露光方法及び露光装置
【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体、液晶パネルの製造に用いられる露光装置に関し、特に、ステージの位置決めに関する技術分野となる。
【背景技術】
【０００２】
投影露光装置は、マスクを保持するマスクステージと基板を保持するプレートステージの相対位置を一定に保ちながら、マスクに描画されたパターンを投影光学系により基板に投影している。マスクステージとプレートステージの位置は、剛性の高い本体構造体上に取付けられたレーザ干渉計によりそれぞれ計測され、リニアモータ等の駆動装置によりステージ間の相対位置を制御している。ここで、マスクステージとプレートステージを支持している本体構造体は、ステージが移動する際に荷重移動やステージ加速反力により弾性変形を生じる。このように本体構造体に弾性変形が生じた場合、マスクステージとプレートステージの干渉計支持台と投影光学系間の距離が変動してマスクと基板の相対位置に誤差が発生し、投影位置の再現性を悪化させる。上記本体構造体の弾性変形を抑制するためには、本体構造体の剛性を高める必要があるが、その場合は本体構造体の更なる大型化を招き、装置重量および製作コストと運搬コストが増大する。
【０００３】
上記問題に対し、本体構造体の弾性変形により発生するステージの相対位置誤差を抑えるための従来技術として、干渉計支持台と投影光学系間を計測するレーザ干渉計を備えた露光装置(特許文献１、特許文献２)がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２２８３８２号公報
【特許文献２】特開２００４−２２８３８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
マスクステージとプレートステージを支持している本体構造体は、ステージが移動する際に荷重移動やステージ加速反力により弾性変形を生じる。この本体構造体の弾性変形は投影位置の再現性を悪化させるため、小さく抑える必要がある。しかし、近年では、露光装置の生産性向上を目的として、スループットの向上や基板の大型化が進んでいるため、本体構造体がより大型化して構造が複雑となる傾向がある。そのため、本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計の物理的な配置が困難な場合があり、レーザ干渉計支持台や投影光学系に局所的な弾性変形が存在すると、ステージの相対位置誤差を正確に計測することができないという問題がある。また、レーザ干渉計の追加により、調整工程の増加やコストの増加を招くという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は、本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一般的に露光装置は、マスクを保持するマスクステージと、基板を保持するプレートステージと、前記マスクステージと前記プレートステージの位置を計測するレーザ干渉計と、前記レーザ干渉計の計測結果に基づいて前記マスクステージと前記プレートステージの位置を制御する制御演算器および駆動装置と、マスクに描画されたパターンを基板に投影する投影光学系とで構成されている。本発明では、本体構造体上のレーザ干渉計支持台と前記投影光学系にそれぞれの傾き量を計測する傾斜角計を配置して、該計測結果から前記マスクステージと前記プレートステージの相対位置誤差を補正することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図２】本発明の第１実施形態の位置補正ブロック図である。
【図３】本発明の第２実施形態の露光装置を示した図である。
【図４】本発明の第２実施形態の位置補正ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
〔第1実施形態〕
図１は本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。図１では、本発明の露光装置をＹ軸方向に見た側面図であり、ステージ移動により本体構造体が変形した場合の状態を示している。
【００１１】
図１において、マスク２を保持したマスクステージ４と、基板３を保持したプレートステージ５と、投影光学系６は、それぞれを保持する構造体に連結され、本体構造体７に支持されている。また、マスクステージ４は、マスクステージＸ軸干渉計の支持台９に取付けられたマスクステージＸ軸干渉計８によりＸ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるマスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ１０(ａ),１０(ｂ)に出力してＸ位置決め制御を行う。同様に、プレートステージ５は、プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台１３に取付けられたプレートステージＸ軸干渉計１１によりＸ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ１４に出力してＸ位置決め制御を行う。また、プレートステージＹ軸回り(θｙ)干渉計１２によりＹ軸回り(θｙ)位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力してθｙ位置決め制御を行う。
【００１２】
マスクステージＸ軸干渉計の支持台９と、プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台１３と、投影光学系６には、それぞれにＹ軸回りの回転を計測する傾斜角計１７(ａ) , １７(ｂ) , １７(ｃ)が取付けられている。
【００１３】
ここで、上記傾斜角計は振り子を中立位置に制御するサーボ式センサである。重力に対してセンサケースが傾いたときに、振り子が中立位置を保つように、内蔵したモータにトルクを発生させることで、傾斜角に比例した信号を出力する。
【００１４】
ステージ移動により本体構造体が変形した場合、本体構造体の弾性変形により、Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量２１と、Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量２２と、Ｙ軸回りの投影光学系回転量２３が発生する。このとき、投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差２４(Δｍｓｘ）と、投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差２５（Δｐｓｘ）は、
【００１５】
【数１】
【００１６】
で表される。
【００１７】
但し、(1)、(2)において、ＬｍｓｘはマスクステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離１８、θｍｓｘ１，θｍｓｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ａ)の計測値(Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台角度)、ＬｐｓｘはプレートステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離１９、θｐｓｘ１，θｐｓｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ｂ)の計測値(Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台角度)、θｕｍｘ１，θｕｍｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ｃ)の計測値(Ｙ軸回りの投影光学系角度)である。
【００１８】
式(1),式(2)から、投影光学系６に対して、マスクステージ４とプレートステージ５のＸ軸相対位置誤差（Δｍｐｓｘ）は、
【００１９】
【数２】
【００２０】
で表されるので、プレートステージＸ軸の位置補正量２６は−Δｍｐｓｘとなる。
【００２１】
ここで、(3)において、Ｘ軸方向に対してはマスク２と基板３の像は投影光学系６によって反転されるため、マスクステージ４とプレートステージ５の相対位置誤差（Δｍｐｓｘ）は、投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差２４（Δｍｓｘ）と、投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差２５（Δｐｓｘ）の差分となっている。また、(1),(2)では、各干渉計と投影光学系を支持する本体構造体の距離を一つのパラメータとしているが、干渉計支持台が複数の構造体部品で構成されていて、局所的な弾性変形が存在する場合は、傾斜角計をそれぞれの構造体部品に複数個取付けて、(1),(2)と同様にして、複数の算出式の総和から相対位置誤差を算出してもよい。
【００２２】
図２(ａ)にマスクステージとプレートステージのＸ位置補正ブロック図を示す。マスクステージ４のＸ軸は、制御演算器16にマスクステージＸ軸位置補償器２９を備えており、その推力指令値をマスクステージＸ軸駆動装置３０からマスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ１０(ａ),１０(ｂ)に出力している。また、プレートステージ５のＸ軸も同様に、制御演算器16にプレートステージＸ軸位置補償器３２を備えており、その推力指令値をプレートステージＸ軸駆動装置３３からプレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ１４に出力している。ここで、傾斜角演算器３４(ａ),３４(ｂ),３４(ｃ)と補正ゲイン３５(ａ),３５(ｂ)を介して、前記(3)から算出したプレートステージＸ軸の位置補正量２６（−Δｍｐｓｘ）をプレートステージＸ軸位置指令に足し込んで補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりマスクステージ４とプレートステージ５にＸ軸相対位置誤差が発生した場合でもその位置誤差を補正することができる。また、図２(ａ)においては、プレートステージＸ軸位置を補正しているが、マスクステージＸ軸位置を補正しても良いし、または、マスクステージＸ軸位置に−Δｍｓｘ、および、プレートステージＸ軸位置にΔｐｓｘを個別に補正しても良い。更に、複数の干渉計によりマスクステージ４、または、プレートステージ５のX軸方向を計測している場合も、複数の干渉計支持台に傾斜角計を取付けて相対位置誤差を算出してもよい。
【００２３】
また、図１において、Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量２２と、Ｙ軸回りの投影光学系回転量２３によって、プレートステージ５と投影光学系６間にＹ軸回り(θｙ)の相対位置誤差が発生する。特に、プレートステージ５のＸ位置が投影光学系６の露光中心からずれていると、その場合は投影光学系６に対してＺ軸方向に相対位置誤差が発生し、フォーカスずれが発生する。このときの相対位置誤差（Δθｙ）は、
【００２４】
【数３】
【００２５】
で表されるので、プレートステージＹ軸回りの回転位置補正量２７は、（−Δθｙ）となる。
【００２６】
図２(ｂ)にプレートステージのθｙ位置補正ブロック図を示す。プレートステージ５のθｙ軸は、プレートステージθｙ軸位置補償器３７を備えており、その推力指令値をプレートステージθｙ軸駆動装置３８からプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力している。ここで、傾斜角演算器３４(ｃ),３９と補正ゲイン４０を介して、前記(4)から算出したプレートステージＹ軸回りの回転位置補正量２７（−Δθｙ）をプレートステージθｙ位置指令に足し込んで、プレートステージ５と投影光学系６の相対位置誤差を補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりプレートステージ５と投影光学系６のθｙ軸相対位置誤差が発生した場合でも、その位置誤差を補正することができる。
【００２７】
このようにプレートステージ５のＸ軸とθｙ軸位置を補正することで、ステージ移動により本体構造体７に弾性変形が発生した場合でも、マスクステージ４と、プレートステージ５と、投影光学系６のＸ軸とθｙ軸の相対位置誤差を抑えることが可能である。
【００２８】
〔第２実施形態〕
第１実施形態では、マスクステージ４のＸ軸とプレートステージ５のＸ軸とθｙ軸に関する位置補正について記載したが、マスクステージ４のＹ軸とプレートステージ５のＹ軸とθｘ軸に関しても全く同様にして補正することが出来る。
【００２９】
図３は本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。図３では、本発明の露光装置をＸ軸方向に見た側面図であり、ステージ移動により本体構造体が変形した場合の状態を示している。
【００３０】
図３において、マスク２を保持したマスクステージ４と、基板３を保持したプレートステージ５と、投影光学系６は、それぞれを保持する構造体に連結され、本体構造体７に支持されている。また、マスクステージ４は、マスクステージＹ軸干渉計の支持台４２に取付けられたマスクステージＹ軸干渉計４１によりＹ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるマスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ４３に出力してＹ位置決め制御を行う。同様に、プレートステージ５は、プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台４６に取付けられたプレートステージＹ軸干渉計４４によりＹ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ４７に出力してＹ位置決め制御を行う。また、プレートステージＸ軸回り(θｘ)干渉計４５によりＸ軸回り(θｘ)位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力してθｘ位置決め制御を行う。
【００３１】
マスクステージＹ軸干渉計の支持台４２と、プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台４６と、投影光学系６には、それぞれにＸ軸回りの回転を計測する傾斜角計４８(ａ) ,４８(ｂ) ,４８(ｃ)が取付けられている。
【００３２】
ここで、上記傾斜角計は振り子を中立位置に制御するサーボ式センサである。重力に対してセンサケースが傾いたときに、振り子が中立位置を保つように、内蔵したモータにトルクを発生させることで、傾斜角に比例した信号を出力する。
【００３３】
ステージ移動により本体構造体が変形した場合、本体構造体の弾性変形により、Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量５２と、Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量５３と、Ｘ軸回りの投影光学系回転量５４が発生する。このとき、投影光学系に対するマスクステージＹ軸の相対位置誤差５５（Δｍｓｙ）と、投影光学系に対するプレートステージＹ軸の相対位置誤差５６（Δｐｓｙ）は、
【００３４】
【数４】
【００３５】
で表される。
【００３６】
但し、(5)、(6)において、ＬｍｓｙはマスクステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離４９、θｍｓｙ１，θｍｓｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ａ)の計測値(Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台角度)、ＬｐｓｙはプレートステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離５０、θｐｓｙ１，θｐｓｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ｂ)の計測値(Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台角度)、θｕｍｙ１，θｕｍｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ｃ)の計測値(Ｘ軸回りの投影光学系角度)である。
【００３７】
式(5),式(6)から、投影光学系６に対して、マスクステージ４とプレートステージ５のＹ軸相対位置誤差（Δｍｐｓｙ）は、
【００３８】
【数５】
【００３９】
で表されるので、プレートステージＹ軸の位置補正量５７は−Δｍｐｓｙとなる。
【００４０】
ここで、(5),(6)では、各干渉計と投影光学系を支持する本体構造体の距離を一つのパラメータとしているが、干渉計支持台が複数の構造体部品で構成されていて、局所的な弾性変形が存在する場合は、傾斜角計をそれぞれの構造体部品に複数個取付けて、(5),(6)と同様にして、複数の算出式の総和から相対位置誤差を算出してもよい。
【００４１】
図４(ａ)にマスクステージとプレートステージのＹ位置補正ブロック図を示す。マスクステージ４のＹ軸は、制御演算器16にマスクステージＹ軸位置補償器６０を備えており、その推力指令値をマスクステージＹ軸駆動装置６１からマスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ４３に出力している。また、プレートステージ５のＹ軸も同様に、制御演算器16にプレートステージＹ軸位置補償器６３を備えており、その推力指令値をプレートステージＸ軸駆動装置６４からプレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ４７に出力している。ここで、傾斜角演算器６５(ａ),６５(ｂ),６５(ｃ)と補正ゲイン６６(ａ),６６(ｂ)を介して、前記(7)から算出したプレートステージＹ軸の位置補正量５７（−ΔｍｐｓｙをプレートステージＹ軸位置指令に足し込んで補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりマスクステージ４とプレートステージ５にＹ軸相対位置誤差が発生した場合でもその位置誤差を補正することができる。また、図４(ａ)においては、プレートステージＹ軸位置を補正しているが、マスクステージＹ軸位置を補正しても良いし、または、マスクステージＹ軸位置に−Δｍｓｙ、および、プレートステージＹ軸位置に−Δｐｓｙを個別に補正しても良い。更に、複数の干渉計によりマスクステージ４、または、プレートステージ５のＹ軸方向を計測している場合も、複数の干渉計支持台に傾斜角計を取付けて相対位置誤差を算出してもよい。
【００４２】
また、図３において、Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量５３と、Ｘ軸回りの投影光学系回転量５４によって、プレートステージ５と投影光学系６間にＸ軸回り(θｘ)の相対位置誤差が発生する。特に、プレートステージ５のＹ位置が投影光学系６の露光中心からずれていると、その場合は投影光学系６に対してＺ軸方向に相対位置誤差が発生し、フォーカスずれが発生する。このときの相対位置誤差(Δθｘ）は、
【００４３】
【数６】
【００４４】
で表されるので、プレートステージＸ軸回りの回転位置補正量５８は、（−Δθｘ）となる。
【００４５】
図４(ｂ)にプレートステージのθｘ位置補正ブロック図を示す。プレートステージ５のθｘ軸は、プレートステージθｘ軸位置補償器６８を備えており、その推力指令値をプレートステージθｘ軸駆動装置６９からプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力している。ここで、傾斜角演算器６５(ｃ),７０と補正ゲイン７１を介して、前記(8)から算出したプレートステージＸ軸回りの回転位置補正量５８（−Δθｘ）をプレートステージθｘ位置指令に足し込んで、プレートステージ５と投影光学系６の相対位置誤差を補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりプレートステージ５と投影光学系６のθｘ軸相対位置誤差が発生した場合でも、その位置誤差を補正することができる。
【００４６】
このようにプレートステージ５のＹ軸とθｘ軸位置を補正することで、ステージ移動により本体構造体７に弾性変形が発生した場合でも、マスクステージ４と、プレートステージ５と、投影光学系６のＹ軸とθｘ軸の相対位置誤差を抑えることが可能である。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１：露光装置、２：マスク、３：基板、４：マスクステージ、５：プレートステージ、６：投影光学系、７：本体構造体、８：マスクステージＸ軸干渉計、９：マスクステージＸ軸干渉計の支持台、１０(ａ),１０(ｂ)：マスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ、１１：プレートステージＸ軸干渉計、１２：プレートステージＹ軸回り(θｙ)干渉計、１３：プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台、１４：プレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ、１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)：プレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ、１６：制御演算器、１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)：Ｘ軸回りの回転を計測する傾斜角計、１８：マスクステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、１９：プレートステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、２０：Ｘ軸相対誤差補正後のプレートステージ、２１：Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量、２２：Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量、２３：Ｙ軸回りの投影光学系回転量、２４：投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差、２５：投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差、２６：プレートステージＸ軸の位置補正量、２７：プレートステージＹ軸回りの回転位置補正量、２８：マスクステージＸ軸指令生成器、２９：マスクステージＸ軸位置補償器、３０：マスクステージＸ軸駆動装置、３１：プレートステージＸ軸指令生成器、３２：プレートステージＸ軸位置補償器、３３：プレートステージＸ軸駆動装置、３４(ａ),３４(ｂ),３４(ｃ)：傾斜角演算器、３５(ａ),３５(ｂ)：Ｘ軸相対誤差補正ゲイン、３６：プレートステージθｙ軸指令生成器、３７：プレートステージθｙ軸位置補償器、３８：プレートステージθｙ軸駆動装置、３９：Ｙ軸回りの傾斜角演算器、４０：θｙ軸相対誤差補正ゲイン、４１：マスクステージＹ軸干渉計、４２：マスクステージＹ軸干渉計の支持台、４３：マスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ、４４：プレートステージＹ軸干渉計、４５：プレートステージＸ軸回り(θｘ)干渉計、４６：プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台、４７：プレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ、４８(ａ),４８(ｂ),４８(ｃ)：Ｘ軸回りの回転を計測する傾斜角計、４９：マスクステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、５０：プレートステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、５１：Ｙ軸相対誤差補正後のプレートステージ、５２：Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量、５３：Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量、５４：Ｘ軸回りの投影光学系回転量、５５：投影光学系に対するマスクステージＹ軸の相対位置誤差、５６：投影光学系に対するプレートステージＹ軸の相対位置誤差、５７：プレートステージＹ軸の位置補正量、５８：プレートステージＸ軸回りの回転位置補正量、５９：マスクステージＹ軸指令生成器、６０：マスクステージＹ軸位置補償器、６１：マスクステージＹ軸駆動装置、６２：プレートステージＹ軸指令生成器、６３：プレートステージＹ軸位置補償器、６４：プレートステージＹ軸駆動装置、６５(ａ),６５(ｂ),６５(ｃ)：Ｘ軸回りの傾斜角演算器、６６(ａ),６６(ｂ)：Ｙ軸相対誤差補正ゲイン、６７：プレートステージθｘ軸指令生成器、６８：プレートステージθｘ軸位置補償器、６９：プレートステージθｘ軸駆動装置、７０：Ｘ軸回りの傾斜角演算器、７１：θｘ軸相対誤差補正ゲイン
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体、液晶パネルの製造に用いられる露光装置に関し、特に、ステージの位置決めに関する技術分野となる。
【背景技術】
【０００２】
投影露光装置は、マスクを保持するマスクステージと基板を保持するプレートステージの相対位置を一定に保ちながら、マスクに描画されたパターンを投影光学系により基板に投影している。マスクステージとプレートステージの位置は、剛性の高い本体構造体上に取付けられたレーザ干渉計によりそれぞれ計測され、リニアモータ等の駆動装置によりステージ間の相対位置を制御している。ここで、マスクステージとプレートステージを支持している本体構造体は、ステージが移動する際に荷重移動やステージ加速反力により弾性変形を生じる。このように本体構造体に弾性変形が生じた場合、マスクステージとプレートステージの干渉計支持台と投影光学系間の距離が変動してマスクと基板の相対位置に誤差が発生し、投影位置の再現性を悪化させる。上記本体構造体の弾性変形を抑制するためには、本体構造体の剛性を高める必要があるが、その場合は本体構造体の更なる大型化を招き、装置重量および製作コストと運搬コストが増大する。
【０００３】
上記問題に対し、本体構造体の弾性変形により発生するステージの相対位置誤差を抑えるための従来技術として、干渉計支持台と投影光学系間を計測するレーザ干渉計を備えた露光装置(特許文献１、特許文献２)がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２２８３８２号公報
【特許文献２】特開２００４−２２８３８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
マスクステージとプレートステージを支持している本体構造体は、ステージが移動する際に荷重移動やステージ加速反力により弾性変形を生じる。この本体構造体の弾性変形は投影位置の再現性を悪化させるため、小さく抑える必要がある。しかし、近年では、露光装置の生産性向上を目的として、スループットの向上や基板の大型化が進んでいるため、本体構造体がより大型化して構造が複雑となる傾向がある。そのため、本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計の物理的な配置が困難な場合があり、レーザ干渉計支持台や投影光学系に局所的な弾性変形が存在すると、ステージの相対位置誤差を正確に計測することができないという問題がある。また、レーザ干渉計の追加により、調整工程の増加やコストの増加を招くという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は、本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一般的に露光装置は、マスクを保持するマスクステージと、基板を保持するプレートステージと、前記マスクステージと前記プレートステージの位置を計測するレーザ干渉計と、前記レーザ干渉計の計測結果に基づいて前記マスクステージと前記プレートステージの位置を制御する制御演算器および駆動装置と、マスクに描画されたパターンを基板に投影する投影光学系とで構成されている。本発明では、本体構造体上のレーザ干渉計支持台と前記投影光学系にそれぞれの傾き量を計測する傾斜角計を配置して、該計測結果から前記マスクステージと前記プレートステージの相対位置誤差を補正することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図２】本発明の第１実施形態の位置補正ブロック図である。
【図３】本発明の第２実施形態の露光装置を示した図である。
【図４】本発明の第２実施形態の位置補正ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
〔第1実施形態〕
図１は本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。図１では、本発明の露光装置をＹ軸方向に見た側面図であり、ステージ移動により本体構造体が変形した場合の状態を示している。
【００１１】
図１において、マスク２を保持したマスクステージ４と、基板３を保持したプレートステージ５と、投影光学系６は、それぞれを保持する構造体に連結され、本体構造体７に支持されている。また、マスクステージ４は、マスクステージＸ軸干渉計の支持台９に取付けられたマスクステージＸ軸干渉計８によりＸ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるマスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ１０(ａ),１０(ｂ)に出力してＸ位置決め制御を行う。同様に、プレートステージ５は、プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台１３に取付けられたプレートステージＸ軸干渉計１１によりＸ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ１４に出力してＸ位置決め制御を行う。また、プレートステージＹ軸回り(θｙ)干渉計１２によりＹ軸回り(θｙ)位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力してθｙ位置決め制御を行う。
【００１２】
マスクステージＸ軸干渉計の支持台９と、プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台１３と、投影光学系６には、それぞれにＹ軸回りの回転を計測する傾斜角計１７(ａ) , １７(ｂ) , １７(ｃ)が取付けられている。
【００１３】
ここで、上記傾斜角計は振り子を中立位置に制御するサーボ式センサである。重力に対してセンサケースが傾いたときに、振り子が中立位置を保つように、内蔵したモータにトルクを発生させることで、傾斜角に比例した信号を出力する。
【００１４】
ステージ移動により本体構造体が変形した場合、本体構造体の弾性変形により、Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量２１と、Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量２２と、Ｙ軸回りの投影光学系回転量２３が発生する。このとき、投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差２４(Δｍｓｘ）と、投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差２５（Δｐｓｘ）は、
【００１５】
【数１】
【００１６】
で表される。
【００１７】
但し、(1)、(2)において、ＬｍｓｘはマスクステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離１８、θｍｓｘ１，θｍｓｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ａ)の計測値(Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台角度)、ＬｐｓｘはプレートステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離１９、θｐｓｘ１，θｐｓｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ｂ)の計測値(Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台角度)、θｕｍｘ１，θｕｍｘ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計１７(ｃ)の計測値(Ｙ軸回りの投影光学系角度)である。
【００１８】
式(1),式(2)から、投影光学系６に対して、マスクステージ４とプレートステージ５のＸ軸相対位置誤差（Δｍｐｓｘ）は、
【００１９】
【数２】
【００２０】
で表されるので、プレートステージＸ軸の位置補正量２６は−Δｍｐｓｘとなる。
【００２１】
ここで、(3)において、Ｘ軸方向に対してはマスク２と基板３の像は投影光学系６によって反転されるため、マスクステージ４とプレートステージ５の相対位置誤差（Δｍｐｓｘ）は、投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差２４（Δｍｓｘ）と、投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差２５（Δｐｓｘ）の差分となっている。また、(1),(2)では、各干渉計と投影光学系を支持する本体構造体の距離を一つのパラメータとしているが、干渉計支持台が複数の構造体部品で構成されていて、局所的な弾性変形が存在する場合は、傾斜角計をそれぞれの構造体部品に複数個取付けて、(1),(2)と同様にして、複数の算出式の総和から相対位置誤差を算出してもよい。
【００２２】
図２(ａ)にマスクステージとプレートステージのＸ位置補正ブロック図を示す。マスクステージ４のＸ軸は、制御演算器16にマスクステージＸ軸位置補償器２９を備えており、その推力指令値をマスクステージＸ軸駆動装置３０からマスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ１０(ａ),１０(ｂ)に出力している。また、プレートステージ５のＸ軸も同様に、制御演算器16にプレートステージＸ軸位置補償器３２を備えており、その推力指令値をプレートステージＸ軸駆動装置３３からプレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ１４に出力している。ここで、傾斜角演算器３４(ａ),３４(ｂ),３４(ｃ)と補正ゲイン３５(ａ),３５(ｂ)を介して、前記(3)から算出したプレートステージＸ軸の位置補正量２６（−Δｍｐｓｘ）をプレートステージＸ軸位置指令に足し込んで補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりマスクステージ４とプレートステージ５にＸ軸相対位置誤差が発生した場合でもその位置誤差を補正することができる。また、図２(ａ)においては、プレートステージＸ軸位置を補正しているが、マスクステージＸ軸位置を補正しても良いし、または、マスクステージＸ軸位置に−Δｍｓｘ、および、プレートステージＸ軸位置にΔｐｓｘを個別に補正しても良い。更に、複数の干渉計によりマスクステージ４、または、プレートステージ５のX軸方向を計測している場合も、複数の干渉計支持台に傾斜角計を取付けて相対位置誤差を算出してもよい。
【００２３】
また、図１において、Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量２２と、Ｙ軸回りの投影光学系回転量２３によって、プレートステージ５と投影光学系６間にＹ軸回り(θｙ)の相対位置誤差が発生する。特に、プレートステージ５のＸ位置が投影光学系６の露光中心からずれていると、その場合は投影光学系６に対してＺ軸方向に相対位置誤差が発生し、フォーカスずれが発生する。このときの相対位置誤差（Δθｙ）は、
【００２４】
【数３】
【００２５】
で表されるので、プレートステージＹ軸回りの回転位置補正量２７は、（−Δθｙ）となる。
【００２６】
図２(ｂ)にプレートステージのθｙ位置補正ブロック図を示す。プレートステージ５のθｙ軸は、プレートステージθｙ軸位置補償器３７を備えており、その推力指令値をプレートステージθｙ軸駆動装置３８からプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力している。ここで、傾斜角演算器３４(ｃ),３９と補正ゲイン４０を介して、前記(4)から算出したプレートステージＹ軸回りの回転位置補正量２７（−Δθｙ）をプレートステージθｙ位置指令に足し込んで、プレートステージ５と投影光学系６の相対位置誤差を補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりプレートステージ５と投影光学系６のθｙ軸相対位置誤差が発生した場合でも、その位置誤差を補正することができる。
【００２７】
このようにプレートステージ５のＸ軸とθｙ軸位置を補正することで、ステージ移動により本体構造体７に弾性変形が発生した場合でも、マスクステージ４と、プレートステージ５と、投影光学系６のＸ軸とθｙ軸の相対位置誤差を抑えることが可能である。
【００２８】
〔第２実施形態〕
第１実施形態では、マスクステージ４のＸ軸とプレートステージ５のＸ軸とθｙ軸に関する位置補正について記載したが、マスクステージ４のＹ軸とプレートステージ５のＹ軸とθｘ軸に関しても全く同様にして補正することが出来る。
【００２９】
図３は本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。図３では、本発明の露光装置をＸ軸方向に見た側面図であり、ステージ移動により本体構造体が変形した場合の状態を示している。
【００３０】
図３において、マスク２を保持したマスクステージ４と、基板３を保持したプレートステージ５と、投影光学系６は、それぞれを保持する構造体に連結され、本体構造体７に支持されている。また、マスクステージ４は、マスクステージＹ軸干渉計の支持台４２に取付けられたマスクステージＹ軸干渉計４１によりＹ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるマスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ４３に出力してＹ位置決め制御を行う。同様に、プレートステージ５は、プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台４６に取付けられたプレートステージＹ軸干渉計４４によりＹ位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ４７に出力してＹ位置決め制御を行う。また、プレートステージＸ軸回り(θｘ)干渉計４５によりＸ軸回り(θｘ)位置を計測し、制御演算器１６の演算結果を駆動装置であるプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力してθｘ位置決め制御を行う。
【００３１】
マスクステージＹ軸干渉計の支持台４２と、プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台４６と、投影光学系６には、それぞれにＸ軸回りの回転を計測する傾斜角計４８(ａ) ,４８(ｂ) ,４８(ｃ)が取付けられている。
【００３２】
ここで、上記傾斜角計は振り子を中立位置に制御するサーボ式センサである。重力に対してセンサケースが傾いたときに、振り子が中立位置を保つように、内蔵したモータにトルクを発生させることで、傾斜角に比例した信号を出力する。
【００３３】
ステージ移動により本体構造体が変形した場合、本体構造体の弾性変形により、Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量５２と、Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量５３と、Ｘ軸回りの投影光学系回転量５４が発生する。このとき、投影光学系に対するマスクステージＹ軸の相対位置誤差５５（Δｍｓｙ）と、投影光学系に対するプレートステージＹ軸の相対位置誤差５６（Δｐｓｙ）は、
【００３４】
【数４】
【００３５】
で表される。
【００３６】
但し、(5)、(6)において、ＬｍｓｙはマスクステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離４９、θｍｓｙ１，θｍｓｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ａ)の計測値(Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台角度)、ＬｐｓｙはプレートステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離５０、θｐｓｙ１，θｐｓｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ｂ)の計測値(Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台角度)、θｕｍｙ１，θｕｍｙ２は本体構造体が弾性変形する前後の傾斜角計４８(ｃ)の計測値(Ｘ軸回りの投影光学系角度)である。
【００３７】
式(5),式(6)から、投影光学系６に対して、マスクステージ４とプレートステージ５のＹ軸相対位置誤差（Δｍｐｓｙ）は、
【００３８】
【数５】
【００３９】
で表されるので、プレートステージＹ軸の位置補正量５７は−Δｍｐｓｙとなる。
【００４０】
ここで、(5),(6)では、各干渉計と投影光学系を支持する本体構造体の距離を一つのパラメータとしているが、干渉計支持台が複数の構造体部品で構成されていて、局所的な弾性変形が存在する場合は、傾斜角計をそれぞれの構造体部品に複数個取付けて、(5),(6)と同様にして、複数の算出式の総和から相対位置誤差を算出してもよい。
【００４１】
図４(ａ)にマスクステージとプレートステージのＹ位置補正ブロック図を示す。マスクステージ４のＹ軸は、制御演算器16にマスクステージＹ軸位置補償器６０を備えており、その推力指令値をマスクステージＹ軸駆動装置６１からマスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ４３に出力している。また、プレートステージ５のＹ軸も同様に、制御演算器16にプレートステージＹ軸位置補償器６３を備えており、その推力指令値をプレートステージＸ軸駆動装置６４からプレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ４７に出力している。ここで、傾斜角演算器６５(ａ),６５(ｂ),６５(ｃ)と補正ゲイン６６(ａ),６６(ｂ)を介して、前記(7)から算出したプレートステージＹ軸の位置補正量５７（−ΔｍｐｓｙをプレートステージＹ軸位置指令に足し込んで補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりマスクステージ４とプレートステージ５にＹ軸相対位置誤差が発生した場合でもその位置誤差を補正することができる。また、図４(ａ)においては、プレートステージＹ軸位置を補正しているが、マスクステージＹ軸位置を補正しても良いし、または、マスクステージＹ軸位置に−Δｍｓｙ、および、プレートステージＹ軸位置に−Δｐｓｙを個別に補正しても良い。更に、複数の干渉計によりマスクステージ４、または、プレートステージ５のＹ軸方向を計測している場合も、複数の干渉計支持台に傾斜角計を取付けて相対位置誤差を算出してもよい。
【００４２】
また、図３において、Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量５３と、Ｘ軸回りの投影光学系回転量５４によって、プレートステージ５と投影光学系６間にＸ軸回り(θｘ)の相対位置誤差が発生する。特に、プレートステージ５のＹ位置が投影光学系６の露光中心からずれていると、その場合は投影光学系６に対してＺ軸方向に相対位置誤差が発生し、フォーカスずれが発生する。このときの相対位置誤差(Δθｘ）は、
【００４３】
【数６】
【００４４】
で表されるので、プレートステージＸ軸回りの回転位置補正量５８は、（−Δθｘ）となる。
【００４５】
図４(ｂ)にプレートステージのθｘ位置補正ブロック図を示す。プレートステージ５のθｘ軸は、プレートステージθｘ軸位置補償器６８を備えており、その推力指令値をプレートステージθｘ軸駆動装置６９からプレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)に出力している。ここで、傾斜角演算器６５(ｃ),７０と補正ゲイン７１を介して、前記(8)から算出したプレートステージＸ軸回りの回転位置補正量５８（−Δθｘ）をプレートステージθｘ位置指令に足し込んで、プレートステージ５と投影光学系６の相対位置誤差を補正している。これにより、本体構造体の弾性変形によりプレートステージ５と投影光学系６のθｘ軸相対位置誤差が発生した場合でも、その位置誤差を補正することができる。
【００４６】
このようにプレートステージ５のＹ軸とθｘ軸位置を補正することで、ステージ移動により本体構造体７に弾性変形が発生した場合でも、マスクステージ４と、プレートステージ５と、投影光学系６のＹ軸とθｘ軸の相対位置誤差を抑えることが可能である。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１：露光装置、２：マスク、３：基板、４：マスクステージ、５：プレートステージ、６：投影光学系、７：本体構造体、８：マスクステージＸ軸干渉計、９：マスクステージＸ軸干渉計の支持台、１０(ａ),１０(ｂ)：マスクステージＸ軸駆動用のリニアモータ、１１：プレートステージＸ軸干渉計、１２：プレートステージＹ軸回り(θｙ)干渉計、１３：プレートステージＸ軸干渉計とＹ軸回り(θｙ)干渉計の支持台、１４：プレートステージＸ軸駆動用のリニアモータ、１５(ａ),１５(ｂ),１５(ｃ),１５(ｄ)：プレートステージＺ軸とＸ軸回り(θｘ)とＹ軸回り(θｙ)駆動用のリニアモータ、１６：制御演算器、１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)：Ｘ軸回りの回転を計測する傾斜角計、１８：マスクステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、１９：プレートステージＸ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、２０：Ｘ軸相対誤差補正後のプレートステージ、２１：Ｙ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量、２２：Ｙ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量、２３：Ｙ軸回りの投影光学系回転量、２４：投影光学系に対するマスクステージＸ軸の相対位置誤差、２５：投影光学系に対するプレートステージＸ軸の相対位置誤差、２６：プレートステージＸ軸の位置補正量、２７：プレートステージＹ軸回りの回転位置補正量、２８：マスクステージＸ軸指令生成器、２９：マスクステージＸ軸位置補償器、３０：マスクステージＸ軸駆動装置、３１：プレートステージＸ軸指令生成器、３２：プレートステージＸ軸位置補償器、３３：プレートステージＸ軸駆動装置、３４(ａ),３４(ｂ),３４(ｃ)：傾斜角演算器、３５(ａ),３５(ｂ)：Ｘ軸相対誤差補正ゲイン、３６：プレートステージθｙ軸指令生成器、３７：プレートステージθｙ軸位置補償器、３８：プレートステージθｙ軸駆動装置、３９：Ｙ軸回りの傾斜角演算器、４０：θｙ軸相対誤差補正ゲイン、４１：マスクステージＹ軸干渉計、４２：マスクステージＹ軸干渉計の支持台、４３：マスクステージＹ軸駆動用のリニアモータ、４４：プレートステージＹ軸干渉計、４５：プレートステージＸ軸回り(θｘ)干渉計、４６：プレートステージＹ軸干渉計とＸ軸回り(θｘ)干渉計の支持台、４７：プレートステージＹ軸駆動用のリニアモータ、４８(ａ),４８(ｂ),４８(ｃ)：Ｘ軸回りの回転を計測する傾斜角計、４９：マスクステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、５０：プレートステージＹ軸干渉計と投影光学系を支持する本体構造体間の距離、５１：Ｙ軸相対誤差補正後のプレートステージ、５２：Ｘ軸回りのマスクステージ干渉計支持台回転量、５３：Ｘ軸回りのプレートステージ干渉計支持台回転量、５４：Ｘ軸回りの投影光学系回転量、５５：投影光学系に対するマスクステージＹ軸の相対位置誤差、５６：投影光学系に対するプレートステージＹ軸の相対位置誤差、５７：プレートステージＹ軸の位置補正量、５８：プレートステージＸ軸回りの回転位置補正量、５９：マスクステージＹ軸指令生成器、６０：マスクステージＹ軸位置補償器、６１：マスクステージＹ軸駆動装置、６２：プレートステージＹ軸指令生成器、６３：プレートステージＹ軸位置補償器、６４：プレートステージＹ軸駆動装置、６５(ａ),６５(ｂ),６５(ｃ)：Ｘ軸回りの傾斜角演算器、６６(ａ),６６(ｂ)：Ｙ軸相対誤差補正ゲイン、６７：プレートステージθｘ軸指令生成器、６８：プレートステージθｘ軸位置補償器、６９：プレートステージθｘ軸駆動装置、７０：Ｘ軸回りの傾斜角演算器、７１：θｘ軸相対誤差補正ゲイン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持するマスクステージと、基板を保持するプレートステージと、前記マスクステージと前記プレートステージの位置を計測するレーザ干渉計と、前記レーザ干渉計の計測結果に基づいて前記マスクステージと前記プレートステージの位置を制御する制御演算器および駆動装置と、マスクに描画されたパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、本体構造体上のレーザ干渉計支持台と前記投影光学系の傾き量を傾斜角計により計測して、該計測結果から前記マスクステージと前記プレートステージの相対位置誤差を補正することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記傾斜角計は、前記レーザ干渉計支持台と前記投影光学系のＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)を計測し、前記マスクステージと前記プレートステージのＸ軸とＹ軸の相対位置誤差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記プレートステージはZ軸とＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の方向に位置制御を行うチルトステージを含み、前記プレートステージのレーザ干渉計支持台と前記投影光学系のＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の計測結果から、前記プレートステージのＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の相対位置誤差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記傾斜角計は、Ｘ軸回りの回転(θｘ)、または、Ｙ軸回りの回転(θｙ)の方向に対して、前記マスクステージのレーザ干渉計支持台上と、前記プレートステージのレーザ干渉計支持台上と、前記投影光学系上に、それぞれ1箇所または複数箇所に配置することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の露光装置。
【請求項１】
マスクを保持するマスクステージと、基板を保持するプレートステージと、前記マスクステージと前記プレートステージの位置を計測するレーザ干渉計と、前記レーザ干渉計の計測結果に基づいて前記マスクステージと前記プレートステージの位置を制御する制御演算器および駆動装置と、マスクに描画されたパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、本体構造体上のレーザ干渉計支持台と前記投影光学系の傾き量を傾斜角計により計測して、該計測結果から前記マスクステージと前記プレートステージの相対位置誤差を補正することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記傾斜角計は、前記レーザ干渉計支持台と前記投影光学系のＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)を計測し、前記マスクステージと前記プレートステージのＸ軸とＹ軸の相対位置誤差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記プレートステージはZ軸とＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の方向に位置制御を行うチルトステージを含み、前記プレートステージのレーザ干渉計支持台と前記投影光学系のＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の計測結果から、前記プレートステージのＸ軸回りの回転(θｘ)とＹ軸回りの回転(θｙ)の相対位置誤差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記傾斜角計は、Ｘ軸回りの回転(θｘ)、または、Ｙ軸回りの回転(θｙ)の方向に対して、前記マスクステージのレーザ干渉計支持台上と、前記プレートステージのレーザ干渉計支持台上と、前記投影光学系上に、それぞれ1箇所または複数箇所に配置することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の露光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−１１４２２０（Ｐ２０１２−１１４２２０Ａ）
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２６１５４９（Ｐ２０１０−２６１５４９）
【出願日】平成２２年１１月２４日（２０１０．１１．２４）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月２４日（２０１０．１１．２４）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]