【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板を保持する第１保持部１５と、第１保持部１５の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面が対向可能なスケール部材Ｔと、を有し、所定面内を移動可能な基板ステージ２Ｐと、所定面内を移動するスケール部材Ｔの表面が対向可能な位置に配置され、スケール部材Ｔの表面の異物を除去可能な除去部材を有する除去装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】物体に設けられた複数のマークをより短時間に高精度に検出する。
【解決手段】ウエハマークの位置を検出するマーク検出方法であって、複数のアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２１〜ＡＬ２４の検出領域に対してウエハＷを移動中に、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２１〜ＡＬ２４とウエハＷの表面とのデフォーカス量を計測し、この計測結果に基づいてウエハＷの面位置及び傾斜角の少なくとも一方を制御し、ウエハマークＷＭＣ１，ＷＭＡ１，ＷＭＤ１がアライメント系ＡＬ２２，ＡＬ１，ＡＬ２３の検出領域内に達したときに、ウエハＷを静止させて、アライメント系ＡＬ２２，ＡＬ２３で対応するウエハマークＷＭＣ１，ＷＭＤ１の位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット１０は、マスクＭを保持するマスクステージ２１と、フラットパネルディスプレイ用基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ保持する第１及び第２のワークチャック２２，２３を備える基板ステージ２４と、第１及び第２のワークチャック２２，２３に保持された基板Ｗ１，Ｗ２がマスクＭと対向するように、第１及び第２のワークチャック２２，２３を同期して移動可能なステージ移動機構２５と、マスクＭを介して基板Ｗ１，Ｗ２に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置１１と、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持し、且つ、第１及び第２のワークチャック２２，２３に対して基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出可能な第１及び第２の搬送装置１２，１３と、基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第１及び第２の搬送装置１２，１３を制御する制御部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現在進行中のワークの搬送行程を表示し、搬送装置の停止からの復旧処理を柔軟に行うことができる表示装置及び搬送システムを提供する。
【解決手段】タッチパネルは、基板Ｗを搬送する搬送装置の動作状態を表示する表示装置であって、搬送装置は、基板Ｗを支持し駆動するワーク駆動部を複数備え、各ワーク駆動部の協働により基板Ｗを移動させるものであり、搬送装置による基板Ｗの搬送行程に含まれる行程を、第１〜第５ブロックとして設定すると共に、どのブロックが搬送装置で現在進行中であるかを表示し、更に同時に、現在進行中のブロックにおける更に詳細な進行状況として、ワーク駆動部の各動作を１動作ごとに表示する。 （もっと読む）

【課題】カスタマイズ性を高め、且つ安定してシャフトモータを冷却することができるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｙ軸移動体４と、Ｘ軸固定子５１及びＸ軸可動子５２を有しＸ軸移動体６を駆動するためのＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸固定子３１及びＹ軸可動子３２を有しＹ軸移動体４を駆動するためのＹ軸シャフトモータ３と、Ｘ軸可動子５２及びＹ軸可動子３２における外周面の一又は複数の領域に対して選択的に着脱可能な冷却ジャケット８Ａ，９Ａと、チューブｔとを備えている。これにより、周囲に配置された部品が干渉しない領域に選択的に冷却ジャケット８Ａ，９Ａを着脱することができる。さらに、Ｘ軸シャフトモータ５及びＹ軸シャフトモータ３の発熱量に合わせて冷却ジャケット８Ａ，９Ａを取り付ける領域を適宜選択し、冷却量を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】安定してＹ軸移動体を移動させることができるステージ装置を提供すること。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｘ軸固定子５１、及びＸ軸可動子５２を有するＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸移動体４と、Ｙ軸固定子、及びＹ軸可動子を有するＹ軸シャフトモータ３とを備え、Ｘ軸固定子５１の一端部５１ａが第１Ｙ軸移動体４ａに固定され、Ｘ軸固定子５１の他端部５１ｂが第２Ｙ軸移動体４ｂにＸ軸固定子５１のＸ軸方向の伸長を許容するように連結されている。これにより、Ｘ軸移動体６の駆動に伴いＸ軸固定子５１が熱膨張した場合に、Ｘ軸固定子５１の伸長が他端部５１ｂ側で解放される。 （もっと読む）

【課題】型（モールド）の倍率補正を高精度に実施する点で有利な保持装置を提供する。
【解決手段】インプリント用の型７を保持する保持装置３は、型７を引きつけて保持する複数の吸着部２３と、複数の吸着部２３を支持する支持部１５とを含むチャック１１と、支持部１５に支持され、力を加えて型７を変形させるアクチュエーター３２と、を有し、吸着部２３の少なくとも１つは、アクチュエーター３２により加えられる力の方向に変位可能に支持部１５に支持されている。 （もっと読む）

【課題】作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２を平坦な載置面４０ｂ上で保持する吸着ステージ（４０）であって、載置面４０ｂに対する対象ワーク２２の姿勢を固定すべく対象ワーク２２を吸着可能な固定吸着機構６０と、載置面４０ｂと面当接させるべく対象ワーク２２を吸着可能な平面吸着機構７０と、を備え、平面吸着機構７０は、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１を有し、載置面４０ｂ上における任意の一点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔７１による吸着動作を開始する。 （もっと読む）

【課題】変位量への換算を迅速に処理する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小スポットとして投射する。シリンドリカルレンズユニット２１は、曲率半径の異なる２つのシリンドリカルレンズ３０，３１をもっており、それぞれに被検面２３ａで反射した反射光束に異なる量の非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２４は、受光面から得られる出力信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。選択部３３は、被検面２３ａの検出範囲に応じて、いずれか一方のシリンドリカルレンズ３０，３１を光路上にセットするように移動機構２２を制御する。 （もっと読む）

【課題】真空吸着によりワークを吸着保持するワークステージにおいて、中央部が凸に変形したワークであっても、その反りを矯正して全面で吸着保持できるようにすること。
【解決手段】ワークＷが搬送されると、ピン５ａが上昇し、ワークＷを受け取りピン５ａが下降する。これによりワークＷはワークステージ上４に置かれる。ピン５ａとともに鍔部材７も下降し、鍔部材７の下面が蓋部材６の上面に密着する。鍔部材７と蓋部材６が密着することにより、ワークステージ４の貫通孔４ｃは閉じられる。この状態で、真空吸着孔４ｂに真空が供給されると、ワークＷとワークステージ４の間の空間は減圧し、ワークＷはワークステージ４に吸着保持される。ピン５ａが下降したとき鍔部材７と蓋部材６により貫通孔４ｃが閉じるので、貫通孔４ｃを通って大気が流入せず、ワークＷが椀を伏せたように変形していたとしても確実にワークＷを吸着保持することができる。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 パターンの重ね合わせ精度の低下及び露光量の均一性の低下を抑制した走査露光装置を提供する。
【解決手段】 原版９と基板８とを走査しながら前記基板の複数のショット領域を露光する走査露光装置は、前記基板を保持して移動するステージ１０と、前記ステージの移動を規定する駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部１５と、を備える。前記駆動プロファイルのうち少なくとも１つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供する。
【解決手段】 液体を介して基板を露光する露光装置であって、複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える。前記封止材としては、細長状のフッ素樹脂製チューブ、テープ及び外側の面にフッ素樹脂層が設けられた金属箔からなる管を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥは、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、を備える。第１及び第２基板ステージ１１，１２は、基板保持部３１と、基板保持部３１の上面から進退自在に配置される複数のピン３２と、を有する。基板保持部３１と基板ステージ移動機構３９との間には、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を弾性支持可能な空気ばね４６と、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を固定支持可能な電磁石４７と、振動計４８が配置される。 （もっと読む）

【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを複数用意し、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５に対して着脱可能とし、基台５に、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄの内の一つを装着してワークステージ４を構成する。ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５から分離し、例えばワークトレイ６Ａに複数のワークＷを載せて基台５上に置き、ワークＷに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部１からの光をマスクＭを介してワークＷに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ６ＡのワークＷの露光処理をしている間に、他のワークトレイ６Ｂ〜６Ｄ上に未処理のワークＷを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ６Ａを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ６Ｂ〜６Ｄを基台５に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ６Ａから露光済みのワークＷを回収する。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置決めに有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース部と、ＸＹ平面に沿って移動可能なテーブルと、Ｙ軸方向に沿った前記第１の端面の位置を計測する第１のＹ軸干渉計２２２と、前記Ｙ軸方向に沿った第２の計測光路を有する第２の端面の位置を計測する第２のＹ軸干渉計２２４と、前記第１のＹ軸干渉計及び前記第２のＹ軸干渉計から前記ＸＹＺ座標系のＸ軸方向に離間して、且つ、前記Ｙ軸方向に沿った第３の計測光路を有する第３のＹ軸干渉計２２８と、前記第１のＹ軸干渉計の計測値、前記第２のＹ軸干渉計の計測値及び前記第３のＹ軸干渉計の計測値に基づいて前記テーブルの変形量を求め、前記変形量に基づいて目標位置を補正した補正目標位置を求め、前記第１のＹ軸干渉計の計測値と前記第２のＹ軸干渉計の計測値から求まる前記テーブルの位置が前記補正目標位置に位置するように前記テーブルを位置決めする制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の設置床面積を小さくすることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 光学エンジン３１と、軌道９Ｒｂと軸受け９Ｒａとからなる直線案内装置９Ｒにより第１のＸテーブル５Ｒ上をＹ方向に移動自在な第１のＹテーブル２０Ｒとからなり、該軸受け９Ｒａが該第１のＹテーブル２０ＲのＹ方向の長さの１／２未満を支持する第１のＸＹテーブルＲと、光学エンジン３１のＹ方向の左側に配置され、光学エンジンのＹ方向に垂直な対称面Ｐに関して第１のＸＹテーブルＲと構成が対称である第２のＸＹテーブルＬと、を設け、第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを露光位置に位置決めしたときに第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを支持する、実質的な支持端（端面９Ｒａ１ｆ）が、対称面Ｐから１０ｍｍ以下になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）