【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】基板ステージに対する可変成形マスクの相対位置を高精度に計測できる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、照明光ＩＬｉの状態を空間的に個別に変調する複数のマイクロミラー素子２１を有し、マイクロミラー素子２１を照明光ＩＬｉの入射位置に２次元的に配置して照明光ＩＬｉを変調する可変成形マスク２０と、所定の走査方向に移動する基板ステージ１０と、可変成形マスク２０によって変調された照明光ＩＬｉを基板ステージ１０に載置された基板へ導いて、基板上に光パターンを投影する投影光学系ＰＬと、基板ステージ１０の位置を検出する第１レーザー干渉計３１の少なくとも一部が設けられて、基板ステージ１０の位置の基準となるメトロロジーフレームと、メトロロジーフレームに設けられて、可変成形マスク２０との相対位置を検出するマスク位置計測部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】物体に対するパターンの転写のための走査露光中にマスクを温度調整する。
【解決手段】マスクを用いてステップ・アンド・スキャン方式の露光を行って、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する際に、マスクの表面の温度分布の目標から定まるマスク上での平均熱伝達率分布の目標ｈ（ｙ）とマスクＲの滞在確率分布Ｐ（Ｙ）とから求まる熱伝達率分布Ｈ（Ｙ）に従ってマスクを温度調整する。これにより、スループットを落とすことなくマスクを温度調整することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】任意のパターン上の粒子を検出する高速方法を提供する。
【解決手段】カメラ３０がマスクＭＡからの放射を検出して像を形成するが、像の焦点面ＦＰはマスクＭＡの前にある。マスクＭＡ上にある任意の粒子Ｄは合焦される。しかし、マスクＭＡ上のパターンは焦点がずれる。これにより、したがって、任意のパターンを有するマスクＭＡ上の粒子Ｄの存在および位置を検出することができる。カメラ３０の焦点深度は小さく、焦点面ＦＰは、パターニングデバイスの表面から焦点深度の２倍よりも遠くにない。 （もっと読む）

【課題】任意のパターン上の粒子を検出する高速方法を提供する。
【解決手段】システムおよび方法を用いてマスクＭＡからの熱放射を検出する。マスクＭＡ上のデブリ粒子Ｄは加熱するが、周囲マスクほど速く冷却しない。この温度差によって、粒子ＤおよびマスクＭＡによって放出される放射の波長は異なる。したがって、熱放射を検出することによって、マスク上に堆積した粒子Ｄの存在を検出することができる。粒子Ｄが検出された場合は、マスクＭＡをクリーニングすることができる。 （もっと読む）

【課題】レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置２９はレチクル１の下面に形成された位置測定用マーク２６の位置を測定し、これによりレチクル１の位置を測定する。位置測定装置３０は、下蓋２ｂの下面に形成された位置測定用マーク２７の位置を測定し、これにより下蓋２ｂの位置を測定する。レチクル１の位置と下蓋２ｂの位置が分かれば、レチクル１と下蓋２ｂの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル１を搭載した下蓋２ｂを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋２ｂの停止位置を決定することにより、レチクル１を正しく露光装置にセットできる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造であっても、レーザ変位計の温度変化による測定値の変動を精度良く校正することが可能な露光装置、該露光装置の校正方法及び校正用部材を提供する。
【解決手段】マスクパターンを形成してあるマスク４を保持するマスク保持部と、露光対象となる基板を保持する基板保持部とを有し、光源９から照射された光により、マスクパターンを基板表面に露光する。マスク４の下面と基板の上面との間の距離を測定する一又は複数のレーザ変位計を備えており、レーザ変位計の温度校正の基準となる基準板を含む校正用部材２０を備えた校正器具３０を、光源９の照射領域とは離隔して設置する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。露光装置は、マスクを照明するための露光光を射出する光学部材と、ミストを供給可能なミスト供給口を有し、マスクにミストを供給して、マスクの温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる反射型フォトマスクの露光量制御方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】反射型フォトマスクの吸収膜が反射率測定領域を有して、複数の波長を反射率測定領域に照射する露光量制御方法であって、反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光前の初期反射率Ｒ０（λ）と反射型フォトマスクを用いて、露光を繰り返した後の反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光後の反射率Ｒ（λ）との少なくとも２つの波長について取得する反射率取得工程を備えることを特徴とする露光量制御方法。 （もっと読む）

【課題】マスクを保持するための保持面に異物が付着しているか否かを確認できる観察装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】観察装置５０は、パターンが形成されたレチクルを保持する保持面を観察するＣＩＳ５６と、ＣＩＳ５６を収容し、レチクルの形状に対応する形状を有する筐体５３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との位置合わせを安定して処理可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 アライメントマークを使用してマスクに対し処理基板を移動させて当該マスクと処理基板との位置合わせをして露光を行う技術である。画像でのマスク側のアライメントマークＭ２の画素数が、予め設定した基準閾値と一致若しくは当該基準閾値以上となるように撮像装置１６の焦点を調整してマスク側の基準位置を演算する。同様にして、基板側の基準位置を演算する。上記演算したマスク側の基準位置を基準として、マスク側の基準位置と処理基板側の基準位置とが一致若しくは予め設定した許容誤差内となるまで、上記処理基板側のアライメントマークＭ１の画像を取得して当該処理基板側の基準位置を演算する処理を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】装置全体のスループットを維持しつつ、マスクに設けられたペリクルが破損することを抑制することができるマスク搬送装置、露光装置、マスク搬送方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】圧力が調整可能なロードロック室２１内に、所定のパターンが形成されたパターン面を有するレチクルを搬送するレチクル搬送装置１２であって、ロードロック室２１内を減圧する真空ポンプ２４と、パターン面を保護するペリクルがレチクルに設けられているか否かを判別し、レチクルにペリクルが設けられていないと判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度で減圧し、レチクルにペリクルが設けられていると判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度よりも遅い第２の速度で減圧するように真空ポンプ２４を制御する制御部４１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
複数の原版を交換して原版のパターンを基板に露光し、原版と基板との位置合わせ精度を向上し、スループットを向上する露光装置を提供する。
【解決手段】
ダブルパターニングにより複数の原版のパターンを基板に露光する露光装置において、 原版を搭載して移動するステージと、前記ステージに搭載されている原版の次に露光すべき原版を保持する保持手段と、前記保持手段により保持された原版を温調する温調手段と、前記温調手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定面上を少なくとも一方向に沿って移動可能な移動体と、移動体の移動により生じた圧力変動を小さくするように加圧空気を噴射する圧力調整装置と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる露光量制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光量制御方法は、マスク上に形成されたパターンの反射像を基板上に露光する際の露光量を制御する方法であって、前記パターンの開口部の初期反射率Ｒ０と、前記マスク使用後の前記パターンの開口部の実測反射率Ｒとを取得する反射率取得工程と、マスク表面状態の変化による反射特性の変化に基づいて決定される比例定数Ａを用いて、
[数１]


に基づき露光量補正係数Ｘを算出する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
スループットの低下を抑制しつつレチクルの面形状を高精度に計測可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
レチクルＲの表面の位置を複数箇所で計測することによってレチクルＲの面形状を計測するレチクル面位置計測器ＲＯを備える露光装置１００であって、複数のレチクルＲを識別するための識別情報と、レチクル面位置計測器ＲＯの非計測箇所に関する情報とを関連づけて記憶する記憶手段（主制御部１２）と、露光されるレチクル１２に関する識別情報を取得するコンソール１４とを備え、レチクル面位置計測器ＲＯは、コンソール１４によって取得された識別情報に対応する非計測箇所を除いた箇所でレチクルＲの表面の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】露光装置のチャンバーの内部と外部との間に温度差が存在する場合においても、より正確に投影光学系の投影倍率を補正する。
【解決手段】露光装置は、チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。露光装置は、前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、前記チャンバーの内部の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版が露光光を受ける時間との関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記原版が露光光を受ける時間とに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学系の光学特性をより正確に計測する技術を提供する。
【解決手段】テストパターンを有するテストマスクをマスク保持部によって保持して光学系の物体面に配置し、前記光学系の像面に形成される前記テストパターンの像の位置を計測し、その計測結果を処理することによって前記光学系の光学特性を決定する方法において、前記テストマスクの変形量を計測し、前記像の位置の計測結果を処理して決定されうる前記光学系の光学特性を前記変形量に基づいて補正する。 （もっと読む）

【課題】 任意のパターンを有するレチクル上のパーティクル及び異常の検出を可能にすること。
【解決手段】 レチクル検査のための方法及びシステムを開示する。この方法は、検査レチクル及び基準レチクルの表面をコヒーレントに照明すること、照明された表面からの散乱光にフーリエ変換を適用すること、基準レチクルからの変換された光の位相を、検査レチクルからの変換された光と基準レチクルからの変換された光との間の位相差が１８０度であるようにシフトすること、変換された光を像減算として合成すること、合成された光に逆フーリエ変換を適用すること、及び、ディテクタにおいて合成された光を検出することを含む。照明源からディテクタへの２つの光路間の光路長差は、照明源のコヒーレント長未満である。ディテクタにより検出される像は、レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、これにより、外部パーティクル、異常などを容易に識別することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光学素子の透過率の計測に有利な露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版ステージ２０に設けられた原版ステージ基準マーク２１で反射した反射光の第１光量を反射光モニター１６で計測し、原版ステージ基準マーク２１を光路から退避させて投影光学系２３を介して基板ステージ２４に設けられた基板ステージ基準マーク２７で反射した反射光の第２光量を反射光モニター１６で計測し、第１光量と第２光量の比に基づいて投影光学系２３の透過率を求める露光装置を提供する。 （もっと読む）