倣い機構
【課題】簡易な構成でステージを基台から浮上させてステージの倣い動作が確実に実行されるようにすると共に、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】複数のローラー２３０を付勢手段２５０により収容穴２２３から突出させるという簡易な構成で、ステージ２１０を基台２２０から浮上させることができ、第１凸曲面部２１１、第１凹曲面部２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがないため倣い動作が確実に実行される。また、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、各ローラー２３０が収容穴２２３に収容されて、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【解決手段】複数のローラー２３０を付勢手段２５０により収容穴２２３から突出させるという簡易な構成で、ステージ２１０を基台２２０から浮上させることができ、第１凸曲面部２１１、第１凹曲面部２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがないため倣い動作が確実に実行される。また、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、各ローラー２３０が収容穴２２３に収容されて、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ上面の傾きを調整する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ステージ上面の傾きを調整することで、ステージ上面に載置された基板の回路パターン面と、これに接合されるチップなどの電子部品の接合面との平行度を高精度に調整する技術が知られている。例えば、特許文献１には、下面側に凸曲面部を有するステージと、上面側にステージの凸曲面部と摺接可能に設けられた凹曲面部を有するステージの載置用の基台とを備え、基台にステージが載置された状態でステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に圧縮空気が吐出されることで両曲面部間にわずかな隙間が生じ、これにより、ステージが基台の凹曲面部に沿って自在に揺動する倣い機構が記載されている。
【０００３】
すなわち、ステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に圧縮空気の吐出による空気層が形成されることにより、両曲面部間に生じる摩擦力が抑制されるため、ステージの凸曲面部が基台の凹曲面部に沿って自在に動くことができる。したがって、ステージ上面に載置された基板と、この基板に接合されるチップ等とが当接したときに、ステージの凸曲面部が基台の凹曲面部に沿って動くことによるステージの受動的な倣い動作によって、ステージ上の基板の傾きを調整して、基板とチップとの平行度を一致させることができる。
【０００４】
また、ステージの倣い動作によって基板とチップとの平行度が一致すれば、ステージの凸曲面部および基台の凹曲面部間への圧縮空気の吐出を停止することにより、両曲面部が接触し、両曲面部の接触面に生じる静止摩擦力によりステージが基台に固定されてステージの傾きが維持される。このとき、ステージの傾きが維持された状態で、ステージに高加圧力が加えられたとしても、基台がステージの凸曲面部を下方から凹曲面部により面で支持するため、ステージは基台により確実に支持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２３０２７７号公報（段落００２５，００２６、図４など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した従来の倣い機構では、圧縮空気を利用してステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に生じる摩擦力を抑制しているが、両曲面部の接触面の全面にわたって圧縮空気を行渡らせるためには、両曲面部の表面に空気が残留しやすいように、開気孔を多く含む非常に高価な焼結金属で両曲面部を形成しなければならない。また、圧縮空気を両曲面部の接触面に供給するために、両曲面部に複雑な加工を施さなければならずコストアップの原因となっている。
【０００７】
また、倣い機構における倣い動作は、例えば、倣いの基準面が、いわゆる片当たり状態でステージの上面に押付けられたときに発生するモーメントによりステージが受動的に揺動することで実行される。そして、ステージが受動的に揺動することにより、ステージの上面および倣いの基準面の傾きが一致して、ステージの上面と倣いの基準面との片当たり状態が解消されれば倣い動作は完了する。
【０００８】
このとき、従来の倣い機構では、ステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に空気を行渡らせるために高圧の圧縮空気を供給しなければならないが、ステージの上面に押付けられる倣いの基準面の大きさが小さければ、発生するモーメントも小さくなるため、高圧の圧縮空気がステージに作用してステージの倣い動作が適切に実行されないおそれがある。
【０００９】
また、従来の倣い機構では、ステージの傾きが倣いの基準面の傾きと同じ傾きに維持された状態でステージの上面が加圧されたときに、ステージに対する加圧力の中心が、ステージの上方からみた凸曲面部の重心からずれている場合には、ステージを揺動させるモーメントが生じてステージの傾きが変動するおそれがあるため、ステージに対する加圧力の中心を前記凸曲面部の重心と一致させる必要があり、倣い機構の使い勝手が悪く改善が求められていた。
【００１０】
この発明は上記した課題に鑑みてなされたものであり、簡易な構成でステージを基台から浮上させてステージの倣い動作が確実に実行されるようにすると共に、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる技術を提供することを第１の目的とする。
【００１１】
また、ステージを基台に強固に固定することで倣い機構の使い勝手の改善を図ることができる技術を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した第１の目的を達成するために、本発明にかかる倣い機構は、下面側に第１凸曲面部を有するステージと、前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に複数形成された収容穴とを有し、前記各収容穴それぞれに複数の前記支持手段が収容された前記ステージの載置用の基台と、前記各収容穴に設けられて前記各支持手段それぞれを付勢する複数の付勢手段とをさら備え、前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各支持手段それぞれを付勢することにより、前記第１凸曲面部と前記第１凹曲面部とが離間した状態で実行され、前記ステージの上面が前記各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各付勢手段の付勢力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記各支持手段それぞれが前記各収容穴に収容されて前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接することを特徴としている（請求項１）。
【００１３】
また、前記各支持手段は、前記収納穴それぞれに出没自在に設けられて前記第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、前記第１凸曲面部および前記第１凹曲面部は、それぞれ円弧面状に形成されており、前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各収容穴から突出した前記各ローラーが前記第１凸曲面部に当接した状態で、前記ステージが前記円弧面の円弧方向に揺動することにより実行されるとよい（請求項２）。
【００１４】
また、前記各付勢手段それぞれは、相反発する一対の磁石であり、前記各付勢手段それぞれの一方の磁石に前記支持手段が取付けられていてもよい（請求項３）。
【００１５】
また、上記した第１の目的を達成するために、本発明にかかる倣い機構は、下面側に第１凸曲面部を有するステージと、前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に埋設された複数個の第１磁石とを有する前記ステージの載置用の基台と、前記各第１磁石それぞれに同一磁極が対向して複数個の磁石対をなすように第１凸曲面部に埋設された複数個の第２磁石とをさら備え、前記倣い動作は、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力により、前記第１凸曲面部が浮上して前記第１凹曲面部から離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接することを特徴としている（請求項４）。
【００１６】
また、上記した第２の目的を達成するため、本発明にかかる倣い機構は、前記基台の下面側に設けられた第２凸曲面部と、前記第１凹曲面部に形成された開口と前記第２凸曲面部に形成された開口とを連通して前記基台に形成された貫通孔と、一端が前記ステージの前記第１凸曲面部に連結され前記貫通孔に挿通されたボルト部材と、前記貫通孔を経て前記基台の下方に導出された前記ボルト部材の他端部に螺合されるナット部材と、上面側に前記第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有し、第２凸曲面部と前記ナット部材との間に介挿される介挿部材とを有し、前記ナット部材の締め付け時に、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接し前記第２凸曲面部が前記第２凹曲面部に当接することで載置状態の前記ステージを前記基台に固定する固定手段をさらに備えることを特徴としている（請求項５）。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、基台の上面側に設けられた第１凹曲面部に複数形成された収容穴に収容された複数の支持手段それぞれを付勢手段により付勢するという簡易な構成で、下面側に設けられた第１凸曲面部が支持手段により複数箇所において摺接可能に支持されたステージを基台から浮上させることができ、ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であるため、両曲面部間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、下面側の第１凸曲面部が支持手段に摺接しつつステージが揺動することで、ステージの上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００１８】
また、ステージに高加圧力が加えられたとしても、ステージの上面が各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段の付勢力に抗したステージ下面側の第１凸曲面部の押圧により、各支持手段それぞれが収容穴に収容されて、第１凸曲面部が、該第１凸曲面部と摺接可能に設けられた基台上面側の第１凹曲面部に面で当接するため、基台がステージの第１凸曲面部を下方から第１凹曲面部により面で支持することで確実にステージを支持することができ、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００１９】
また、ステージの倣い動作時には、ステージを支持する支持手段を付勢する付勢手段の付勢力によりステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であり、従来のように、高圧の圧縮空気などをステージの第１凸曲面部と基台の第１凹曲面部との接触面に供給する必要がないため、ステージ等を焼結金属等の特殊な材質で形成する必要がなく、さらに、ステージ等に空気供給路などの特殊な加工を施す必要もないため、倣い機構の製造コストの大幅な抑制を図ることができる。また、ステージの倣い動作時に圧縮空気を使用しないため、供給された圧縮空気がステージに作用することによる外乱が発生するおそれがなく、ステージ上面の倣い動作を高精度に実行することができる。
【００２０】
請求項２の発明によれば、各支持手段が、収容穴それぞれに出没自在に設けられて第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、ステージ下面側の第１凸曲面部および基台上面側の第１凹曲面部が、それぞれ円弧面状に形成されることで、各付勢手段により各収容穴から突出した各ローラーが、円弧面状に形成されたステージ下面側の第１凸曲面部に当接した状態で、ステージの下面側の第１凸曲面部が各ローラーに摺接してステージが円弧面の円弧方向に揺動することによる倣い動作を実行することができる。
【００２１】
請求項３の発明によれば、相反発する一対の磁石により付勢手段段が形成されて、各付勢手段それぞれの一方の磁石に支持手段が取付けられることで非接触で支持手段を付勢することができる。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、ステージの下面側の第１凸曲面部および基台の上面側の第１凹曲面部それぞれに同一の磁極が対向するように第１、第２磁石を埋設して複数個の磁石対を形成するという簡易な構成で、各磁石対の第１、第２磁石の反発力によりステージを基台から浮上させることができ、ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であるため、両曲面部間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、ステージが揺動することで、ステージの上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００２３】
また、ステージに高加圧力が加えられたとしても、ステージの上面が各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗して第１凸曲面部が、該第１凸曲面部と摺接可能に設けられた基台上面側の第１凹曲面部に面で当接するため、基台がステージの第１凸曲面部を下方から第１凹曲面部により面で支持することで確実にステージを支持することができ、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００２４】
また、ステージの倣い動作時には、ステージの下面側の第１凸曲面部および基台の上面側の第１凹曲面部それぞれに埋設された各磁石対の第１、第２磁石の反発力によりステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であり、従来のように、高圧の圧縮空気などをステージの第１凸曲面部と基台の第１凹曲面部との接触面に供給する必要がないため、ステージ等を焼結金属等の特殊な材質で形成する必要がなく、さらに、ステージ等に空気供給路などの特殊な加工を施す必要もないため、倣い機構の製造コストの大幅な抑制を図ることができる。また、ステージの倣い動作時に圧縮空気を使用しないため、供給された圧縮空気がステージに作用することによる外乱が発生するおそれがなく、ステージ上面の倣い動作を高精度に実行することができる。
【００２５】
請求項５に記載の発明によれば、上面側に設けられた第１凹曲面部に形成された開口と、下面側に設けられた第２凸曲面部に形成された開口とを連通して基台に形成された貫通孔に、ステージの下面側の第１凸曲面部に一端が連結されたボルト部材が挿通され、基台の下方に導出されたボルト部材の他端部にはナット部材が螺合されて、基台の下面側の第２凸曲面部とボルト部材の他端部に螺合されたナット部材との間には、上面側に基台の第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有する介挿部材が介挿される。
【００２６】
そして、ナット部材の締め付け時に、ステージの下面側の第１凸曲面部が基台の上面側の第１凹曲面部に当接し、基台の下面側の第２凸曲面部が介挿部材の上面側の第２凹曲面部に当接することで、ステージが基台に載置された状態で固定されるため、ステージの第１凸曲面部および介挿部材の第２凹曲面部により基台が上下から強固にクランプされた状態となり、ナット部材の締め付けに伴い生じるステージ下面側の第１凸曲面部および基台上面側の第１凹曲面部間の静止摩擦力によりステージが基台に強固に固定されるので、ステージの上面が加圧されてステージを揺動させるモーメントが生じたとしても、当該モーメントの大きさが前記静止摩擦力の大きさを超えない限り、ステージの傾きが容易に変動するおそれがないため、従来のように、ステージに対する加圧力の加圧中心について考慮する必要がなく、倣い機構の使い勝手の改善を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の倣い機構を備える接合装置の第１実施形態を示す図である。
【図２】倣い機構の斜視図である。
【図３】図２とは異なる方向から見た倣い機構の分解斜視図である。
【図４】倣い機構の一部切断正面図である。
【図５】倣い機構の一部切断正面図である。
【図６】倣い機構の一部切断正面図である。
【図７】倣い機構の一部切断正面図である。
【図８】本発明の倣い機構の第２実施形態を示す一部切断正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
＜第１実施形態＞
この発明の第１実施形態について図１ないし図７を参照して説明する。図１は本発明の倣い機構２００を備える接合装置１００の第１実施形態を示す図である。図２は倣い機構２００の斜視図である。図３は図２とは異なる方向から見た倣い機構２００の分解斜視図である。図４〜図７は倣い機構２００の一部切断正面図であって、それぞれ異なる状態を示す図である。
【００２９】
（接合装置の構成）
図１に示す接合装置１００は、チップ２３や電子部品などの対象物を、基板２４やウエハなどの被実装物の所定の位置に超音波振動により接合する。すなわち、ＧａＡｓなどの半導体の接合面に金属バンプ２３ａを有するチップ２３と、金属バンプ２４ａを有する基板２４とが超音波振動が印加されることにより接合され、チップ２３が基板２４の所定の位置に接合される。なお、チップ２３は後述する共振器７の保持手段４０の保持面に保持され、基板２４は後述するステージ２１０の上面に載置される。
【００３０】
図１に示すように、接合装置１００は、接合機構２７と、倣い機構２００とステージテーブル１２とを有する実装機構２８と、位置認識部２９と、搬送部３０と、制御装置３１とを備えている。
【００３１】
接合機構２７は、上下駆動機構２５とヘッド部２６とを備え、上下駆動機構２５は上下駆動モータ１とボルト・ナット機構２とにより、共振器支持部６を上下ガイド３でガイドしながら上下動する。そして、接合機構２７はフレーム３４に結合され、フレーム３４はヘッド部２６の加圧中心の周辺を囲むように配設された４本の支柱１３により架台３５と連結されている。なお、支柱１３およびフレーム３４の一部は図示省略されている。
【００３２】
共振器支持部６は、ヘッド逃がしガイド５で上下方向にガイドされ、自重をキャンセルするための自重カウンター４に牽引された状態でボルト・ナット機構２に連結されている。そして、この共振器支持部６に、共振器７を有するヘッド部２６が結合されている。
【００３３】
また、共振器支持部６には圧力センサ３２が設けられており、圧力センサ３２は、共振器７とステージ２１０との間に挟持されたチップ２３、基板２４などの接合対象物への加圧力を検出する。そして、圧力センサ３２により検出された接合対象物に対する加圧力が制御装置３１にフィードバックされ、当該フィードバック値に基づいて上下駆動機構２５が制御されることで、両接合対象物への加圧力が制御される。また、共振器支持部６は、リニアセンサなどにより形成される共振器部高さ検出手段３６を備えており、これによりヘッド部２６の高さが検出される。
【００３４】
共振器支持部６に結合されたヘッド部２６は、共振器７と、振動子８と、チップ２３を吸着保持する保持手段４０と、基部２０と第１クランプ手段２１および第２クランプ手段２２とを有する共振器支持手段４４とを備えている。
【００３５】
共振器７は、振動子８が発生する超音波振動に共振するものであって、共振器７のほぼ中央の位置と、両端位置とが最大振幅点となるように、共振周波数の一波長の長さで形成されている。このように構成すれば、最大振幅点から１／４波長離れた位置それぞれが最小振幅点（ノーダルポイント）に相当する。また、共振器７は、断面形状が円形状である円柱状に形成されている。
【００３６】
振動子８は、共振器７の中心軸と同軸に共振器７の一端に連結されている。また、振動子８は、制御装置３１により制御されて超音波振動を発生し、これにより共振器７がその中心軸の方向に振動する。
【００３７】
保持手段４０は、最大振幅点である共振器７のほぼ中央の位置における外周下面に、熱硬化型樹脂などの接着剤により取着されて、チップ２３や電子部品などの接合対象物を保持面に保持する。また、保持手段４０は、チップ２３や電子部品などの接合対象物を保持面に吸着保持できるように、真空吸着機構（図示省略）を備えている。また、チップ２３などの対象物を保持する構成としては真空吸着機構に限られるものではなく、静電吸着機構、機械式のチャック機構など、対象物を保持できる機構であればどのような構成であってもよい。また、接合対象物を保持手段４０に直接貼付けることにより接合対象物が保持手段４０に保持されるようにしてもよい。
【００３８】
また、保持手段４０を、超硬タングステンカーバイト、セラミック、ダイヤモンドなど、金属以外の部材により形成してもよく、このように構成した保持手段４０を、エポキシ系の接着剤や、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇなどの金属ろうなどによって共振器７に接着してもよい。
【００３９】
また、共振器７の最小振幅点の外周には、それぞれ凹状の被支持部が形成されており、凹状に形成された被支持部がそれぞれ共振器支持手段４４が有する第１クランプ手段２１および第２クランプ手段にクランプされることで、共振器７が共振器支持手段４４により支持される。
【００４０】
また、共振器支持手段４４の基部２０は共振器支持部６に固定されており、共振器支持部６が上下駆動機構２５により上下に駆動されることにより、共振器支持手段４４に支持された共振器７が上下動し、チップ２３および基板２４などの接合対象物が加圧される。
【００４１】
なお、保持手段４０を、上記した材質のうち、比較的硬度の高い、ガラス、超硬タングステンカーバイト、セラミックやダイヤモンドなどで形成すれば、共振器７を音響特性の優れた材質、例えばチタン合金により形成するとよい。また、保持手段４０を、硬度の高い材質で形成すれば、共振器７を安価な材質、例えばＡｌにより形成してもよい。
【００４２】
実装機構２８は、被実装物としての基板２４が載置されるステージ２１０を有する倣い機構２００と、倣い機構２００（ステージ２１０）を上下方向にほぼ直交する水平面内で移動するステージテーブル１２とを備えている。
【００４３】
倣い機構２００が有するステージ２１０は、基板２４をステージ２１０の上面に吸着保持するため真空吸着機構（図示省略）を備えている。また、基板２４やウエハなどの被実装物を保持する構成としては真空吸着機構に限られるものではなく、静電吸着機構や、機械式のチャック機構など、被実装物を保持できる機構であればどのような構成であってもよい。また、被実象物をステージ２１０上に載置するだけでもよい。なお、倣い機構２００の構成および動作については後で詳細に説明する。
【００４４】
ステージテーブル１２は、平行・回転移動自在な移動軸を備え、倣い機構２００（ステージ２１０）をヘッド部２６に対して相対的に移動することで、保持手段４０に保持されたチップ２３に対する基板２４の相対的な位置を調整する。なお、この実施形態では、後述する上下マーク認識手段１４により読取られたチップ２３および基板２４の金属バンプ２３ａ，２４ａ（アライメントマーク）の相対的な位置関係に基づいてステージテーブル１２が制御装置３１により制御されて、チップ２３と基板２４との相対的な位置調整が行われる。
【００４５】
位置認識部２９は、対向配置されたチップ２３と基板２４の間に挿入されて、チップ２３および基板２４にそれぞれ設けられた位置認識用のアライメントマーク（金属バンプ２３ａ，２４ａ）を光学的に読取る上下マーク認識手段１４と、チップ２３、基板２４および共振器７の振幅を検出する振幅検出器３３と、上下マーク認識手段認識手段１４および振幅検出器３３を水平面内および上下方向に移動させる認識手段移動テーブル１５とを備えている。なお、上下マーク認識手段１４は、ミラーやプリズムで構成される、周知の２視野光学系レンズと、２視野光学系レンズを介してその上下に隔離して配置されたチップ２３および基板２４を撮像するＣＣＤカメラとを備えている（図示省略）。
【００４６】
搬送部３０は、チップ２３を搬送するチップ供給装置１６およびチップトレイ１７と、基板２４を搬送する基板搬送装置１８および基板搬送コンベア１９とを備えている。
【００４７】
制御装置３１は、ヘッド部２６を介してチップ２３および基板２４に加えられる加圧力や、振動子８へ印加される電圧および電流を調整してチップ２３および基板２４に加えられる超音波振動エネルギーの大きさなどを制御する。また、制御装置３１は、共振器部高さ検出手段３６によるヘッド部２６の高さ位置の検出信号に基づいて上下駆動機構２５を制御し、ヘッド部２６の図１中の矢印Ｚ方向の高さを調節する。また、制御装置３１は、接合装置１００全体の制御を行うための操作パネル（図示省略）を備えている。
【００４８】
（接合動作）
次に、接合装置１００における、チップ２３を基板２４の所定の位置に超音波振動により接合する接合動作の一例について説明する。
【００４９】
まず、対象物としてのチップ２３および被実装物としての基板２４の供給が行われる。チップ２３は、チップ供給装置１６によりチップトレイ１７から共振器７に取着された保持手段４０に供給されて吸着保持される。また、基板２４は、基板搬送装置１８により基板搬送コンベア１９からステージ２１０に供給されて吸着保持される。
【００５０】
次に、それぞれの接合面が対向するように保持されたチップ２３と基板２４との間に上下マーク認識手段１４が認識手段移動テーブル１５により挿入されて、対向保持されたチップ２３および基板２４にそれぞれ設けられたアライメントマーク（金属バンプ２３ａ，２４ａ）の位置が上下マーク認識手段１４により検出される。そして、上下マーク認識手段１４により読取られたチップ２３および基板２４のアライメントマークの相対的な位置関係に基づいて、チップ２３の位置を基準としてステージテーブル１２が平行・回転移動されて基板２４の位置が調整されて、チップ２３と基板２４との相対的な位置調整が行われる。
【００５１】
続いて、チップ２３および基板２４の相対的な位置が整合された状態（金属バンプ２３ａ，２４ａの位置が合わされた状態）で、認識手段移動テーブル１５により上下マーク認識手段１４が退避されると共に、上下駆動機構２５によりヘッド部２６の下降が開始され、チップ２３と基板２４とが接近される。そして、チップ２３の金属バンプ２３ａと基板２４の金属バンプ２４ａとが接触することによる圧力センサ３２からの検出信号に基づき、チップ２３と基板２４とが共振器７およびステージ２１０との間に挟持されたことが検出されると、所定の加圧力がチップ２３および基板２４に加えられると共に超音波振動が印加されて、金属バンプ２３ａ，２４ａどうしが接合される。
【００５２】
このとき、制御装置３１により、振動子８に印加される電流値および電圧値から導出される超音波振動エネルギー、共振器７の共振振幅、チップ２３および基板２４に対する加圧力などの監視と制御が行われる。なお、接合処理を終了するタイミングは、目的とされる接合面積で接合されるために必要な加圧力、超音波振動エネルギーおよび接合時間を予め求めておき、予め求めたそれぞれの値に達したときに接合処理を終了すればよい。
【００５３】
この実施形態では、一例として、振動子８の発信周波数は４０ｋＨｚに設定され、振動子８への印加電圧は０Ｖ〜１０Ｖの範囲内に設定されている。また、この実施形態では、一例として、チップ２３と基板２４との間の相対振動振幅の大きさが０．１μｍ〜０．５μｍ程度の振幅となるように構成されているが、相対振動振幅の大きさは、対象物および被実装物の種類（材質、機能など）や接触面積などに応じて適宜変更すればよい。
【００５４】
そして、チップ２３および基板２４の接合が終了して接合処理が完了すると共振器７によるチップ２３の吸着が解除され、ヘッド部２６が上方へ復帰移動される。最後に、チップ２３が実装された状態で、ステージ２１０上に保持された基板２４が基板搬送装置１８により基板搬送コンベア１９へ排出されて一連の接合処理が終了する。なお、基板２４へ接合されるチップ２３の数は１つに限られず、複数のチップ２３を基板２４へ連続的に接合してもよい。
【００５５】
（倣い機構の構成）
次に、主に図２〜図４を参照して倣い機構２００の構成について説明する。図３に示すように、倣い機構２００は、下面側に第１凸曲面部２１１を有するステージ２１０と、上面側に第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた第１凹曲面部２２１を有するステージ２１０の載置用の基台２２０と、第１凸曲面部２１１に摺接可能に当接して第１凸曲面部２１１を複数箇所において支持するローラー２３０（支持手段）と、基台２２０が載置されてボルト２４１により固定される支持台２４０とを備え、支持台２４０がボルト２４２によりステージテーブル１２に固定されることで倣い機構２００はステージテーブル１２に取り付けられる。
【００５６】
図４に示すように、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１は、正面視における断面形状が円弧状となるようにそれぞれ円弧面状に形成されている。また、第１凸曲面部２１１と第１凹曲面部２２１とは、円弧面の円弧方向に摺接できるように、円弧の曲率がほぼ同一に形成されている。また、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１の所定位置にはガイド部材２１２が取着され、基台２２０の第１凹曲面部２２１のガイド部材２１２に対応する位置にはガイド孔２２２が形成されており、ステージ２１０は、ガイド部材２１２がガイド孔２２２に挿通された状態で基台２２０に載置される。
【００５７】
また、ガイド孔２２２は、ガイド部材２１２の直径とほぼ同一の幅で第１凹曲面部２２１の円弧方向に長軸に形成されており、ガイド部材２１２の円弧方向以外への移動を規制する。したがって、ガイド部材２１２をガイド孔２２２に挿通してステージ２１０が基台２２０に載置されることで、ステージ２１０の円弧方向にほぼ直交する方向への移動、すなわち、ステージ２１０の基台２２０からのずれ落ちが防止される。
【００５８】
また、基台２２０の第１凹曲面部２２１には複数の収容穴２２３が形成されており、各収容穴２２３には、ローラー２３０と、ローラー２３０を収容穴２２３から突出する方向に付勢する例えばばねにより形成された付勢手段２５０とが配設される。ローラー２３０は、回転軸２３１の両端に２個のローラーが連結された状態で、ローラー２３０の回転方向が、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１の摺接方向（円弧方向）と一致するように、各収容穴２２３それぞれに出没自在に収容される。
【００５９】
なお、付勢手段２５０に用いるばねは、コイルばね、板ばね、その他のばねであればよく、ばね以外に弾性を有するゴム材などを付勢手段２５０に使用してもよい。また、エアーシリンダ、油圧シリンダ、エアー袋などを付勢手段２５０に使用してもよい。また、付勢手段２５０として、相反発するように同一磁極が対向配置された一対の磁石を使用し、磁石の反発力によりローラー２３０を付勢してもよい。
【００６０】
また、付勢手段２５０は、ローラー２３０の回転軸２３１を上方に付勢するように、収容穴２２３の回転軸２３１の下方に配置される。なお、付勢手段２５０によるローラー２３０の収容穴２２３からの過剰な飛び出しを規制するために、押さえ板２３２が、収容穴２２３の所定位置に形成された凹部２２３ａに、ローラー２３０の回転軸２３１の上方に配置されるように取り付けられている。
【００６１】
また、基台２２０には、下面側に第２凸曲面部２６０が設けられ、第１凹曲面部２２１に形成された開口と第２凸曲面部に形成された開口とを連通する貫通孔２６１が形成されており、支持台２４０の貫通孔２６１に対応する位置には貫通孔２４１が形成されている。また、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１のほぼ中央の位置には、ボルト部材２６２の一端が固定ボルト２６２ａにより固定されており、第１凸曲面部２１１に連結されたボルト部材２６２が、基台２２０の貫通孔２６１および支持台２４０の貫通孔２４１に挿通されてステージ２１０が基台２２０に載置される。
【００６２】
また、基台２２０の貫通孔２６１を経て基台２２０の下方に導出されたボルト部材２６２の他端部にはナット部材２６３が螺合されており、ボルト部材２６２の、基台２２０の第２凸曲面部２６０とナット部材２６３との間には介挿部材２６４が介挿されている。また、介挿部材２６４の上面側には第２凸曲面部２６０と摺接可能に第２凹曲面部２６５が設けられており、図４に示すように、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０および介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５は、正面視における断面形状が円弧状となるようにそれぞれ円弧面状に形成されている。また、第２凸曲面部２６０と第２凹曲面部２６５とは、円弧面の円弧方向に摺接できるように、円弧の曲率が、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１の円弧の曲率とほぼ同一に形成されている。
【００６３】
このように構成すると、図４に示すように、ナット部材２６３の締め付け時に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接し、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０が介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５に当接することで、基台２００に載置された状態でステージ２１０が基台２２０に固定される。以上のように、第２凸曲面部２６０、貫通孔２６１、ボルト部材２６２、ナット部材２６３、介挿部材２６４、第２凹曲面部２６５が、本発明の「固定手段」として機能している。
【００６４】
一方、図５に示すように、ナット部材２６３が緩められると、付勢手段２５０により各ローラー２３０が各収容穴２２３から突出し、ローラー２３０が第１凸曲面部２１１に当接することにより支持されたステージ２１０が基台２２０から浮上して、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間する。この状態で、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられれば、図６に示すように、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１がローラー２３０に摺接しつつステージ２１０が第１凸曲面部２１１（円弧面）の円弧方向に揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面を一致させる倣い動作が実行される。
【００６５】
また、ステージ２１０の上面が各付勢手段２５０の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０が各収容穴２２３に収容されて第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接する。
【００６６】
（倣い動作の一例）
次に、主に図４〜図７を参照して倣い機構２００による倣い動作の一例について説明する。この実施形態では、接合装置１００による接合動作が実行される前に、共振器７に取着された保持手段４０の保持面の傾き（倣いの基準面の傾き）と、ステージ２１０の上面の傾きとを一致させるために倣い機構２００による倣い動作が実行される。
【００６７】
まず、ナット部材２６３が緩められて、図５に示すように、付勢手段２５０の付勢力によりステージ２１０が基台２２０から持ち上げられてローラー２３０に支持された状態となる。この状態で、接合装置１００のヘッド部２６が下降され、保持手段４０の保持面がステージ２１０の上面に当接すると、図６に示すように、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１がローラー２３０に摺接しつつ、保持手段４０の保持面の傾きとステージ２１０の上面の傾きとが一致するまでステージ２１０が揺動する。
【００６８】
続いて、保持手段４０の保持面の傾きとステージ２１０の上面の傾きとが一致した後は、付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０が各収容穴２２３に収容されて第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接するまでヘッド部２６を下降する。そして、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接すれば、ヘッド部２６の下降が停止され、図７に示すように、ナット部材２６３が締め付けられて、ステージ２１０の上面の傾きが倣いの基準面の傾きに一致するように調整された状態で、ステージ２１０が基台２２０に固定される。最後に、ヘッド部２６が復帰移動されて倣い動作が完了する。
【００６９】
以上のように、この実施形態によれば、基台２２０の上面側に設けられた第１凹曲面部２２１に複数形成された収容穴２２３に出没自在に収容された複数のローラー２３０それぞれを、当該収容穴２２３から突出する方向に付勢する複数の付勢手段２５０により各収容穴２２３から突出させるという簡易な構成で、下面側に設けられた第１凸曲面部２１１がローラーにより複数箇所において摺接可能に支持されたステージ２１０を基台２２０から浮上させることができ、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間した状態であるため、両曲面部２１１，２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、下面側の第１凸曲面部２１１がローラーに摺接しつつステージ２１０が揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００７０】
また、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、ステージ２１０の上面が各付勢手段２５０の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０それぞれが収容穴２２３に収容されて、第１凸曲面部２１１が、該第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に面で当接するため、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００７１】
また、上面側に設けられた第１凹曲面部２２１に形成された開口と、下面側に設けられた第２凸曲面部２６０に形成された開口とを連通して基台２２０に形成された貫通孔２６１に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１に一端が連結されたボルト部材２６２が挿通され、基台２２０の下方に導出されたボルト部材２６２の他端部にはナット部材２６３が螺合されて、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０とボルト部材２６２の他端部に螺合されたナット部材２６３との間には、上面側に基台２２０の第２凸曲面部２６０と摺接可能に設けられた第２凹曲面部２６５を有する介挿部材２６４が介挿される。
【００７２】
そして、ナット部材２６４の締め付け時に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接し、基台２１０の下面側の第２凸曲面部２６０が介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５に当接することで、ステージ２１０が基台２２０に載置された状態で固定されるため、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１および介挿部材２６４の第２凹曲面部２６５により基台２２０が上下から強固にクランプされた状態となり、ナット部材２６３の締め付けに伴い生じるステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１間の静止摩擦力によりステージ２１０が基台２２０に強固に固定されるので、ステージ２１０の上面が加圧されてステージ２１０を揺動させるモーメントが生じたとしても、当該モーメントの大きさが前記静止摩擦力の大きさを超えない限り、ステージ２１０の傾きが容易に変動するおそれがないため、従来のように、ステージ２１０に対する加圧力の加圧中心について考慮する必要がなく、倣い機構２００の使い勝手の改善を図ることができる。
【００７３】
また、ステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１が、それぞれ円弧面状に形成されることで、各付勢手段２５０により各収容穴２２３から突出した各ローラー２３０が、円弧面状に形成されたステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１に摺接可能に当接した状態で、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が各ローラー２３０に摺接してステージ２１０が円弧面の円弧方向に揺動することによる倣い動作を容易に実行することができる。
【００７４】
＜第２実施形態＞
この発明の第２実施形態について図８を参照して説明する。図８は本発明の倣い機構の第２実施形態を示す一部切断正面図である。この実施形態が上記した第１実施形態と異なる点は、図８に示すように、ローラー２３０および付勢手段２５０に換えて、複数の磁石対３００を成すように、複数の第１磁石３１０が第１凹曲面部２２１に埋設され、各第１磁石３１０それぞれに同一磁極を対向させて複数の第２磁石３２０が第１凸曲面部２１１に埋設されている点である。その他の構成および動作は上記した第１実施形態と同様であるため、同一符号を付すことにより、その構成および動作の説明は省略する。
【００７５】
このように構成すると、ナット部材２６３を緩めることで、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力により、ステージ２１０が基台２２０から浮上する。そして、第１凸曲面部２１１が第１凹曲面部２２１から離間した状態で、第１凸曲面部２１１が第１磁石３１０に擬似的に摺接しつつステージ２１０が揺動することで、上記した倣い動作が実行される。
【００７６】
したがって、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１それぞれに同一の磁極が対向するように第１、第２磁石３１０，３２０を埋設して複数個の磁石対３００を形成するという簡易な構成で、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力によりステージ２１０を基台から浮上させることができ、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間した状態であるため、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、ステージ２１０が揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００７７】
また、ステージ２１０の上面が各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力に抗した第１凸曲面部２１１の押圧により、第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接する。
【００７８】
したがって、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、ステージ２１０の上面が各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力に抗して第１凸曲面部２１１が、該第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１に面で当接するため、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００７９】
また、ステージ２１０の両側にはフランジ部が形成されており、基台２２０の両側の上面には、一部が第１凹曲面部２２１の周縁部分に突出してステージ２１０のフランジ部の上方に配置されるように規制板４００がボルトなどにより固定されて配設されている。したがって、第１凹曲面部２２１に突出した規制板４００の一部にステージ２１０のフランジ部が下方から当接することにより、ステージ２１０の基台２２０からの過剰な浮き上がりが防止される。
【００８０】
以上のように、この実施形態では、上記した第１実施形態と同様の効果を奏することができる。なお、磁石対３００が本発明の「支持手段」として機能している。
【００８１】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能であり、例えば、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１を曲率がほぼ同じ球面により形成し、第２凸曲面部２６０および第２凹曲面部２６５を曲率がほぼ同じ球面により形成することで、ステージ２１０が四方のどの方向にも揺動することができるようにしてもよい。この場合、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１により形成される中心角と、第２凸曲面部２６０および第２凹曲面部２６５により形成される中心角とを一致させるとよい。
【００８２】
また、支持手段は上記したローラー２３０に限られるものではなく、全方向に回転可能に形成されたボールベアリングなど、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１に滑らかに摺接することができる構成であれば、どのように支持手段を構成してもよい。
【００８３】
また、上記した倣い機構２００を、ステージ２１０の揺動方向がほぼ直交するように２個組合わせて使用してもよい。また、倣い機構２００の天地を入換えて使用してももちろんよい。
【００８４】
また、上記した実施形態では、ステージ１０側が水平方向の位置調整機能、ヘッド部２６側が上下駆動機構を有するように構成したが、水平方向の位置調整機能、上下駆動機構はステージ１０側、ヘッド部２６側にどのように組み合わせてもよく、また、重複するように構成してもよい。
【００８５】
さらに、上記した実施形態では、ヘッド部２６およびステージ１０を上下方向（図１に示す矢印Ｚ方向）に配置し、対象物であるチップ２３および被実装物である基板２４を上下方向で重ね合わせて接合する構成としたが、ヘッド部２６およびステージ１０の配置方向としてはこれに限定されず、上下方向にほぼ直交する左右方向に配置することにより、両対象物が左右方向で重ね合わされて接合される構成でもよい。
【符号の説明】
【００８６】
２００…倣い機構
２１０…ステージ
２１１…第１凸曲面部
２２０…基台
２２１…第１凹曲面部
２２３…収容穴
２３０…ローラー（支持手段）
２５０…付勢手段
２６０…第２凸曲面部
２６１…貫通孔
２６２…ボルト部材
２６３…ナット部材
２６４…介挿部材
２６５…第２凹曲面部
３００…磁石対（支持手段）
３１０…第１磁石
３２０…第２磁石
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ上面の傾きを調整する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ステージ上面の傾きを調整することで、ステージ上面に載置された基板の回路パターン面と、これに接合されるチップなどの電子部品の接合面との平行度を高精度に調整する技術が知られている。例えば、特許文献１には、下面側に凸曲面部を有するステージと、上面側にステージの凸曲面部と摺接可能に設けられた凹曲面部を有するステージの載置用の基台とを備え、基台にステージが載置された状態でステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に圧縮空気が吐出されることで両曲面部間にわずかな隙間が生じ、これにより、ステージが基台の凹曲面部に沿って自在に揺動する倣い機構が記載されている。
【０００３】
すなわち、ステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に圧縮空気の吐出による空気層が形成されることにより、両曲面部間に生じる摩擦力が抑制されるため、ステージの凸曲面部が基台の凹曲面部に沿って自在に動くことができる。したがって、ステージ上面に載置された基板と、この基板に接合されるチップ等とが当接したときに、ステージの凸曲面部が基台の凹曲面部に沿って動くことによるステージの受動的な倣い動作によって、ステージ上の基板の傾きを調整して、基板とチップとの平行度を一致させることができる。
【０００４】
また、ステージの倣い動作によって基板とチップとの平行度が一致すれば、ステージの凸曲面部および基台の凹曲面部間への圧縮空気の吐出を停止することにより、両曲面部が接触し、両曲面部の接触面に生じる静止摩擦力によりステージが基台に固定されてステージの傾きが維持される。このとき、ステージの傾きが維持された状態で、ステージに高加圧力が加えられたとしても、基台がステージの凸曲面部を下方から凹曲面部により面で支持するため、ステージは基台により確実に支持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２３０２７７号公報（段落００２５，００２６、図４など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した従来の倣い機構では、圧縮空気を利用してステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に生じる摩擦力を抑制しているが、両曲面部の接触面の全面にわたって圧縮空気を行渡らせるためには、両曲面部の表面に空気が残留しやすいように、開気孔を多く含む非常に高価な焼結金属で両曲面部を形成しなければならない。また、圧縮空気を両曲面部の接触面に供給するために、両曲面部に複雑な加工を施さなければならずコストアップの原因となっている。
【０００７】
また、倣い機構における倣い動作は、例えば、倣いの基準面が、いわゆる片当たり状態でステージの上面に押付けられたときに発生するモーメントによりステージが受動的に揺動することで実行される。そして、ステージが受動的に揺動することにより、ステージの上面および倣いの基準面の傾きが一致して、ステージの上面と倣いの基準面との片当たり状態が解消されれば倣い動作は完了する。
【０００８】
このとき、従来の倣い機構では、ステージの凸曲面部と基台の凹曲面部との間に空気を行渡らせるために高圧の圧縮空気を供給しなければならないが、ステージの上面に押付けられる倣いの基準面の大きさが小さければ、発生するモーメントも小さくなるため、高圧の圧縮空気がステージに作用してステージの倣い動作が適切に実行されないおそれがある。
【０００９】
また、従来の倣い機構では、ステージの傾きが倣いの基準面の傾きと同じ傾きに維持された状態でステージの上面が加圧されたときに、ステージに対する加圧力の中心が、ステージの上方からみた凸曲面部の重心からずれている場合には、ステージを揺動させるモーメントが生じてステージの傾きが変動するおそれがあるため、ステージに対する加圧力の中心を前記凸曲面部の重心と一致させる必要があり、倣い機構の使い勝手が悪く改善が求められていた。
【００１０】
この発明は上記した課題に鑑みてなされたものであり、簡易な構成でステージを基台から浮上させてステージの倣い動作が確実に実行されるようにすると共に、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる技術を提供することを第１の目的とする。
【００１１】
また、ステージを基台に強固に固定することで倣い機構の使い勝手の改善を図ることができる技術を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した第１の目的を達成するために、本発明にかかる倣い機構は、下面側に第１凸曲面部を有するステージと、前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に複数形成された収容穴とを有し、前記各収容穴それぞれに複数の前記支持手段が収容された前記ステージの載置用の基台と、前記各収容穴に設けられて前記各支持手段それぞれを付勢する複数の付勢手段とをさら備え、前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各支持手段それぞれを付勢することにより、前記第１凸曲面部と前記第１凹曲面部とが離間した状態で実行され、前記ステージの上面が前記各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各付勢手段の付勢力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記各支持手段それぞれが前記各収容穴に収容されて前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接することを特徴としている（請求項１）。
【００１３】
また、前記各支持手段は、前記収納穴それぞれに出没自在に設けられて前記第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、前記第１凸曲面部および前記第１凹曲面部は、それぞれ円弧面状に形成されており、前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各収容穴から突出した前記各ローラーが前記第１凸曲面部に当接した状態で、前記ステージが前記円弧面の円弧方向に揺動することにより実行されるとよい（請求項２）。
【００１４】
また、前記各付勢手段それぞれは、相反発する一対の磁石であり、前記各付勢手段それぞれの一方の磁石に前記支持手段が取付けられていてもよい（請求項３）。
【００１５】
また、上記した第１の目的を達成するために、本発明にかかる倣い機構は、下面側に第１凸曲面部を有するステージと、前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に埋設された複数個の第１磁石とを有する前記ステージの載置用の基台と、前記各第１磁石それぞれに同一磁極が対向して複数個の磁石対をなすように第１凸曲面部に埋設された複数個の第２磁石とをさら備え、前記倣い動作は、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力により、前記第１凸曲面部が浮上して前記第１凹曲面部から離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接することを特徴としている（請求項４）。
【００１６】
また、上記した第２の目的を達成するため、本発明にかかる倣い機構は、前記基台の下面側に設けられた第２凸曲面部と、前記第１凹曲面部に形成された開口と前記第２凸曲面部に形成された開口とを連通して前記基台に形成された貫通孔と、一端が前記ステージの前記第１凸曲面部に連結され前記貫通孔に挿通されたボルト部材と、前記貫通孔を経て前記基台の下方に導出された前記ボルト部材の他端部に螺合されるナット部材と、上面側に前記第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有し、第２凸曲面部と前記ナット部材との間に介挿される介挿部材とを有し、前記ナット部材の締め付け時に、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接し前記第２凸曲面部が前記第２凹曲面部に当接することで載置状態の前記ステージを前記基台に固定する固定手段をさらに備えることを特徴としている（請求項５）。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、基台の上面側に設けられた第１凹曲面部に複数形成された収容穴に収容された複数の支持手段それぞれを付勢手段により付勢するという簡易な構成で、下面側に設けられた第１凸曲面部が支持手段により複数箇所において摺接可能に支持されたステージを基台から浮上させることができ、ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であるため、両曲面部間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、下面側の第１凸曲面部が支持手段に摺接しつつステージが揺動することで、ステージの上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００１８】
また、ステージに高加圧力が加えられたとしても、ステージの上面が各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段の付勢力に抗したステージ下面側の第１凸曲面部の押圧により、各支持手段それぞれが収容穴に収容されて、第１凸曲面部が、該第１凸曲面部と摺接可能に設けられた基台上面側の第１凹曲面部に面で当接するため、基台がステージの第１凸曲面部を下方から第１凹曲面部により面で支持することで確実にステージを支持することができ、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００１９】
また、ステージの倣い動作時には、ステージを支持する支持手段を付勢する付勢手段の付勢力によりステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であり、従来のように、高圧の圧縮空気などをステージの第１凸曲面部と基台の第１凹曲面部との接触面に供給する必要がないため、ステージ等を焼結金属等の特殊な材質で形成する必要がなく、さらに、ステージ等に空気供給路などの特殊な加工を施す必要もないため、倣い機構の製造コストの大幅な抑制を図ることができる。また、ステージの倣い動作時に圧縮空気を使用しないため、供給された圧縮空気がステージに作用することによる外乱が発生するおそれがなく、ステージ上面の倣い動作を高精度に実行することができる。
【００２０】
請求項２の発明によれば、各支持手段が、収容穴それぞれに出没自在に設けられて第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、ステージ下面側の第１凸曲面部および基台上面側の第１凹曲面部が、それぞれ円弧面状に形成されることで、各付勢手段により各収容穴から突出した各ローラーが、円弧面状に形成されたステージ下面側の第１凸曲面部に当接した状態で、ステージの下面側の第１凸曲面部が各ローラーに摺接してステージが円弧面の円弧方向に揺動することによる倣い動作を実行することができる。
【００２１】
請求項３の発明によれば、相反発する一対の磁石により付勢手段段が形成されて、各付勢手段それぞれの一方の磁石に支持手段が取付けられることで非接触で支持手段を付勢することができる。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、ステージの下面側の第１凸曲面部および基台の上面側の第１凹曲面部それぞれに同一の磁極が対向するように第１、第２磁石を埋設して複数個の磁石対を形成するという簡易な構成で、各磁石対の第１、第２磁石の反発力によりステージを基台から浮上させることができ、ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であるため、両曲面部間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、ステージが揺動することで、ステージの上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００２３】
また、ステージに高加圧力が加えられたとしても、ステージの上面が各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗して第１凸曲面部が、該第１凸曲面部と摺接可能に設けられた基台上面側の第１凹曲面部に面で当接するため、基台がステージの第１凸曲面部を下方から第１凹曲面部により面で支持することで確実にステージを支持することができ、ステージに加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００２４】
また、ステージの倣い動作時には、ステージの下面側の第１凸曲面部および基台の上面側の第１凹曲面部それぞれに埋設された各磁石対の第１、第２磁石の反発力によりステージの下面側の第１凸曲面部と基台の上面側の第１凹曲面部とが離間した状態であり、従来のように、高圧の圧縮空気などをステージの第１凸曲面部と基台の第１凹曲面部との接触面に供給する必要がないため、ステージ等を焼結金属等の特殊な材質で形成する必要がなく、さらに、ステージ等に空気供給路などの特殊な加工を施す必要もないため、倣い機構の製造コストの大幅な抑制を図ることができる。また、ステージの倣い動作時に圧縮空気を使用しないため、供給された圧縮空気がステージに作用することによる外乱が発生するおそれがなく、ステージ上面の倣い動作を高精度に実行することができる。
【００２５】
請求項５に記載の発明によれば、上面側に設けられた第１凹曲面部に形成された開口と、下面側に設けられた第２凸曲面部に形成された開口とを連通して基台に形成された貫通孔に、ステージの下面側の第１凸曲面部に一端が連結されたボルト部材が挿通され、基台の下方に導出されたボルト部材の他端部にはナット部材が螺合されて、基台の下面側の第２凸曲面部とボルト部材の他端部に螺合されたナット部材との間には、上面側に基台の第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有する介挿部材が介挿される。
【００２６】
そして、ナット部材の締め付け時に、ステージの下面側の第１凸曲面部が基台の上面側の第１凹曲面部に当接し、基台の下面側の第２凸曲面部が介挿部材の上面側の第２凹曲面部に当接することで、ステージが基台に載置された状態で固定されるため、ステージの第１凸曲面部および介挿部材の第２凹曲面部により基台が上下から強固にクランプされた状態となり、ナット部材の締め付けに伴い生じるステージ下面側の第１凸曲面部および基台上面側の第１凹曲面部間の静止摩擦力によりステージが基台に強固に固定されるので、ステージの上面が加圧されてステージを揺動させるモーメントが生じたとしても、当該モーメントの大きさが前記静止摩擦力の大きさを超えない限り、ステージの傾きが容易に変動するおそれがないため、従来のように、ステージに対する加圧力の加圧中心について考慮する必要がなく、倣い機構の使い勝手の改善を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の倣い機構を備える接合装置の第１実施形態を示す図である。
【図２】倣い機構の斜視図である。
【図３】図２とは異なる方向から見た倣い機構の分解斜視図である。
【図４】倣い機構の一部切断正面図である。
【図５】倣い機構の一部切断正面図である。
【図６】倣い機構の一部切断正面図である。
【図７】倣い機構の一部切断正面図である。
【図８】本発明の倣い機構の第２実施形態を示す一部切断正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
＜第１実施形態＞
この発明の第１実施形態について図１ないし図７を参照して説明する。図１は本発明の倣い機構２００を備える接合装置１００の第１実施形態を示す図である。図２は倣い機構２００の斜視図である。図３は図２とは異なる方向から見た倣い機構２００の分解斜視図である。図４〜図７は倣い機構２００の一部切断正面図であって、それぞれ異なる状態を示す図である。
【００２９】
（接合装置の構成）
図１に示す接合装置１００は、チップ２３や電子部品などの対象物を、基板２４やウエハなどの被実装物の所定の位置に超音波振動により接合する。すなわち、ＧａＡｓなどの半導体の接合面に金属バンプ２３ａを有するチップ２３と、金属バンプ２４ａを有する基板２４とが超音波振動が印加されることにより接合され、チップ２３が基板２４の所定の位置に接合される。なお、チップ２３は後述する共振器７の保持手段４０の保持面に保持され、基板２４は後述するステージ２１０の上面に載置される。
【００３０】
図１に示すように、接合装置１００は、接合機構２７と、倣い機構２００とステージテーブル１２とを有する実装機構２８と、位置認識部２９と、搬送部３０と、制御装置３１とを備えている。
【００３１】
接合機構２７は、上下駆動機構２５とヘッド部２６とを備え、上下駆動機構２５は上下駆動モータ１とボルト・ナット機構２とにより、共振器支持部６を上下ガイド３でガイドしながら上下動する。そして、接合機構２７はフレーム３４に結合され、フレーム３４はヘッド部２６の加圧中心の周辺を囲むように配設された４本の支柱１３により架台３５と連結されている。なお、支柱１３およびフレーム３４の一部は図示省略されている。
【００３２】
共振器支持部６は、ヘッド逃がしガイド５で上下方向にガイドされ、自重をキャンセルするための自重カウンター４に牽引された状態でボルト・ナット機構２に連結されている。そして、この共振器支持部６に、共振器７を有するヘッド部２６が結合されている。
【００３３】
また、共振器支持部６には圧力センサ３２が設けられており、圧力センサ３２は、共振器７とステージ２１０との間に挟持されたチップ２３、基板２４などの接合対象物への加圧力を検出する。そして、圧力センサ３２により検出された接合対象物に対する加圧力が制御装置３１にフィードバックされ、当該フィードバック値に基づいて上下駆動機構２５が制御されることで、両接合対象物への加圧力が制御される。また、共振器支持部６は、リニアセンサなどにより形成される共振器部高さ検出手段３６を備えており、これによりヘッド部２６の高さが検出される。
【００３４】
共振器支持部６に結合されたヘッド部２６は、共振器７と、振動子８と、チップ２３を吸着保持する保持手段４０と、基部２０と第１クランプ手段２１および第２クランプ手段２２とを有する共振器支持手段４４とを備えている。
【００３５】
共振器７は、振動子８が発生する超音波振動に共振するものであって、共振器７のほぼ中央の位置と、両端位置とが最大振幅点となるように、共振周波数の一波長の長さで形成されている。このように構成すれば、最大振幅点から１／４波長離れた位置それぞれが最小振幅点（ノーダルポイント）に相当する。また、共振器７は、断面形状が円形状である円柱状に形成されている。
【００３６】
振動子８は、共振器７の中心軸と同軸に共振器７の一端に連結されている。また、振動子８は、制御装置３１により制御されて超音波振動を発生し、これにより共振器７がその中心軸の方向に振動する。
【００３７】
保持手段４０は、最大振幅点である共振器７のほぼ中央の位置における外周下面に、熱硬化型樹脂などの接着剤により取着されて、チップ２３や電子部品などの接合対象物を保持面に保持する。また、保持手段４０は、チップ２３や電子部品などの接合対象物を保持面に吸着保持できるように、真空吸着機構（図示省略）を備えている。また、チップ２３などの対象物を保持する構成としては真空吸着機構に限られるものではなく、静電吸着機構、機械式のチャック機構など、対象物を保持できる機構であればどのような構成であってもよい。また、接合対象物を保持手段４０に直接貼付けることにより接合対象物が保持手段４０に保持されるようにしてもよい。
【００３８】
また、保持手段４０を、超硬タングステンカーバイト、セラミック、ダイヤモンドなど、金属以外の部材により形成してもよく、このように構成した保持手段４０を、エポキシ系の接着剤や、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇなどの金属ろうなどによって共振器７に接着してもよい。
【００３９】
また、共振器７の最小振幅点の外周には、それぞれ凹状の被支持部が形成されており、凹状に形成された被支持部がそれぞれ共振器支持手段４４が有する第１クランプ手段２１および第２クランプ手段にクランプされることで、共振器７が共振器支持手段４４により支持される。
【００４０】
また、共振器支持手段４４の基部２０は共振器支持部６に固定されており、共振器支持部６が上下駆動機構２５により上下に駆動されることにより、共振器支持手段４４に支持された共振器７が上下動し、チップ２３および基板２４などの接合対象物が加圧される。
【００４１】
なお、保持手段４０を、上記した材質のうち、比較的硬度の高い、ガラス、超硬タングステンカーバイト、セラミックやダイヤモンドなどで形成すれば、共振器７を音響特性の優れた材質、例えばチタン合金により形成するとよい。また、保持手段４０を、硬度の高い材質で形成すれば、共振器７を安価な材質、例えばＡｌにより形成してもよい。
【００４２】
実装機構２８は、被実装物としての基板２４が載置されるステージ２１０を有する倣い機構２００と、倣い機構２００（ステージ２１０）を上下方向にほぼ直交する水平面内で移動するステージテーブル１２とを備えている。
【００４３】
倣い機構２００が有するステージ２１０は、基板２４をステージ２１０の上面に吸着保持するため真空吸着機構（図示省略）を備えている。また、基板２４やウエハなどの被実装物を保持する構成としては真空吸着機構に限られるものではなく、静電吸着機構や、機械式のチャック機構など、被実装物を保持できる機構であればどのような構成であってもよい。また、被実象物をステージ２１０上に載置するだけでもよい。なお、倣い機構２００の構成および動作については後で詳細に説明する。
【００４４】
ステージテーブル１２は、平行・回転移動自在な移動軸を備え、倣い機構２００（ステージ２１０）をヘッド部２６に対して相対的に移動することで、保持手段４０に保持されたチップ２３に対する基板２４の相対的な位置を調整する。なお、この実施形態では、後述する上下マーク認識手段１４により読取られたチップ２３および基板２４の金属バンプ２３ａ，２４ａ（アライメントマーク）の相対的な位置関係に基づいてステージテーブル１２が制御装置３１により制御されて、チップ２３と基板２４との相対的な位置調整が行われる。
【００４５】
位置認識部２９は、対向配置されたチップ２３と基板２４の間に挿入されて、チップ２３および基板２４にそれぞれ設けられた位置認識用のアライメントマーク（金属バンプ２３ａ，２４ａ）を光学的に読取る上下マーク認識手段１４と、チップ２３、基板２４および共振器７の振幅を検出する振幅検出器３３と、上下マーク認識手段認識手段１４および振幅検出器３３を水平面内および上下方向に移動させる認識手段移動テーブル１５とを備えている。なお、上下マーク認識手段１４は、ミラーやプリズムで構成される、周知の２視野光学系レンズと、２視野光学系レンズを介してその上下に隔離して配置されたチップ２３および基板２４を撮像するＣＣＤカメラとを備えている（図示省略）。
【００４６】
搬送部３０は、チップ２３を搬送するチップ供給装置１６およびチップトレイ１７と、基板２４を搬送する基板搬送装置１８および基板搬送コンベア１９とを備えている。
【００４７】
制御装置３１は、ヘッド部２６を介してチップ２３および基板２４に加えられる加圧力や、振動子８へ印加される電圧および電流を調整してチップ２３および基板２４に加えられる超音波振動エネルギーの大きさなどを制御する。また、制御装置３１は、共振器部高さ検出手段３６によるヘッド部２６の高さ位置の検出信号に基づいて上下駆動機構２５を制御し、ヘッド部２６の図１中の矢印Ｚ方向の高さを調節する。また、制御装置３１は、接合装置１００全体の制御を行うための操作パネル（図示省略）を備えている。
【００４８】
（接合動作）
次に、接合装置１００における、チップ２３を基板２４の所定の位置に超音波振動により接合する接合動作の一例について説明する。
【００４９】
まず、対象物としてのチップ２３および被実装物としての基板２４の供給が行われる。チップ２３は、チップ供給装置１６によりチップトレイ１７から共振器７に取着された保持手段４０に供給されて吸着保持される。また、基板２４は、基板搬送装置１８により基板搬送コンベア１９からステージ２１０に供給されて吸着保持される。
【００５０】
次に、それぞれの接合面が対向するように保持されたチップ２３と基板２４との間に上下マーク認識手段１４が認識手段移動テーブル１５により挿入されて、対向保持されたチップ２３および基板２４にそれぞれ設けられたアライメントマーク（金属バンプ２３ａ，２４ａ）の位置が上下マーク認識手段１４により検出される。そして、上下マーク認識手段１４により読取られたチップ２３および基板２４のアライメントマークの相対的な位置関係に基づいて、チップ２３の位置を基準としてステージテーブル１２が平行・回転移動されて基板２４の位置が調整されて、チップ２３と基板２４との相対的な位置調整が行われる。
【００５１】
続いて、チップ２３および基板２４の相対的な位置が整合された状態（金属バンプ２３ａ，２４ａの位置が合わされた状態）で、認識手段移動テーブル１５により上下マーク認識手段１４が退避されると共に、上下駆動機構２５によりヘッド部２６の下降が開始され、チップ２３と基板２４とが接近される。そして、チップ２３の金属バンプ２３ａと基板２４の金属バンプ２４ａとが接触することによる圧力センサ３２からの検出信号に基づき、チップ２３と基板２４とが共振器７およびステージ２１０との間に挟持されたことが検出されると、所定の加圧力がチップ２３および基板２４に加えられると共に超音波振動が印加されて、金属バンプ２３ａ，２４ａどうしが接合される。
【００５２】
このとき、制御装置３１により、振動子８に印加される電流値および電圧値から導出される超音波振動エネルギー、共振器７の共振振幅、チップ２３および基板２４に対する加圧力などの監視と制御が行われる。なお、接合処理を終了するタイミングは、目的とされる接合面積で接合されるために必要な加圧力、超音波振動エネルギーおよび接合時間を予め求めておき、予め求めたそれぞれの値に達したときに接合処理を終了すればよい。
【００５３】
この実施形態では、一例として、振動子８の発信周波数は４０ｋＨｚに設定され、振動子８への印加電圧は０Ｖ〜１０Ｖの範囲内に設定されている。また、この実施形態では、一例として、チップ２３と基板２４との間の相対振動振幅の大きさが０．１μｍ〜０．５μｍ程度の振幅となるように構成されているが、相対振動振幅の大きさは、対象物および被実装物の種類（材質、機能など）や接触面積などに応じて適宜変更すればよい。
【００５４】
そして、チップ２３および基板２４の接合が終了して接合処理が完了すると共振器７によるチップ２３の吸着が解除され、ヘッド部２６が上方へ復帰移動される。最後に、チップ２３が実装された状態で、ステージ２１０上に保持された基板２４が基板搬送装置１８により基板搬送コンベア１９へ排出されて一連の接合処理が終了する。なお、基板２４へ接合されるチップ２３の数は１つに限られず、複数のチップ２３を基板２４へ連続的に接合してもよい。
【００５５】
（倣い機構の構成）
次に、主に図２〜図４を参照して倣い機構２００の構成について説明する。図３に示すように、倣い機構２００は、下面側に第１凸曲面部２１１を有するステージ２１０と、上面側に第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた第１凹曲面部２２１を有するステージ２１０の載置用の基台２２０と、第１凸曲面部２１１に摺接可能に当接して第１凸曲面部２１１を複数箇所において支持するローラー２３０（支持手段）と、基台２２０が載置されてボルト２４１により固定される支持台２４０とを備え、支持台２４０がボルト２４２によりステージテーブル１２に固定されることで倣い機構２００はステージテーブル１２に取り付けられる。
【００５６】
図４に示すように、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１は、正面視における断面形状が円弧状となるようにそれぞれ円弧面状に形成されている。また、第１凸曲面部２１１と第１凹曲面部２２１とは、円弧面の円弧方向に摺接できるように、円弧の曲率がほぼ同一に形成されている。また、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１の所定位置にはガイド部材２１２が取着され、基台２２０の第１凹曲面部２２１のガイド部材２１２に対応する位置にはガイド孔２２２が形成されており、ステージ２１０は、ガイド部材２１２がガイド孔２２２に挿通された状態で基台２２０に載置される。
【００５７】
また、ガイド孔２２２は、ガイド部材２１２の直径とほぼ同一の幅で第１凹曲面部２２１の円弧方向に長軸に形成されており、ガイド部材２１２の円弧方向以外への移動を規制する。したがって、ガイド部材２１２をガイド孔２２２に挿通してステージ２１０が基台２２０に載置されることで、ステージ２１０の円弧方向にほぼ直交する方向への移動、すなわち、ステージ２１０の基台２２０からのずれ落ちが防止される。
【００５８】
また、基台２２０の第１凹曲面部２２１には複数の収容穴２２３が形成されており、各収容穴２２３には、ローラー２３０と、ローラー２３０を収容穴２２３から突出する方向に付勢する例えばばねにより形成された付勢手段２５０とが配設される。ローラー２３０は、回転軸２３１の両端に２個のローラーが連結された状態で、ローラー２３０の回転方向が、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１の摺接方向（円弧方向）と一致するように、各収容穴２２３それぞれに出没自在に収容される。
【００５９】
なお、付勢手段２５０に用いるばねは、コイルばね、板ばね、その他のばねであればよく、ばね以外に弾性を有するゴム材などを付勢手段２５０に使用してもよい。また、エアーシリンダ、油圧シリンダ、エアー袋などを付勢手段２５０に使用してもよい。また、付勢手段２５０として、相反発するように同一磁極が対向配置された一対の磁石を使用し、磁石の反発力によりローラー２３０を付勢してもよい。
【００６０】
また、付勢手段２５０は、ローラー２３０の回転軸２３１を上方に付勢するように、収容穴２２３の回転軸２３１の下方に配置される。なお、付勢手段２５０によるローラー２３０の収容穴２２３からの過剰な飛び出しを規制するために、押さえ板２３２が、収容穴２２３の所定位置に形成された凹部２２３ａに、ローラー２３０の回転軸２３１の上方に配置されるように取り付けられている。
【００６１】
また、基台２２０には、下面側に第２凸曲面部２６０が設けられ、第１凹曲面部２２１に形成された開口と第２凸曲面部に形成された開口とを連通する貫通孔２６１が形成されており、支持台２４０の貫通孔２６１に対応する位置には貫通孔２４１が形成されている。また、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１のほぼ中央の位置には、ボルト部材２６２の一端が固定ボルト２６２ａにより固定されており、第１凸曲面部２１１に連結されたボルト部材２６２が、基台２２０の貫通孔２６１および支持台２４０の貫通孔２４１に挿通されてステージ２１０が基台２２０に載置される。
【００６２】
また、基台２２０の貫通孔２６１を経て基台２２０の下方に導出されたボルト部材２６２の他端部にはナット部材２６３が螺合されており、ボルト部材２６２の、基台２２０の第２凸曲面部２６０とナット部材２６３との間には介挿部材２６４が介挿されている。また、介挿部材２６４の上面側には第２凸曲面部２６０と摺接可能に第２凹曲面部２６５が設けられており、図４に示すように、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０および介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５は、正面視における断面形状が円弧状となるようにそれぞれ円弧面状に形成されている。また、第２凸曲面部２６０と第２凹曲面部２６５とは、円弧面の円弧方向に摺接できるように、円弧の曲率が、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１の円弧の曲率とほぼ同一に形成されている。
【００６３】
このように構成すると、図４に示すように、ナット部材２６３の締め付け時に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接し、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０が介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５に当接することで、基台２００に載置された状態でステージ２１０が基台２２０に固定される。以上のように、第２凸曲面部２６０、貫通孔２６１、ボルト部材２６２、ナット部材２６３、介挿部材２６４、第２凹曲面部２６５が、本発明の「固定手段」として機能している。
【００６４】
一方、図５に示すように、ナット部材２６３が緩められると、付勢手段２５０により各ローラー２３０が各収容穴２２３から突出し、ローラー２３０が第１凸曲面部２１１に当接することにより支持されたステージ２１０が基台２２０から浮上して、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間する。この状態で、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられれば、図６に示すように、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１がローラー２３０に摺接しつつステージ２１０が第１凸曲面部２１１（円弧面）の円弧方向に揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面を一致させる倣い動作が実行される。
【００６５】
また、ステージ２１０の上面が各付勢手段２５０の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０が各収容穴２２３に収容されて第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接する。
【００６６】
（倣い動作の一例）
次に、主に図４〜図７を参照して倣い機構２００による倣い動作の一例について説明する。この実施形態では、接合装置１００による接合動作が実行される前に、共振器７に取着された保持手段４０の保持面の傾き（倣いの基準面の傾き）と、ステージ２１０の上面の傾きとを一致させるために倣い機構２００による倣い動作が実行される。
【００６７】
まず、ナット部材２６３が緩められて、図５に示すように、付勢手段２５０の付勢力によりステージ２１０が基台２２０から持ち上げられてローラー２３０に支持された状態となる。この状態で、接合装置１００のヘッド部２６が下降され、保持手段４０の保持面がステージ２１０の上面に当接すると、図６に示すように、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１がローラー２３０に摺接しつつ、保持手段４０の保持面の傾きとステージ２１０の上面の傾きとが一致するまでステージ２１０が揺動する。
【００６８】
続いて、保持手段４０の保持面の傾きとステージ２１０の上面の傾きとが一致した後は、付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０が各収容穴２２３に収容されて第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接するまでヘッド部２６を下降する。そして、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２００の上面側の第１凹曲面部２２１に当接すれば、ヘッド部２６の下降が停止され、図７に示すように、ナット部材２６３が締め付けられて、ステージ２１０の上面の傾きが倣いの基準面の傾きに一致するように調整された状態で、ステージ２１０が基台２２０に固定される。最後に、ヘッド部２６が復帰移動されて倣い動作が完了する。
【００６９】
以上のように、この実施形態によれば、基台２２０の上面側に設けられた第１凹曲面部２２１に複数形成された収容穴２２３に出没自在に収容された複数のローラー２３０それぞれを、当該収容穴２２３から突出する方向に付勢する複数の付勢手段２５０により各収容穴２２３から突出させるという簡易な構成で、下面側に設けられた第１凸曲面部２１１がローラーにより複数箇所において摺接可能に支持されたステージ２１０を基台２２０から浮上させることができ、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間した状態であるため、両曲面部２１１，２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、下面側の第１凸曲面部２１１がローラーに摺接しつつステージ２１０が揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００７０】
また、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、ステージ２１０の上面が各付勢手段２５０の付勢力よりも大きな力で押圧されたときは、各付勢手段２５０の付勢力に抗したステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１の押圧により、各ローラー２３０それぞれが収容穴２２３に収容されて、第１凸曲面部２１１が、該第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に面で当接するため、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００７１】
また、上面側に設けられた第１凹曲面部２２１に形成された開口と、下面側に設けられた第２凸曲面部２６０に形成された開口とを連通して基台２２０に形成された貫通孔２６１に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１に一端が連結されたボルト部材２６２が挿通され、基台２２０の下方に導出されたボルト部材２６２の他端部にはナット部材２６３が螺合されて、基台２２０の下面側の第２凸曲面部２６０とボルト部材２６２の他端部に螺合されたナット部材２６３との間には、上面側に基台２２０の第２凸曲面部２６０と摺接可能に設けられた第２凹曲面部２６５を有する介挿部材２６４が介挿される。
【００７２】
そして、ナット部材２６４の締め付け時に、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接し、基台２１０の下面側の第２凸曲面部２６０が介挿部材２６４の上面側の第２凹曲面部２６５に当接することで、ステージ２１０が基台２２０に載置された状態で固定されるため、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１および介挿部材２６４の第２凹曲面部２６５により基台２２０が上下から強固にクランプされた状態となり、ナット部材２６３の締め付けに伴い生じるステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１間の静止摩擦力によりステージ２１０が基台２２０に強固に固定されるので、ステージ２１０の上面が加圧されてステージ２１０を揺動させるモーメントが生じたとしても、当該モーメントの大きさが前記静止摩擦力の大きさを超えない限り、ステージ２１０の傾きが容易に変動するおそれがないため、従来のように、ステージ２１０に対する加圧力の加圧中心について考慮する必要がなく、倣い機構２００の使い勝手の改善を図ることができる。
【００７３】
また、ステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１が、それぞれ円弧面状に形成されることで、各付勢手段２５０により各収容穴２２３から突出した各ローラー２３０が、円弧面状に形成されたステージ２１０下面側の第１凸曲面部２１１に摺接可能に当接した状態で、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１が各ローラー２３０に摺接してステージ２１０が円弧面の円弧方向に揺動することによる倣い動作を容易に実行することができる。
【００７４】
＜第２実施形態＞
この発明の第２実施形態について図８を参照して説明する。図８は本発明の倣い機構の第２実施形態を示す一部切断正面図である。この実施形態が上記した第１実施形態と異なる点は、図８に示すように、ローラー２３０および付勢手段２５０に換えて、複数の磁石対３００を成すように、複数の第１磁石３１０が第１凹曲面部２２１に埋設され、各第１磁石３１０それぞれに同一磁極を対向させて複数の第２磁石３２０が第１凸曲面部２１１に埋設されている点である。その他の構成および動作は上記した第１実施形態と同様であるため、同一符号を付すことにより、その構成および動作の説明は省略する。
【００７５】
このように構成すると、ナット部材２６３を緩めることで、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力により、ステージ２１０が基台２２０から浮上する。そして、第１凸曲面部２１１が第１凹曲面部２２１から離間した状態で、第１凸曲面部２１１が第１磁石３１０に擬似的に摺接しつつステージ２１０が揺動することで、上記した倣い動作が実行される。
【００７６】
したがって、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１および基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１それぞれに同一の磁極が対向するように第１、第２磁石３１０，３２０を埋設して複数個の磁石対３００を形成するという簡易な構成で、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力によりステージ２１０を基台から浮上させることができ、ステージ２１０の上面に倣いの基準面が押付けられたときに、ステージ２１０の下面側の第１凸曲面部２１１と基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１とが離間した状態であるため、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１間に摩擦抵抗が生じるおそれがなく、ステージ２１０が揺動することで、ステージ２１０の上面および倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が確実に実行される。
【００７７】
また、ステージ２１０の上面が各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力に抗した第１凸曲面部２１１の押圧により、第１凸曲面部２１１が基台２２０の上面側の第１凹曲面部２２１に当接する。
【００７８】
したがって、ステージ２１０に高加圧力が加えられたとしても、ステージ２１０の上面が各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力よりも大きな力で押圧されたときは、各磁石対３００の第１、第２磁石３１０，３２０の反発力に抗して第１凸曲面部２１１が、該第１凸曲面部２１１と摺接可能に設けられた基台２２０上面側の第１凹曲面部２２１に面で当接するため、基台２２０がステージ２１０の第１凸曲面部２１１を下方から第１凹曲面部２２１により面で支持することで確実にステージ２１０を支持することができ、ステージ２１０に加えることのできる加圧力の増大を図ることができる。
【００７９】
また、ステージ２１０の両側にはフランジ部が形成されており、基台２２０の両側の上面には、一部が第１凹曲面部２２１の周縁部分に突出してステージ２１０のフランジ部の上方に配置されるように規制板４００がボルトなどにより固定されて配設されている。したがって、第１凹曲面部２２１に突出した規制板４００の一部にステージ２１０のフランジ部が下方から当接することにより、ステージ２１０の基台２２０からの過剰な浮き上がりが防止される。
【００８０】
以上のように、この実施形態では、上記した第１実施形態と同様の効果を奏することができる。なお、磁石対３００が本発明の「支持手段」として機能している。
【００８１】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能であり、例えば、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１を曲率がほぼ同じ球面により形成し、第２凸曲面部２６０および第２凹曲面部２６５を曲率がほぼ同じ球面により形成することで、ステージ２１０が四方のどの方向にも揺動することができるようにしてもよい。この場合、第１凸曲面部２１１および第１凹曲面部２２１により形成される中心角と、第２凸曲面部２６０および第２凹曲面部２６５により形成される中心角とを一致させるとよい。
【００８２】
また、支持手段は上記したローラー２３０に限られるものではなく、全方向に回転可能に形成されたボールベアリングなど、ステージ２１０の第１凸曲面部２１１に滑らかに摺接することができる構成であれば、どのように支持手段を構成してもよい。
【００８３】
また、上記した倣い機構２００を、ステージ２１０の揺動方向がほぼ直交するように２個組合わせて使用してもよい。また、倣い機構２００の天地を入換えて使用してももちろんよい。
【００８４】
また、上記した実施形態では、ステージ１０側が水平方向の位置調整機能、ヘッド部２６側が上下駆動機構を有するように構成したが、水平方向の位置調整機能、上下駆動機構はステージ１０側、ヘッド部２６側にどのように組み合わせてもよく、また、重複するように構成してもよい。
【００８５】
さらに、上記した実施形態では、ヘッド部２６およびステージ１０を上下方向（図１に示す矢印Ｚ方向）に配置し、対象物であるチップ２３および被実装物である基板２４を上下方向で重ね合わせて接合する構成としたが、ヘッド部２６およびステージ１０の配置方向としてはこれに限定されず、上下方向にほぼ直交する左右方向に配置することにより、両対象物が左右方向で重ね合わされて接合される構成でもよい。
【符号の説明】
【００８６】
２００…倣い機構
２１０…ステージ
２１１…第１凸曲面部
２２０…基台
２２１…第１凹曲面部
２２３…収容穴
２３０…ローラー（支持手段）
２５０…付勢手段
２６０…第２凸曲面部
２６１…貫通孔
２６２…ボルト部材
２６３…ナット部材
２６４…介挿部材
２６５…第２凹曲面部
３００…磁石対（支持手段）
３１０…第１磁石
３２０…第２磁石
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下面側に第１凸曲面部を有するステージと、
前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、
前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、
上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に複数形成された収容穴とを有し、前記各収容穴それぞれに複数の前記支持手段が収容された前記ステージの載置用の基台と、
前記各収容穴に設けられて前記各支持手段それぞれを付勢する複数の付勢手段とをさら備え、
前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各支持手段それぞれを付勢することにより、前記第１凸曲面部と前記第１凹曲面部とが離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各付勢手段の付勢力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記各支持手段それぞれが前記各収容穴に収容されて前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接する
ことを特徴とする倣い機構。
【請求項２】
前記各支持手段は、前記収納穴それぞれに出没自在に設けられて前記第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、
前記第１凸曲面部および前記第１凹曲面部は、それぞれ円弧面状に形成されており、
前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各収容穴から突出した前記各ローラーが前記第１凸曲面部に当接した状態で、前記ステージが前記円弧面の円弧方向に揺動することにより実行されることを特徴とする請求項１に記載の倣い機構。
【請求項３】
前記各付勢手段それぞれは、相反発する一対の磁石であり、前記各付勢手段それぞれの一方の磁石に前記支持手段が取付けられていることを特徴とする請求項1または２に記載の倣い機構。
【請求項４】
下面側に第１凸曲面部を有するステージと、
前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、
前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、
上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に埋設された複数個の第１磁石とを有する前記ステージの載置用の基台と、
前記各第１磁石それぞれに同一磁極が対向して複数個の磁石対をなすように第１凸曲面部に埋設された複数個の第２磁石とをさら備え、
前記倣い動作は、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力により、前記第１凸曲面部が浮上して前記第１凹曲面部から離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接する
ことを特徴とする倣い機構。
【請求項５】
前記基台の下面側に設けられた第２凸曲面部と、
前記第１凹曲面部に形成された開口と前記第２凸曲面部に形成された開口とを連通して前記基台に形成された貫通孔と、
一端が前記ステージの前記第１凸曲面部に連結され前記貫通孔に挿通されたボルト部材と、
前記貫通孔を経て前記基台の下方に導出された前記ボルト部材の他端部に螺合されるナット部材と、
上面側に前記第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有し、第２凸曲面部と前記ナット部材との間に介挿される介挿部材とを有し、
前記ナット部材の締め付け時に、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接し前記第２凸曲面部が前記第２凹曲面部に当接することで載置状態の前記ステージを前記基台に固定する固定手段をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の倣い機構。
【請求項１】
下面側に第１凸曲面部を有するステージと、
前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、
前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、
上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に複数形成された収容穴とを有し、前記各収容穴それぞれに複数の前記支持手段が収容された前記ステージの載置用の基台と、
前記各収容穴に設けられて前記各支持手段それぞれを付勢する複数の付勢手段とをさら備え、
前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各支持手段それぞれを付勢することにより、前記第１凸曲面部と前記第１凹曲面部とが離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各付勢手段の付勢力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各付勢手段の付勢力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記各支持手段それぞれが前記各収容穴に収容されて前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接する
ことを特徴とする倣い機構。
【請求項２】
前記各支持手段は、前記収納穴それぞれに出没自在に設けられて前記第１凸曲面部に摺接可能に当接するローラーを有し、
前記第１凸曲面部および前記第１凹曲面部は、それぞれ円弧面状に形成されており、
前記倣い動作は、前記各付勢手段により前記各収容穴から突出した前記各ローラーが前記第１凸曲面部に当接した状態で、前記ステージが前記円弧面の円弧方向に揺動することにより実行されることを特徴とする請求項１に記載の倣い機構。
【請求項３】
前記各付勢手段それぞれは、相反発する一対の磁石であり、前記各付勢手段それぞれの一方の磁石に前記支持手段が取付けられていることを特徴とする請求項1または２に記載の倣い機構。
【請求項４】
下面側に第１凸曲面部を有するステージと、
前記第１凸曲面部を複数箇所において摺接可能に支持する支持手段とを備え、
前記ステージの上面に倣いの基準面が押付けられたときに、前記第１凸曲面部が前記支持手段に摺接しつつ前記ステージが揺動することで、前記ステージの上面および前記倣いの基準面の傾きを一致させる倣い動作が実行される倣い機構において、
上面側に前記第１凸曲面部と摺接可能に設けられた第１凹曲面部と、前記第１凹曲面部に埋設された複数個の第１磁石とを有する前記ステージの載置用の基台と、
前記各第１磁石それぞれに同一磁極が対向して複数個の磁石対をなすように第１凸曲面部に埋設された複数個の第２磁石とをさら備え、
前記倣い動作は、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力により、前記第１凸曲面部が浮上して前記第１凹曲面部から離間した状態で実行され、
前記ステージの上面が前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力よりも大きな力で押圧されたときに、前記各磁石対の第１、第２磁石の反発力に抗した前記第１凸曲面部の押圧により、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接する
ことを特徴とする倣い機構。
【請求項５】
前記基台の下面側に設けられた第２凸曲面部と、
前記第１凹曲面部に形成された開口と前記第２凸曲面部に形成された開口とを連通して前記基台に形成された貫通孔と、
一端が前記ステージの前記第１凸曲面部に連結され前記貫通孔に挿通されたボルト部材と、
前記貫通孔を経て前記基台の下方に導出された前記ボルト部材の他端部に螺合されるナット部材と、
上面側に前記第２凸曲面部と摺接可能に設けられた第２凹曲面部を有し、第２凸曲面部と前記ナット部材との間に介挿される介挿部材とを有し、
前記ナット部材の締め付け時に、前記第１凸曲面部が前記第１凹曲面部に当接し前記第２凸曲面部が前記第２凹曲面部に当接することで載置状態の前記ステージを前記基台に固定する固定手段をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の倣い機構。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−８９７２０（Ｐ２０１２−８９７２０Ａ）
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３６１６０（Ｐ２０１０−２３６１６０）
【出願日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【出願人】（３０７０４４４９３）株式会社アドウェルズ (24)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【出願人】（３０７０４４４９３）株式会社アドウェルズ (24)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]