【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板を保持する第１保持部１５と、第１保持部１５の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面が対向可能なスケール部材Ｔと、を有し、所定面内を移動可能な基板ステージ２Ｐと、所定面内を移動するスケール部材Ｔの表面が対向可能な位置に配置され、スケール部材Ｔの表面の異物を除去可能な除去部材を有する除去装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】カスタマイズ性を高め、且つ安定してシャフトモータを冷却することができるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｙ軸移動体４と、Ｘ軸固定子５１及びＸ軸可動子５２を有しＸ軸移動体６を駆動するためのＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸固定子３１及びＹ軸可動子３２を有しＹ軸移動体４を駆動するためのＹ軸シャフトモータ３と、Ｘ軸可動子５２及びＹ軸可動子３２における外周面の一又は複数の領域に対して選択的に着脱可能な冷却ジャケット８Ａ，９Ａと、チューブｔとを備えている。これにより、周囲に配置された部品が干渉しない領域に選択的に冷却ジャケット８Ａ，９Ａを着脱することができる。さらに、Ｘ軸シャフトモータ５及びＹ軸シャフトモータ３の発熱量に合わせて冷却ジャケット８Ａ，９Ａを取り付ける領域を適宜選択し、冷却量を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】最終的に希望する１パターン以上の露光面積分のマスクと、光源と、場所が必要になり、フィルム状製品の製造装置が大きくなる。
【解決手段】フィルム状製品の製造方法は、長尺状のフィルム９０を長手方向に搬送する搬送ステップと、予め定められた露光領域８０を露光する露光装置を用いて、前記フィルム９０を露光する露光ステップとを備え、前記搬送ステップおよび前記露光ステップにおいて、前記露光装置の前記露光領域における前記長手方向の長さよりも長く、切れ目なく前記フィルム９０を露光する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥは、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、を備える。第１及び第２基板ステージ１１，１２は、基板保持部３１と、基板保持部３１の上面から進退自在に配置される複数のピン３２と、を有する。基板保持部３１と基板ステージ移動機構３９との間には、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を弾性支持可能な空気ばね４６と、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を固定支持可能な電磁石４７と、振動計４８が配置される。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供する。
【解決手段】 液体を介して基板を露光する露光装置であって、複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える。前記封止材としては、細長状のフッ素樹脂製チューブ、テープ及び外側の面にフッ素樹脂層が設けられた金属箔からなる管を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の設置床面積を小さくすることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 光学エンジン３１と、軌道９Ｒｂと軸受け９Ｒａとからなる直線案内装置９Ｒにより第１のＸテーブル５Ｒ上をＹ方向に移動自在な第１のＹテーブル２０Ｒとからなり、該軸受け９Ｒａが該第１のＹテーブル２０ＲのＹ方向の長さの１／２未満を支持する第１のＸＹテーブルＲと、光学エンジン３１のＹ方向の左側に配置され、光学エンジンのＹ方向に垂直な対称面Ｐに関して第１のＸＹテーブルＲと構成が対称である第２のＸＹテーブルＬと、を設け、第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを露光位置に位置決めしたときに第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを支持する、実質的な支持端（端面９Ｒａ１ｆ）が、対称面Ｐから１０ｍｍ以下になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成でステージを基台から浮上させてステージの倣い動作が確実に実行されるようにすると共に、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】複数のローラー２３０を付勢手段２５０により収容穴２２３から突出させるという簡易な構成で、ステージ２１０を基台２２０から浮上させることができ、第１凸曲面部２１１、第１凹曲面部２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがないため倣い動作が確実に実行される。また、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、各ローラー２３０が収容穴２２３に収容されて、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の反り量が大きい場合等であっても適切な露光を行うことができ、好ましくは基板内のチップ等の損傷を回避することもできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置には、ステージ３上に載置された基板１２に光を照射する光源１と、光源１側から基板１２をステージ３に押圧する押圧部材２と、基板１２の押圧部材２により押圧されている領域の平坦度を測定するセンサ４と、センサ４により測定された平坦度に応じて押圧部材２が基板１２を押圧する力を制御する制御部５と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】比較的軽量で、加速度を受けても変形が少ない搬送部材を提供する。
【解決手段】対象物を搬送するための搬送用部材であって、前記対象物が載置される一方主面１２Ａを備える、セラミックスを主成分とする板状部１２と、該板状部１２の他方主面に接合された、前記板状部１２と略同一のヤング率を有する肋材部１４と、前記板状部１２の前記他方主面１２Ｂと前記肋材部１４とを接合する接合層とを有しており、該接合層の厚さをＴ、前記接合層のヤング率をＹ１、前記板状部１２および前記肋材部１４のヤング率をＹ２としたとき、Ｙ１≦Ｙ２であり、下記式（１）で表すαが、０＜α≦１．１６を満たすことを特徴とする搬送用部材を提供する。
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【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハホルダにおいて、ピンのウェハ支持面にパーティクルが付着していた場合であっても、露光エラーの原因になるウェハの吸着歪みを低減する。
【解決手段】このウェハホルダ１は、ウェハ支持面６ａに溝６ｂが設けられている。これにより、溝６ｂの投影面積の分だけ、ウェハ支持部材６とウェハとの接触面積が減少する。その結果、ウェハホルダ１でウェハを吸着保持する際に、両者間にパーティクルを挟み込む事態の発生頻度を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減する露光装置を実現する。
【解決手段】 液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、基板１を移動するステージを有し、ステージは、基板１を保持する保持部２と、保持部２の外周に配置され、基板１と伴に液体を支持する補助部３と、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間を通った液体を回収口４を介して回収する回収部５とを有し、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間は、回収口４に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】ウエハとパターンとを精度良く位置合わせする。
【解決手段】位置計測系を用いてステージの位置を計測し、その計測結果に基づいてステージを駆動し、ステージ上に保持されたウエハ上のアライメントマークをアライメント系を用いて検出して得られる検出結果と、その検出結果に対するステージの位置に依存する補正情報（理想格子の格子点ｍ_ｉｊについて与えられた補正データ）と、に基づいてウエハ上に形成されるパターンが理想格子状に配列されるようにウエハを保持するステージを駆動する。 （もっと読む）

【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース４１は、盤面５１ａに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔５２と、盤面５１ａに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔５３と、ベース５１の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔５２から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路５４と、を備えている。ここで、圧損回路５４は、水平方向に曲がる曲がり部６４を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】位置決めを高精度に実行することができる位置決め装置の設計方法、位置決め装置の製造方法、位置決め装置、及び露光装置を提供する。
【解決手段】第１方向に移動可能なＸステージ１００と、結合部により該Ｘステージ１００に結合され、該Ｘステージ１００に対して第２方向に移動可能なＹステージ２００と、Ｘステージ１００を第１方向に移動させるモータ（不図示）と、を備える位置決め装置において、モータ（不図示）がＸステージ１００を移動させる力と、第１方向における該Ｙステージ２００の位置と、の関係を表す伝達関数に基づく、剛体モードと、１次共振と、２次共振と、の関係に基づいて、位置決め装置のＸステージ１００及びＹステージ２００の少なくとも一方の作製上の諸元が定められる。 （もっと読む）

【課題】静電チャックからのウエハの離脱及び静電チャックに載置されるウエハのツイスト角の調整を簡単な構成により実現するとともに、静電チャックを回転させることなくウエハのツイスト角を調整可能にする。
【解決手段】静電チャックプレート２１の外側に延出するウエハＷの周端部Ｗａに接触して、ウエハＷを載置又は離脱するためのリフト部材４１と、ウエハＷが静電チャックプレート２１に載置された状態でウエハＷに非接触である退避位置Ｐと、ウエハＷを保持してウエハＷが静電チャックプレート２１から離間した離間位置Ｑとの間で、リフト部材４１を鉛直方向に沿って昇降させる昇降機構４３と、リフト部材４１がウエハＷを保持した離間位置Ｑにある状態でリフト部材４１を回転させることにより、ウエハＷのツイスト角βを調整する回転機構４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置の一部を構成する移動体モジュールの移動を効率化する。
【解決手段】ステージモジュールＷＳＭには、ステージモジュールＷＳＭを浮上させるエアホバー２９と、Ｙ軸周りに回転可能かつ接地可能な駆動輪１６０とが設けられている。エアホバー２９により浮上させた状態のまま、ステージモジュールＷＳＭを、駆動輪１６０を床面上で回転駆動することで、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 プレートが搭載されるステージの位置を位置計測系を用いて管理する。
【解決手段】 主制御装置は、所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載されたステージＷＳＴの位置を位置計測系（１８等）を用いて計測しつつ、アライメント系ＡＬＧを用いてプレート５０の一部を検出するとともに、その検出結果と対応する位置計測系の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、そのステージＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレート（すなわちステージ）の位置を前記位置計測系で設定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）