Fターム[5F046CC00]の内容
半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | ステージ、チャック機構、及びそれらの動作 (6,599)
Fターム[5F046CC00]の下位に属するFターム
ウエハステージ (1,895)
マスクステージ (847)
XYステージ、XY軸方向 (739)
Zステージ、Z軸方向 (168)
θステージ、θ方向 (80)
ウェハチャック (510)
マスクチャック、マスクの保持 (219)
真空チャック (113)
チャックによるウェハ、マスクの平面調整 (112)
ステージ、チャックの動作 (635)
ステージと相対的な、鏡筒、光源等の移動 (116)
レーザ測長計を用いるもの (470)
ステージの移動機構 (425)
その他 (267)
Fターム[5F046CC00]に分類される特許
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露光装置とその製造方法並びに露光装置のメンテナンス方法
【課題】投影光学系を容易に搬入・搬出できる露光装置とその製造方法並びに露光装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】露光装置の製造方法は、投影光学系を所定の位置に位置決めする位置決め工程と、位置決めが行われた投影光学系を支持する支持工程とを有する。位置決め工程は、位置決めの際に投影光学系を下方から上方に移動させる工程を含む。
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露光装置
【課題】 ドライポンプからチャンバへの赤外線の入射を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置は、チャンバと、ドライポンプと、排気路と、赤外線遮蔽部とを備える。チャンバは、露光装置を構成するコンポーネントを収容する。ドライポンプは、チャンバ内の気体を排気する。排気路は、チャンバとドライポンプとを接続する。赤外線遮蔽部は、チャンバ内の排気路の入口部および排気路内の少なくとも一方に形成され、ドライポンプからチャンバへの赤外線の入射を妨げる。
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露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
【課題】多種多様な半導体素子に対応しながらも、高コスト化を招くことなく、小さなサイズのチップを露光する際のウエハ上の1チップ(1ショット)を露光するのに必要な時間を短縮させることができる露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記レチクルと前記被処理体とを相対的に走査して前記被処理体を露光する露光装置であって、スリット状の露光領域を規定する露光領域規定手段を有し、前記露光領域は、前記走査方向の長さ及び前記走査方向に直交する方向の長さが可変であることを特徴とする露光装置を提供する。
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