【課題】露光装置において、マスクと基板との距離の変動を抑制しつつ、基板のたわみを補正できる露光装置を提供することにある。
【解決手段】第１のねじ１３３及び第２のねじ１３４により、固定部１２６Ａに対して可動部１２６ＢをマスクＭの面と平行な方向（水平方向）に駆動するので、上下方向における固定部１２６Ａに対する可動部１２６Ｂの変位を抑制し、それによりマスクＭと基板Ｗとの距離の変動を抑制しつつ、マスクＭのたわみを補正することができるため、マスクＭのアライメントマークを観察するカメラや、パターンを隠すアパーチャなどの再調整が容易になったり、或いは不要になる。 （もっと読む）

【課題】反射型マスクの表面平坦度を高める。
【解決手段】マスク保持面で反射型マスク２０を保持するとともに、内部に複数の空隙１１を有する反射型マスク用静電チャック１０と、マスク保持面の表面形状を変化させるために、空隙１１の内部の圧力を制御する圧力制御部と、を有する露光装置を提供する。当該露光装置を用いた半導体装置の製造方法では、反射型マスク２０を反射型マスク用静電チャック１０に保持させた後、空隙１１内の内部圧力を調整して反射型マスク用静電チャック１０の表面形状を変化させることで、反射型マスク２０の表面平坦度を高める。 （もっと読む）

【課題】反射型マスクの裏面に形成された導電膜と、マスク固定用の静電チャックとの接合の結果、発生する異物や接合面の劣化を防止できる反射型マスクおよび露光装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶマスク１２は、基材上にＥＵＶ光を反射する多層反射膜及び吸収膜を形成し、基材の裏面に導電膜及び保護被膜を均一に塗布したもので、ＥＵＶ露光装置のマスクステージ１３に吸着させる。ＥＵＶマスク１２と露光装置内の静電チャックが、炭素原子を基本骨格とする保護被膜を介して接触することで、ＥＵＶマスク裏面の導電膜と静電チャック双方の表面劣化、異物の発生、固着を防ぐ。同時に、静電チャック側に残留した異物は装置内で洗浄用光源１７からエネルギー線１８を照射することで除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ウエハの基準面を正確に求めることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明にかかる半導体装置の製造方法は、ウエハ表面にレーザ照射し該ウエハ表面にナンバリング部を形成する工程と、ウエハディスクの爪に形成された押し当て部を該ウエハ表面に押し当てて該ウエハの基準面を求める工程と、該基準面を基準として該ウエハ表面に処理を施す工程と、を備える。そして、該基準面を求める工程では、該ナンバリング部を形成する工程で生じた突起物が、該爪に形成された溝に収容されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスク保護用の複数のスペーサを、簡単な構成で短時間にチャックの表面に設置する。
【解決手段】チャック１０の内部から上昇する突き上げピン１２及び突き上げピン１２を上下に移動するモータ１１を有する複数の突き上げピンユニットをチャック１０に設け、マスク２をマスク搬送装置によりチャック１０へ搬入し、複数の突き上げピン１２により、マスク２をマスク搬送装置から受け取ってマスクホルダ１０に装着する。マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面の周辺部を支持する複数のスペーサ３０を、チャック１０の内部に収納し、各スペーサ３０をチャック１０の内部からチャック１０の表面に出して、マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面がチャック１０の表面に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ露光装置の真空チャンバー内を大気に晒すことなくレチクルチャックのクリーニングを簡易に行うことができ、ＥＵＶ露光装置の稼働率向上に寄与する。
【解決手段】 ＥＵＶ露光装置のレチクルチャックをクリーニングするためのレチクルチャッククリーナーであって、ＥＵＶ露光装置のレチクルチャックまで搬送可能な形状を有する基板１１と、基板１１の一方の面に形成された粘着剤１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 適正な露光を行うことが可能な露光制御システムを提供する。
【解決手段】 フォトマスクの裏面に付着した異物の位置とフォトマスクを保持するチャック１２の位置とが、フォトマスクをチャックで保持したときに重なるか否かを判定する重なり判定部２２と、異物の位置とチャックの位置とが重ならないと判定された場合に、フォトマスクをチャックで保持して露光を行うことを決定する露光決定部２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】１つの装置で異なる被検査物の異物検査を実施した際に、検出した異物がいずれの被検査物に付着しているかを判定することができる異物検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物２、３に対して照明光を照射する照明手段７と、照明光の照射を受け、異物から発生する散乱光を受光する受光手段８と、被検査物を面方向、若しくは面に対する法線方向に駆動する第１駆動手段６と、照明手段７、受光手段８、及び第１駆動手段６の動作及び処理を制御する制御手段１２とを備え、第１駆動手段６は、複数の被検査物２、３を個別に駆動が可能であり、受光手段８は、第１駆動手段６による駆動前後において散乱光を受光し、制御手段１２は、駆動前後に検出された、それぞれの異物の検出結果に基づいて検出結果の変化を導出し、変化に基づいて複数の被検査物２、３のいずれの被検査物に異物が付着しているかを判定する。 （もっと読む）

【課題】被吸着物と静電チャックとの間の異物に関する情報を検出できる静電吸着方法、露光方法、静電吸着装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供。
【解決手段】被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着方法であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知工程１０４と、検知工程１０４での検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断工程１０５とを有する。また、被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着装置であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知部と、検知部の検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断部とを有する。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの密着保持状態にてマスクと基板との対向間隔を均一化できる露光装置を提供すること。
【解決手段】この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。また、マスクステージ１がマスクＭを密着保持するマスクホルダ１６を有すると共に、このマスクホルダ１６がマスクＭに対する密着面であってマスクＭのエッジ部に対応する位置に凹部１６ｃを有している。 （もっと読む）

【課題】異物の付着した面が被検物の２面のうちのいずれの面であるかを検出することが可能な異物検査装置を提供する。
【解決手段】異物検査装置は、被検物に検査光を投光する投光部と、検査光が投光されることによって被検物から生じる散乱光の強度を検出する検出器を含む受光部と、制御部とを備える。検出器は、偏光方向が第１の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第１の散乱光の強度と、偏光方向が第２の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第２の散乱光の強度とを検出する。制御部は、検出器により検出された第１の散乱光の強度および第２の散乱光の強度の比が基準値より大きいか小さいかによって異物が付着した面が第１面および第２面のいずれであるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】安価で、できるだけ装置重量を重くしないマスク保持手段を備えた光照射装置を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたマスク５を、光透過性のマスク保持手段４により吸着保持し、光照射部１から出射する光を、マスク５を介して被照射物Ｗに照射する光照射装置において、マスク保持手段４は、マスク５の一方向（幅）方向の長さよりも長く、下表面にマスク５を吸着保持するための真空吸着溝４２または真空吸着孔が形成された、光透過性の棒状部材４１と、棒状部材４１を下から支持する支持フレーム４４とを備えている。棒状部材４１は、棒状部材４１が上方向に移動することを規制しない位置決め部材により位置決めされて、支持フレーム４４に支持されている。なお位置決め部材は、支持フレーム４４上で水平方向への位置が可変可能に取付けられていてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】 真空容器内での放電の回避の点で有利な露光装置を提供すること。
【解決手段】 光源と、真空容器と，前記真空容器内に配置された照明光学系及び投影光学系とを有し、前記真空容器内で前記照明光学系を介して前記光源からの光で原版を照明し、前記投影光学系を介して前記原版からの光を投影して基板を露光する露光装置は、前記真空容器内に配置され、第１の値の電圧が印加されて前記原版を保持する静電チャックと、前記投影光学系中の光学素子を表面処理する気体を前記真空容器内に供給する供給手段と、前記第１の値より小さい第２の値に前記静電チャックへの印加電圧を低減させた状態で前記供給手段に前記気体を供給させる制御手段と、を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】作業効率の低下を招くことなく、基板における露光領域の変形に関する情報を容易に計測する。
【解決手段】露光光の照射処理が行われる基板Ｂ上の複数の照射領域ＳＡにそれぞれ設けられ、各照射領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Ｇと、温度による基板の変形に関する情報を、変形計測装置とは独立して計測する第２変形計測装置Ｇ２とを有し、変形計測装置及び第２変形計測装置は、露光光の照射処理によりパターニング形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク１８を光軸を回転中心として所定角度に亘り容易に回転できるようにする。
【解決手段】
感光性樹脂を塗布した被露光基板を保持する基板保持部１１と、保持された被露光基板２の表面の高さと略同一となるように、基板保持部１１の周囲に形成された載置棚１２と、中央に孔部が形成されてなるとともに載置棚１２上に端縁が載置され、パターン露光を行うためのフォトマスク１８が上面に載置され、被露光基板に対向させつつその上面側に微小間隔をあけて保持するためのスペーサー１５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被露光基板に対してフォトマスクを介した露光を行った後、フォトマスクを例えば光軸を回転中心として所定角度に亘り回転させて再度露光を行う装置を提供する。
【解決手段】
感光性樹脂を塗布した被露光基板を保持する基板保持部１１と、パターン露光を行うためのフォトマスク１８を被露光基板２に対向させつつその上面側に微小間隔をあけて保持する平板状マスクホルダ１６と、平板状マスクホルダ１６の周縁が載置されるホルダ載置台１３とを備え、平板状マスクホルダ１６は、中央に形成された貫通孔３３にフォトマスク１８を嵌め込むことによりこれを周囲から保持可能とされ、ホルダ載置台１３上において光軸方向を回転中心として回転させることにより、その嵌め込まれたフォトマスクを被露光基板２に対して回転自在に構成している。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）