置を提供する。
【解決手段】粗・微動構成のステージにおいて、微動ステージ５（図１、図２、図４、図５）側にも粗動駆動の機能を付加すべく微動ステージの微動水平２軸に粗動の１軸を加えて３軸とし、粗動ステージ４（図１、図２、図４、図６）に同期して走査（Ｙ軸）方向の粗動駆動を行わせべく粗動ステージの走査軸と微動ステージの粗動１軸とを同期走査させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】露光装置で基板を載置するステージの位置制御を担うアクチュエーターにおいては、ボールスクリュウ装置が採用されているが、該ボールスクリュウの軸方向の最小の移動距離を、ねじピッチの加工限界で規定される値以下にする技術を提供すること。
【解決手段】少なくとも、フレーム及びフレームに水平可動に設置されたモーターと、
前記フレームに固定されたボールスクリュウＢ受け部と,外周部に前記ボールスクリュウＢ受け部と螺合するねじ部及び中心軸に平行に形成された円筒状開口部の内側面に形成されたボールスクリュウＡ受け部と、を有し前記モーターと連結するボールスクリュウＢと、前記ボールスクリュウＡ受け部と螺合するねじ部を有するボールスクリュウＡと、を有することを特徴とするアクチュエーター及びこれを備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】制御モデルの同定を最適化し、以ってフィードフォワード制御による高精度な位置制御を行う。
【解決手段】制御対象物の制御特性を表すモデルを用いた完全追従制御により前記制御対象物をフィードフォワード制御するフィードフォワード制御手段を備えた制御装置において、前記モデルは、前記制御対象物の周波数応答曲線における第１の変曲点が周波数１０Ｈｚより低い領域に存在し、且つ、第２の変曲点が前記第１の変曲点の周波数より高く周波数１０Ｈｚより低い領域に存在している場合に、前記第１及び第２の変曲点を含む周波数範囲において前記周波数応答曲線との誤差が最小となるようにモデルパラメータが設定されている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも２つの移動体を精度よく同期移動させる移動体装置を提供する。
【解決手段】移動体装置が、制御対象３０１の目標軌道に基づいて制御対象３０１の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部１０２及びフィードバック制御部１０３からなる第１の２自由度制御部１００と、制御対象３０１の少なくとも位置及び速度に関する値を含んだ状態を推定する状態推定部１０４と、制御対象３０１の状態と制御対象３０１の目標軌道との偏差を算出する偏差演算部１０７と、制御対象３０２の目標軌道に前記偏差を加算した軌道に基づいて制御対象３０２の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部２０２及びフィードバック制御部２０３からなる第２の２自由度制御部２００と、を備える。 （もっと読む）

【目的】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、空気揺らぎと気圧、温度、湿度を含めた環境の変化による測長誤差を補正できるＸＹステージ装置を提供する。
【構成】ＸＹ方向に移動するステージと、このステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、このステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、を有することを特徴とするＸＹステージ装置。そして、測長光路筒機構が、レーザー干渉計に固定される固定筒と、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備えることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置で処理される基板のより正確な位置決めを可能にする、リソグラフィ装置用の位置決めデバイスを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。この装置はさらに、基板テーブルを位置決めする位置決めデバイスであって、第１の方向に実質的に垂直な平面内に実質的に方向付けられる力を作用させて基板テーブルを位置決めする複数のアクチュエータを含み、複数のアクチュエータが、中央領域を前記第１の方向に沿って投影することにより得られる基板テーブルの中央容積の外側に配置される、位置決めデバイスを含む。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】
位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の物体テーブルを位置決めするためのデバイスを利用したデバイス製造方法。
【解決手段】物体テーブル３０を位置決めするためのデバイスは、物体テーブル３０を第１の方向に支持するためのフレームと、第１の力を第１の方向に実質的に直角の第２の方向から物体テーブル３０に付与し、第２の力を第１の方向及び第２の方向に実質的に直角の第３の方向から物体テーブル３０に付与するように構築され、且つ、配置されたモータ・ユニット３５、３６とを備えている。モータ・ユニット３５、３６は、第２の部品４０、４１と協働して第１及び第２の力を生成するように構築され、且つ、配置された第１の部品３８、３９を備えており、第１の力及び第２の力の両方が実質的に物体テーブル３０の重心を通る方向に物体テーブル３０の上に配置される。 （もっと読む）

【課題】用力ケーブルから露光動作中のステージに伝達される振動を低減し、ステージ位置決め精度の劣化および解像力の劣化を低減する露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクを移動させるマスクステージ２０と、ウエハ等の基板を移動させるプレートステージ３０と、前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、前記マスクステージおよび前記プレートステージの少なくとも１つと本体構造体２とを反力板３と複数の用力ケーブル１を含むムービングケーブルで接続すると共に、前記複数の用力ケーブルの間に振動を減衰する減衰材５を介在し、ステージ駆動時に前記反力板に発生する振動を減衰することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】効率的に温度調整が可能なモータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】固定子７４Ａの冷却装置８２は、カバー部材８３と、第１材料層８４と、供給装置と、回収装置と、分離装置とを有している。冷却装置８２は、吸熱化学反応を起こす第１材料及び第２材料を用いてコイルジャケット８１を冷却するものである。具体的には、第１材料と第２材料とをコイルジャケット８１の周囲で反応させ、反応によって生じる吸熱作用によってコイルジャケット８１を冷却する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイエラー及び／又は結像の問題が低減されたリソグラフィ装置を提供する。モータ定数の変動が低減されたローレンツアクチュエータを提供する。
【解決手段】
リソグラフィ装置は、該装置の第１及び第２の部分の間に第１の方向に力を発生させるように構成され、各々が該装置の第１の部分に逆向きに取り付けられた第１の磁石アセンブリと、第２の磁石アセンブリとを含むアクチュエータを含み、第１の磁石アセンブリが、第１の主磁石システムと第１の副磁石システムとを含み、第２の磁石アセンブリが、第２の主磁石システムと第２の副磁石システムとを含み、第１及び第２の主磁石システムが、それらの間に第１の方向に実質的に垂直な第２の方向に空間を画定する。アクチュエータは、第２の部分に取り付けられたコイルを含む。第１の副磁石システムの少なくとも一部と第２の副磁石システムの少なくとも一部との間の距離は、第１の主磁石システムと第２の主磁石システムとの間の最小距離より小さい。 （もっと読む）

【課題】 １台のリニアモータでＸＹ２軸の駆動を行うためのアクチュエータ体格を小さくし、Ｙ軸の単相コイルにおける推力発生に寄与しない導線長を極力抑え、損失が小さく、製作コストが安価なＸＹ軸コアレスリニアモータおよびステージ装置を提供する。
【解決手段】ＸＹ軸コアレスリニアモータにおける界磁１は、２つの平板状の界磁ヨーク１ａに等ピッチで交互に極性が異なる複数のＸ軸永久磁石１ｃをそれぞれ配置した第１磁石列を含み、さらに第１磁石列の上部に、該第１磁石列の界磁ヨーク１ａの長手方向と直交する向きに交互に極性が異なる２個のＹ軸永久磁石１ｄを、界磁ヨーク１ａの長手方向に沿って並べるよう第２磁石列として配置している。該界磁の第１磁石列に対向するようにＡＣ３相コイル２ｂよりなる第１電機子コイル列を配置し、該第２磁石列と対向する位置に第１電機子コイル列の長手方向と直交する向きに単相コイルを配置してある。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな力及び／又はトルクに、好ましくはＸはりの外部寸法を変更する必要なく対処可能なベアリングを有する、リソグラフィ装置用の位置決めデバイスを提供する。
【解決手段】オブジェクトサポートを位置決めするオブジェクトサポート位置決めデバイス１は、第１、第２、および第３のスライダのうち少なくとも１つのスライダ内に流体ベアリングが設けられ、流体ベアリングは、少なくとも１つのスライダの摺動方向に垂直である第１の方向に反力を作用させるための複数のベアリング面を含む。 （もっと読む）

【課題】静止安定性を有する位置決め装置。
【解決手段】スライド装置１００は、ガイドレール１０６と、前記ガイドレール１０６に沿って移動するスライダ１０８と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により浮かせて支持する浮遊支持状態と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により圧接させて支持する圧接支持状態とに切り替え可能なエアベアリング１１０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重量が大きな移動体に対しても各種機器に悪影響を与えることなく駆動時のガイド精度を確保する。
【解決手段】移動体２を支持して第１方向Ｙに移動する可動子７５Ａと、可動子を第１方向に沿って駆動する固定子７４Ａとを有する。磁力により可動子に対して第１方向と交差する第２方向Ｚに作用する力を発生させて、可動子と固定子とを非接触状態とする第１駆動装置７８と、可動子と固定子との相対位置に応じて、可動子に対して第２方向に作用する電磁力を発生させ、可動子の第１方向への移動に伴う第１駆動装置の駆動に関する較正に用いられる第２駆動装置７９とを有する。 （もっと読む）

【課題】露光のスループットが向上した露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（１０）は、光学系（１８)、マスクステージ装置（２２)、基板ステージ装置（２４)、及び制御システム（２８)を備える。基板（１４）は、互いに隣接し且つ第１軸に沿って互いに並ぶ第１領域と第２領域とを有する。光学系（１８）は、マスク（１２)を照射する照射ビーム（３５）を生成する。マスクステージ装置（２２）は、照射ビーム（３５）に対して、マスク（１２）を保持し且つ位置付ける。基板ステージ装置（２４）は基板（１４)を保持し且つ位置付ける。制御システム（２８）は、光学系（１８）と基板ステージ装置（２４）とを制御して、基板ステージ装置（２４）が第１軸に沿う第１マスク方向に基板（２４）を移動させる期間中に、マスクパターンが第１領域と第２領域とに順次的に転写される。 （もっと読む）