【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高精度な合焦位置キャリブレーションを実現すると共に、優れたスループットの向上を達成することができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 マスク１面上にマスク側合焦用マーク８を備え、プレートステージ５上に光電センサ１０と光電センサ１０上にプレート側合焦用マーク９とを備え、露光光７でマスク側合焦用マーク８を照明し、マスク側合焦用マーク８を通過した光束を、投影光学系３とプレート側合焦用マーク９を介して光電センサ１０に入射させ、プレートステージ５を投影光学系３の光軸方向と直交する平面上に振ったときに得られる光電センサ１０の信号とプレートステージ５の位置信号に基づいて投影光学系３の合焦位置の変化を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】うねりによる影響を極力無くして被検面の変位量を検出する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小なビーム光として投射する。シリンドリカルレンズ２１は、被検面２３ａで反射した反射光束に非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２６は、受光面から得られる変位信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。表面すねり補正部２８は、変位信号に基づいて表面のうねりの周期ピッチを求め、その時点の被検面２３ａ上のビーム径が周期ピッチよりも大きくなるように集光レンズ２０と受光面１９ａとの間隔を変え、これに連動して対物レンズ１８を移動する。 （もっと読む）

【課題】変位量への換算を迅速に処理する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小スポットとして投射する。シリンドリカルレンズユニット２１は、曲率半径の異なる２つのシリンドリカルレンズ３０，３１をもっており、それぞれに被検面２３ａで反射した反射光束に異なる量の非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２４は、受光面から得られる出力信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。選択部３３は、被検面２３ａの検出範囲に応じて、いずれか一方のシリンドリカルレンズ３０，３１を光路上にセットするように移動機構２２を制御する。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置決めに有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース部と、ＸＹ平面に沿って移動可能なテーブルと、Ｙ軸方向に沿った前記第１の端面の位置を計測する第１のＹ軸干渉計２２２と、前記Ｙ軸方向に沿った第２の計測光路を有する第２の端面の位置を計測する第２のＹ軸干渉計２２４と、前記第１のＹ軸干渉計及び前記第２のＹ軸干渉計から前記ＸＹＺ座標系のＸ軸方向に離間して、且つ、前記Ｙ軸方向に沿った第３の計測光路を有する第３のＹ軸干渉計２２８と、前記第１のＹ軸干渉計の計測値、前記第２のＹ軸干渉計の計測値及び前記第３のＹ軸干渉計の計測値に基づいて前記テーブルの変形量を求め、前記変形量に基づいて目標位置を補正した補正目標位置を求め、前記第１のＹ軸干渉計の計測値と前記第２のＹ軸干渉計の計測値から求まる前記テーブルの位置が前記補正目標位置に位置するように前記テーブルを位置決めする制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】 より少ない計測(2回以上の走査方向ステップ駆動による計測)から照度分布を推定し、照度ムラセンサーの位置ずれを算出することを特徴とする露光装置を提供すること。
【解決手段】 スリット照明領域と該露光面における照度分布を測定するために、該露光面に照度ムラセンサーの受光面を一致させて該露光面に沿って移動できる照度ムラセンサーを有し、円弧状スリット内の少なくとも2点以上の位置で該露光面を走査方向にステップ移動し、その走査方向の照度分布を測定できる露光装置において、少なくとも2点以上の多点ステップの照度分布を測定し、照度分布を最小二乗法により多項式に近似し、それぞれの照度分布の頂点座標から求まるY差(走査方向の差)から照度ムラセンサーのX方向(走査直交方向)に対するずれを検出する。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】Ｘ方向（又はＹ方向）へ移動する第１のステージ（１４）、第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージ（１６）、及び第２のステージに搭載されθ方向へ回転する第３のステージ（１７）を有する移動ステージにチャック（１０ａ，１０ｂ）を搭載する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージ（１６）に取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ（１７）によりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源を用いた場合に、ウェハ面上での露光量を正確に算出することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】パルス駆動により極端紫外域のパルス光を発生する光源１０と、光源１０からのパルス光を試料面５０上に導く光学系２０，４０と、試料面５０上の照度を計測する照度計測器７１と、光学系２０，４０の光路途中の照度を計測する照度計測器７２と、を備えた露光装置である。実際の露光とは別に、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７１で得られた計測値と照度計測器７２で得られた計測値との比を求めて記憶し、実際の露光において、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７２を用いて得られた計測値とこれ対応する比との積を求めて露光量推定値を算出し、算出した露光量推定値に対応して露光動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】照明光源を状況に応じて調整する。
【解決手段】 露光装置の起動時においては、照明光源形状を計測し（ステップ２０８）、その計測結果と目標とに基づいて照明光源形状を評価し（ステップ２０９）、その評価結果に基づいて、ビーム形状を推定することと、照明光源のミラー特性を推定することと、照明光源の設定を最適化することとを含む調整方法の中からいずれかを選択する（ステップ２１０、２１２、２１３）。これにより、照明光源を短時間に及び／又は正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成する。
【解決手段】 複数のミラー要素ＳＥ_ｋ（ｋ＝１〜Ｋ）を、それぞれのミラー要素によって反射される光の強度Φ_０ｋの順に、単位数（例えばＮ）毎に、複数のレンズ素子ＦＬ_ｎのうちの目標照明光源形状Ψ_０を形成するのに必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）（に対応する複数のグループａ〜ｆ）に対応付けることと、必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）のうちの２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋのうちの少なくとも各１つのミラー要素同士を入れ替えて、２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋについての光の強度の和Φ_０ｋを平均化する。これにより、目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】使用時の投影光学系の光学特性を計測することができる計測用光学部材、マスク、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 （もっと読む）

【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハとパターンとを精度良く位置合わせする。
【解決手段】位置計測系を用いてステージの位置を計測し、その計測結果に基づいてステージを駆動し、ステージ上に保持されたウエハ上のアライメントマークをアライメント系を用いて検出して得られる検出結果と、その検出結果に対するステージの位置に依存する補正情報（理想格子の格子点ｍ_ｉｊについて与えられた補正データ）と、に基づいてウエハ上に形成されるパターンが理想格子状に配列されるようにウエハを保持するステージを駆動する。 （もっと読む）

【課題】被検光学系の開口数が大きい場合にも、被検光学系の光学特性を正確に計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａを通過した光の開き角を小さくする蛍光膜２４と、蛍光膜２４を通過した光を集光して検出するコンデンサーレンズ３２Ａ〜３２Ｅ及び光電検出器３３Ａ〜３３Ｅと、光電検出器３２Ａ〜３３Ｅの検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの光学特性を求める計測部１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルＰＴの第１保持部２６上面の温度分布に基づいた条件で、ショットＳ１〜Ｓ３２の配列を求めることで、基板ＰのショットＳ１〜Ｓ３２の各ショットと、マスクＭのパターン像とを高精度に位置合わせする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】ＥＧＡの処理条件として、ショットＳ１〜Ｓ３２からサンプルショットに指定するショットの数と、サンプルショットの配置と、基板アライメントマークＰＡＭの変位モデルの算出に用いる回帰分析の次数とを、第１保持部２６上面の温度分布に基づいて決定し、ＥＧＡ処理を実行してショットＳ１〜Ｓ３２の配列を推定する。そして、順次、配列を推定したショットＳ１〜Ｓ３２の各ショットと、マスクＭのパターン像とを位置合わせし、基板Ｐを露光していく。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】センサの読み取りにおける誤差の可能性を少なくとも低減する装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、該基板テーブルは、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある１つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、開口数の高い結像光学系の空間像をも高精度に計測することのできる空間像計測方法、空間像計測装置、及び露光装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する空間像計測装置の一態様は、結像光学系（１０）から射出する結像光束の光路へスリット板を挿入するスリット挿入手段（１４Ａ、１５）と、前記スリット板のスリットで前記結像光束の断面を走査する走査手段（１５）と、前記スリットを透過した前記結像光束の前記走査中における強度変化を検出する検出手段（１４Ｃ）と、前記スリットを透過する際の入射角度による前記結像光束の光量ロスムラを前記走査中に補償する補償手段（１３）とを備える。 （もっと読む）