【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】計測装置のうち光学系の像面側に配置する部分の構成を簡素化して、光学系の光学特性を計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面側に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａからの反射光を投影光学系ＰＬ及びＬ＆Ｓパターン２１Ａを介して受光する受光系３０と、を備え、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａの像とＬ＆Ｓパターン２３Ａとを相対移動したときに受光系３０から得られる検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの結像特性を求める。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】異物の付着した面が被検物の２面のうちのいずれの面であるかを検出することが可能な異物検査装置を提供する。
【解決手段】異物検査装置は、被検物に検査光を投光する投光部と、検査光が投光されることによって被検物から生じる散乱光の強度を検出する検出器を含む受光部と、制御部とを備える。検出器は、偏光方向が第１の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第１の散乱光の強度と、偏光方向が第２の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第２の散乱光の強度とを検出する。制御部は、検出器により検出された第１の散乱光の強度および第２の散乱光の強度の比が基準値より大きいか小さいかによって異物が付着した面が第１面および第２面のいずれであるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第１の計測手段と、前記第１の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第２の計測手段と、前記第１および第２の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第１の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第１の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動の際の基板の位置ずれ、歪み、変形を抑制できる基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】マスクＭの移動方向両側においてマスクＭを所定圧で押圧して挟持する挟持部１１０と、マスクＭの移動に伴う慣性力により、マスクＭが移動する順方向と相反する逆方向に移動して、前記順方向側の前記挟持部１１０の押圧を減圧させると共に前記逆方向側の前記挟持部材１１０の押圧を増圧させる液体金属ＭＬとを有する基板側面クランプ装置１００を用いる。 （もっと読む）

【課題】代替のエンコーダタイプの位置測定システムを提供する。
【解決手段】他のオブジェクトに対する可動オブジェクトの位置を測定する位置測定システムが、可動オブジェクト及び他のオブジェクトのうちの一方に取り付けられ、それぞれが測定方向に沿って測定ビームを放出することができる２つ以上の一次元（１Ｄ）エンコーダヘッドと、可動オブジェクト及び他のオブジェクトのうちの他方に取り付けられ、それぞれの基準ターゲットが２つ以上の一次元（１Ｄ）エンコーダヘッドと協働するグリッド又は回折格子を有する平面を含む１つ又は複数の基準ターゲットと、２つ以上の１Ｄエンコーダヘッドの出力に基づいてオブジェクトの位置を計算するプロセッサとを含み、２つ以上の１Ｄエンコーダヘッドそれぞれの測定方向は、それぞれの基準ターゲットの平面に対して非垂直である。 （もっと読む）

【課題】照射領域で基板を走査露光する場合に、露光量むら又は照明条件のばらつきを低減して基板に対する露光量を制御する。
【解決手段】照射領域２７Ｗに対してウエハをＹ方向に走査してウエハを露光する際の露光量制御方法において、照射領域２７ＷのＸ方向の光強度分布を計測する工程と、その計測結果に応じて、Ｘ方向の複数の位置毎に照射領域２７ＷのＹ方向の幅を調整する工程と、照射領域２７ＷのＹ方向の幅に応じて、Ｘ方向の各位置毎に、露光光の光強度が次第に低下する照射領域２７Ｗの一方の強度傾斜部６５Ｂの幅を調整する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】エンコーダタイプの位置測定システムのグリッドプレート内の欠陥を判定する。
【解決手段】別のオブジェクトに対する可動オブジェクトの位置を測定するエンコーダタイプの位置測定システムを提供するステップであって、前記エンコーダタイプの位置測定システムが、グリッドプレートとエンコーダヘッドとを含むステップと、２つ以上の検出器の各々に反射した光の量を測定するステップと、２つ以上の検出器に反射した放射ビームの結合放射ビーム強度を用いて測定位置でのグリッドプレートの反射率を表す反射率信号を決定するステップと、グリッドプレートの反射率信号に基づいて測定位置の欠陥の存在を判定するステップとを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】線幅を制御しつつ重ね合わせ精度の変化を少なくおさえる露光装置を提供する。
【解決手段】原版２５を基板２８に投影露光する投影光学系２１と、前記投影光学系を構成する光学素子と、露光装置の各部の振動を計測する振動計測手段３７、３８、３９、４０と、からなる露光装置において、前記光学素子に振動を発生させる振動発生機構を有し、前記振動計測手段による計測結果に基づいて、前記光学素子を振動させることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】露光光の強度が大きいか又は露光時間が長い場合にも高い重ね合わせ精度を得る。
【解決手段】露光用の照明光ＩＬでレチクルＲのパターンを照明し、照明光ＩＬでそのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光方法において、空間像計測系３４でレチクルＲのパターンの像の位置を計測し、そのパターンの像の位置の変動量をレチクルステージＲＳＴの温度情報から予測し、この予測結果に基づいてそのパターンの像とウエハＷとの位置合わせ情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】 パターニングデバイスとパターニングデバイス支持体との間のずれが考慮されるリソグラフィ装置のパターニングデバイスに位置測定システムを提供する。
【解決手段】 本発明は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構成された基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、少なくとも基板のターゲット部分へのパターン付放射ビームの投影の間、パターニングデバイス上に提供されたグリッド又は格子を用いてパターニングデバイス支持体上に支持されたパターニングデバイスの位置量を連続して決定するように構成されたエンコーダタイプの測定システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】移動体の正確な速度を取得可能とする干渉計システム、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体に固定され、第１光屈折率を有する第１導波部と、前記移動体に固定され、前記第１光屈折率とは異なる第２光屈折率を有する第２導波部と、前記第１導波部を通過した第１電磁波と、当該第１電磁波と同一波長を有し前記第２導波部を通過した第２電磁波とを干渉させる干渉部と、前記干渉部で生じる干渉波を用いて前記第１電磁波と前記第２電磁波との位相差を検出する検出装置と、検出された前記位相差を用いて前記移動体の移動速度に関する情報を取得する速度取得装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】固定された相対位置でパターニングデバイスと結合される基準ユニットを測定デバイスが含むリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームにパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、支持体を第一方向に移動する位置決めデバイスと、支持体に対するパターニングデバイスの相対位置を測定して測定信号を生成する測定デバイスとを含み、該測定デバイスは、固定された相対位置でパターニングデバイスに結合される基準ユニットと、支持体に対する基準ユニットの位置を測定する位置センサとを含み、位置決めデバイスは、測定信号に基づいて支持体の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】原盤のパターンを精度よく物体に転写する。
【解決手段】ウエハＷ表面の傾きを計測するウエハ焦点位置検出系２４を、レチクルステージＲＳＴを構成するレチクルステージ本体２３の下面に設ける。これにより、レチクルステージＲＳＴが昇降しても、レチクルＲとウエハ焦点位置検出系２４との位置関係が変動することがなくなるので、レチクルＲに対するウエハＷの傾斜を精度よく計測することができ、結果的にレチクルＲに形成されたパターンを精度よくウエハＷに転写することができる。 （もっと読む）

【課題】スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】マスク保持装置３３０に結合された第１のパターン付マスク保持システム３３２が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するようになっており、前記マスク保持装置に結合された第２のマスク保持システム３３４が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するために、第１のマスク保持システムと同時に動作するようになっており、露光動作のスキャニング部分の間にパターン付マスク保持装置とマスクとを移動させる、マスク保持装置に結合された移動装置が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ステージの目的位置で停止させた後に生じる位置変動（ドリフト）を正確に検出できるようにする。
【解決手段】 固定体に対して相対移動可能なステージの位置変動を検出する装置であって、前記固定体に設けられた検出用固定電極と、前記ステージに設けられた検出用移動電極とを有して構成された、前記ステージの移動にともなって各電極間の電気容量が変動する検出用コンデンサ部と、前記固定体に設けられた参照用固定電極と、前記ステージに設けられた参照用移動電極と、を有して構成された、前記ステージの移動の最中における各電極間の電気容量が略一定とされた参照用コンデンサ部と、前記検出用コンデンサ部および前記参照用コンデンサ部の双方に電圧を印加する電源と、を備え、前記参照用コンデンサ部の電気容量の変動に応じて、前記電源から印加する前記電圧を制御することを特徴とする、ステージの位置変動検出装置を提供する。 （もっと読む）