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Fターム[5F031KA08]の内容

Fターム[5F031KA08]に分類される特許

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【課題】プレートステージを駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計する。
【解決手段】 操作量に従って駆動されるプレートステージPSTの位置(第1制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置されたプレートテーブルPTBが示す共振モードに対して逆相の共振モードを示すキャリッジ30に、プレートステージPSTの位置(第2制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置される。干渉計18X及び干渉計18Xを用いることにより、プレートステージPSTの駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材20の位置を調整する被露光部材位置調整装置100と、被露光部材20に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク30の位置を調整するマスク位置調整装置200とを備える露光装置10であって、直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、被露光部材位置調整装置100は、被露光部材20をX軸及びY軸を含むXY平面上におけるX軸に沿った方向及びY軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置200は、マスク30をXY平面に直交するZ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】 基板保持部の高さ調整に伴う残留応力の低減に有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、基盤と、基板を保持する基板保持部と、前記基盤上に設置され前記基板保持部の位置を変更可能に前記基板保持部を支持する少なくとも1つの支持部とを備える。前記少なくとも1つの支持部のそれぞれは、1つの第1調整部と複数の第2調整部と制御部とを含む。第1調整部は、前記基盤上に固定された一端部と前記基板保持部に固定された他端部とを有し、該他端部の位置を調整可能である。第2調整部と、前記基盤上に固定された一端部と、前記基板保持部と結合している第1状態と前記基板保持部と結合していない第2状態とに切り替え可能な他端部とを有し、該他端部の位置を個別に調整可能である。制御部は、前記複数の第2調整部及び前記第1調整部の少なくとも1つの他端部の位置を調整する間、前記複数の第2調整部の他端部のすべての結合状態が前記第2状態となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】 過度な重量増を回避しつつ高精度な検査を実現しうる半導体ウエハ検査装置を提供すること。
【解決手段】 本願の半導体ウエハ検査装置は、鉛直方向上方を向く基準面210を有する定盤200と、定盤200によって自重の少なくとも一部が負担されており、x方向およびy方向に基準面210に沿って移動可能とされているとともに、集積回路が形成された機能面を有する半導体ウエハをこの機能面が鉛直方向上方を向く姿勢で支持するウエハ支持体300と、ウエハ支持体300をx方向およびy方向に移動させる移動手段400と、半導体ウエハの機能面を対象とした検査する検査ヘッドと、を備える。 (もっと読む)


【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ10Xは、第1部材6に設けられ、格子パターン12Xa及び基準パターン13XAが形成された回折格子12Xと、計測光MX1,MX2を供給するレーザ光源16と、第2部材7に設けられ、計測光MX1,MX2を格子パターン面12Xbにθy方向(X方向)に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー32X,34Xと、計測光MX1,MX2の回折格子12Xによる回折光DX2,EX2を受光する光電センサ40XA,40XBと、を有する。 (もっと読む)


【課題】作業位置精度の高い基板用搬送ステージ、それを備えた描画装置、および、それを用いた描画方法を提供する。
【解決手段】基板用搬送ステージ50は、ベース1と、主走査軸方向としてのY軸方向の走査を行なうY軸モーター5と、Y軸モーター5の可動子としてのY軸テーブル10に載置されY軸方向と交差する副走査軸方向としてのX軸方向の走査を行なうX軸モーター15と、X軸モーター15の可動子としてのX軸テーブル20に載置されY軸方向やX軸方向と直交する直交軸回りの回転を行なうθ軸回転式モーター25およびその可動子としての基板ステージ30と、Y軸テーブル10と基板ステージ30とをロックするロック手段としての摩擦ブレーキ部18とを備えている。 (もっと読む)


【課題】外縁部に切欠部を有する板状部材を吸引して支持し、その減圧状態から切欠部の位置を認識することのできる支持装置及び支持方法、切欠部を基準として板状部材に貼付された接着シートを剥離するシート剥離装置及び剥離方法、切欠部を基準として板状部材に接着シートを貼付するシート貼付装置及び貼付方法、を提供する。
【解決手段】板状部材WFを支持する支持面14を備えたテーブル16と、支持面14に設けられて板状部材WFの外縁部を吸引する吸引手段17を含む吸引手段19と、吸引手段17の減圧状態を検出する検出手段22とを含んで支持装置11が構成されている。この支持装置11の上方に剥離用テープPTを板状部材WFに貼付された接着シートASに貼付するシート保持手段12を設けてシート剥離装置が構成されている。シート保持手段12は、板状部材WFに設けられた切欠部20、21を基準として、剥離開始位置を決定し、当該剥離開始位置から接着シートを剥離するようになっている。 (もっと読む)


【課題】基板載置装置を用いて基板を位置決め状態で載置する基板載置方法を提供する。
【解決手段】リフトピン8を上昇させるとともに、基板除給材部20を駆動させて基板17を作業開始位置に向けて搬入開始するステップと、基板17を基板テーブル6の作業開始位置の直上に位置させて基板17の搬入を完了させ、基板保持アーム21を下降させて基板17をリフトピン8上に載置するステップと、基板保持アーム21の後退を開始するとともに第1のカメラ75aにより基板17の位置を検出し第1補正量を計算するステップと、リフトピン8を下降させるとともに、第1補正量に基づき基板17の位置を補正する第1位置補正ステップと、基板テーブル6に基板17を吸着するステップと、第2のカメラ75bにより基板17の位置を検出し第2補正量を計算するステップと、第2補正量に基づき基板17の位置を補正する第2位置補正ステップと、を含む基板載置方法。 (もっと読む)


【課題】ウエハステージを精密駆動する。
【解決手段】 ウエハステージWSTは、粗動ステージ82と、微動ステージ83と、微動ステージ83のX軸方向の一側と他側のそれぞれに設けられた一対のボイスコイルモータMbと、微動ステージ83のX軸及びY軸のそれぞれに交差する軸Lc,Lcにそれぞれ平行な方向の一側と他側に設けられた二対のEIコアMc、Mc、Mc、Mcとを備えている。これにより、ウエハWを保持するウエハテーブルWTBを精密に駆動することが可能となるとともに、ボイスコイルモータ及びEIコアを粗動ステージ82内にコンパクトに配置することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】複数のウェーハを自動的に搬送して連続的に加工を行うための搬出入装置について、部品点数が少なく、簡易な構成にて実現可能であり、更に、安価な製作コストを実現できる搬出入装置を提供する。
【解決手段】ユニット支持部には、複数の該被加工物ユニットを重ねて収容可能なユニットケースが着脱自在に配設され、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット通過部と、保持手段が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることで保持手段に対する被加工物ユニットの搬入又は搬出が行われ、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット支持部が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることでユニット支持部に対する被加工物ユニットの搬出又は搬入が行われる、ユニット搬出入装置とする。 (もっと読む)


【課題】表示基板が大型化しても表示基板の位置決めの精度が低下することのないパネルアライメント装置及びFPDモジュール組立装置を提供する。
【解決手段】パネルアライメント装置80は、表示基板の下面を保持する基板保持部82と、基板保持部82を水平方向に移動及び回動させる移動機構83を備える。移動機構83は、基板保持部82により保持した表示基板101の処理が施される端部側の下方に配置されている。移動機構83は、従動回転軸94A及び従動直線軸94Bからなり基板保持部82を支持する従動軸部94と、従動軸部94を直線移動させる駆動直線軸93とを有する3つの支持デバイス91A,91B,92から構成されている。そして、2つの支持デバイス91A,92の駆動直線軸93は、互いに交差する方向に延びている。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ搬送室内に搬送可能なウェーハの数を効果的に増大させることができ、EFEMに用いた場合にはウェーハ搬送の処理能力を向上させることが可能な装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ搬送室B及びロードポートCとともにEFEMを構成し、載置テーブルを、ロードポートCがFOUP搬送装置との間でFOUPxを受け渡す位置と同一直線L上に設定したFOUP受渡位置と、ウェーハ搬送室Bの側面にFOUPxを密着させ得る位置に設定したウェーハ出入位置との間で移動させる移動機構を備えたサイド用ロードポート1を案出した。 (もっと読む)


【課題】既にボンディングしたダイに対してダイを180度回転させて積層しても、製品品質の高いダイボンダ又はボンディング方法を提供する。
【解決手段】ピックアップヘッド21でウェハからダイDをピックアップしアライメントステージ31に前記ダイDを載置し、ボンディングヘッド41で前記アライメントステージ31から前記ダイDをピックアップし基板又は既にボンディングされたダイD上にボンディングするダイボンダ又はボンディング方法において、前記ボンディングヘッド41が前記アライメントステージ31から前記ダイDをピックアップする前に前記ダイDの姿勢を前記ボンディングする面に平行な面で所定角度で回転させる。 (もっと読む)


【課題】短時間で基板を交換できる基板供給装置を提供する
【解決手段】基板供給装置1は、一体に回転および昇降可能に設けられ、回転軸周りに対称に配置された複数のアーム4と、それぞれ、アーム4に遊びを有するように支持され、且つ、基板を保持可能な複数の小定盤6と、アーム4の回転および昇降によって小定盤6が載置され、且つ、小定盤6を遊びの範囲内で位置決めして保持する定盤保持機構9,10を備える主定盤7とを備える。 (もっと読む)


【課題】歩留まりを向上させることができる半導体装置の製造方法および露光補正方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、露光工程、検出工程および補正工程を含む半導体装置の製造方法が提供される。露光工程は、基板上に形成される層毎に、ショット領域の合わせズレを測定するための合わせズレ測定用パターンが外周側に形成されたフォトマスクによって、複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。検出工程は、各層毎に、フォトマスクによってショット領域に形成された合わせズレ測定用パターンの位置を検出する。補正工程は、検出工程によって検出された合わせズレ測定用パターンの位置に基づいて、各層毎に露光工程における露光条件の補正を行う。 (もっと読む)


【課題】露光装置内への基板の搬入を効率よく行う。
【解決手段】 液晶露光装置内に基板Pを搬入する方法は、露光領域内で基板Pを保持可能な基板ステージ20に対して基板Pを搬送する基板搬入装置80aが有するフォークハンド83を上記露光領域外(ポート部60の上方の領域)に位置させることと、外部搬入ロボット90bが有するロードハンド91bに下方から支持された基板Pをフォークハンド83の上方に位置させることと、ロードハンド91bに下方から支持された基板Pをロードハンド91b上からフォークハンド83上に載せ替えることと、を含む。 (もっと読む)


【課題】動的移動平均により補正情報を作成する。
【解決手段】エンコーダシステムと干渉計システムとの計測結果の間の誤差の変化の程度に応じて、適当な数ウエハについての誤差情報を用いて移動平均を求める動的移動平均により、エンコーダシステムの計測結果を補正するための補正情報を求める。これにより、誤差(例えばX−X)の変化が小さい時(例えば区間b)には、多くの誤差情報を用いて移動平均を求めるので、ランダムに発生する誤差を効率良く抑制することが可能となるとともに、誤差が急激に変化するとき(例えば区間c)には、少しの数のウエハについての誤差情報を用いて移動平均を求めるので、移動平均による飛び値に伴う応答の遅れを回避することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】投影光学系と基板との衝突の低減に有利なリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】ステージに保持された基板の上の複数の計測点の高さを計測する計測部と、基板を保持して前記光学系の光軸に平行な方向に第1ストロークで移動する微動ステージと、微動ステージを保持して光学系の光軸に平行な方向に第1ストロークより大きい第2ストロークで移動する調整ステージと、調整ステージが移動しないように機械的に調整ステージを固定する固定機構と、を含み、制御部は、基板に前記パターンを転写する前に、計測部で計測された複数の計測点の高さで代表される基板の仮想平面が水平になるように、且つ、仮想平面が光学系の最も基板側の面と基板との間であって第1ストロークから決まる初期位置に位置するように調整ステージを移動させ、仮想平面を初期位置に位置させた後に固定機構によって調整ステージを固定するリソグラフィ装置。 (もっと読む)


【課題】露光装置の構造部材の振動を抑制する。
【解決手段】 露光装置は、構造部材と、基板ステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第1カウンタマスステージと、レチクルステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第2カウンタマスステージと、構造部材と第1カウンタマスステージとの間に力を発生させる第1カウンタマス駆動部と、構造部材と第2カウンタマスステージとの間に力を発生させる第2カウンタマス駆動部と、制御部とを備える。制御部は、構造部材に作用する力の情報を取得し、第1カウンタマス駆動部により構造部材と第1カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、第2カウンタマス駆動部により構造部材と第2カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって構造部材に作用する力を相殺するように第1カウンタマス駆動部及び第2カウンタマス駆動部を制御する。 (もっと読む)


【課題】高精度かつ迅速に、基板を適正な回転位置に位置合わせできる技術を提供する。
【解決手段】位置合わせ装置100は、ステージ11を回転させる回転機構121と、ステージ11外からステージ11の位置を測長して、当該測長値に基づいてステージ11の回転角度θを特定する測長部13と、ステージ11に載置された基板Wを適正な回転位置におくために必要なステージの回転角度(目標回転角度θo)を特定する目標回転角度特定部201と、測長部13で計測されたステージ11の回転角度θを目標回転角度θoに近づけることができるような回転機構121の制御パラメータNを出力し、当該制御パラメータNで回転機構121を駆動制御する回転制御部202と、を備える。 (もっと読む)


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