露光装置のメンテナンス方法、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法
【課題】露光装置の一部を構成する移動体モジュールの移動を効率化する。
【解決手段】ステージモジュールＷＳＭには、ステージモジュールＷＳＭを浮上させるエアホバー２９と、Ｙ軸周りに回転可能かつ接地可能な駆動輪１６０とが設けられている。エアホバー２９により浮上させた状態のまま、ステージモジュールＷＳＭを、駆動輪１６０を床面上で回転駆動することで、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。
【解決手段】ステージモジュールＷＳＭには、ステージモジュールＷＳＭを浮上させるエアホバー２９と、Ｙ軸周りに回転可能かつ接地可能な駆動輪１６０とが設けられている。エアホバー２９により浮上させた状態のまま、ステージモジュールＷＳＭを、駆動輪１６０を床面上で回転駆動することで、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置のメンテナンス方法、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程で用いられる露光装置のメンテナンス方法、前記露光装置の製造方法、及び該方法によって製造された露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程では、ステッパ、あるいはスキャニング・ステッパなどの投影露光装置を含む種々の露光装置が用いられている。
【０００３】
従来のステッパなどの露光装置では、フレーム装置（ボディ）に対して投影光学系が装着され、更にはレチクルを位置決めするレチクルステージ系、及びウエハを２次元移動するウエハステージ系が順次フレーム装置に対して直接組み付けられていた。このため、組立調整に時間を要する等の不都合があった。そこで、かかる不都合を改善するものとして、第１物体（レチクル）を保持して移動する第１ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第１ステージ室と、第２物体（ウエハ）を保持して移動する第２ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第２ステージ室とが、ともにモジュール構成とされ、第１及び第２ステージ室を組み立てた後に、フレーム装置に装着することによって、露光装置の組立調整を容易に、かつ迅速に行うことができる露光装置が、先に提案されている（特許文献１参照）。
【０００４】
しかるに、露光装置のステージ系、例えば基板ステージは、基板の大型化に伴って大型化している。例えば、半導体露光装置の場合、従前は直径が２００ｍｍのウエハであったが、現在は直径が３００ｍｍのウエハが主流であり、今や直径が４５０ｍｍのウエハの時代の到来が目前に迫っている。この基板の大型化によって、メンテナンスの際などにおける上記第２ステージ室などのボディから外部への搬出及びメンテンス終了時のボディへの組み付けなどが困難になることが懸念されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開２００１／００１５７９５号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置のメンテナンス方法であって、露光本体部から取り外すため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置のメンテナンス方法が、提供される。
【０００７】
ここで、転動部材を前記床面に当接させて駆動とは、転動部材がモータ等の駆動源のよって駆動される場合の他、外部からの力で駆動する場合も含む。
【０００８】
これによれば、前記移動体モジュールを、二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、第２軸に平行な方向に移動させるので、移動体モジュールを、二次元平面内における回転方向及び第１軸に平行な方向への動きを規制して第２軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、転動部材の駆動（回転又は周回を伴なう）により移動体モジュールを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にメンテナンス時の作業性を向上させることが可能になる。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置の製造方法であって、露光本体部に対して搬入するため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置の製造方法が、提供される。
【００１０】
ここでも、転動部材を前記床面に当接させて駆動とは、転動部材がモータ等の駆動源によって駆動される場合の他、外部からの力で駆動する場合も含む。また、露光装置の製造は、メーカの工場内での製造（組立を含む）、及び出荷先であるユーザの工場内での製造（立ち上げ時の組み立て）の他、装置を移設する際の組み立てをも含む。本明細書では、露光装置の製造なる用語をかかる意味で用いている。
【００１１】
これによれば、前記移動体モジュールを、二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、第２軸に平行な方向に移動させるので、移動体モジュールを、二次元平面内における回転方向及び第１軸に平行な方向への動きを規制して第２軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、転動部材の駆動（回転又は周回を伴なう）により移動体モジュールを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的に露光本体部に対する移動体モジュールの搬入、ひいては露光装置の製造の効率化、及び製造時間の短縮が可能になる。
【００１２】
本発明の第３の態様によれば、本発明の製造方法によって製造された露光装置を用いて感応物体を露光してパターンを形成することと；前記パターンが形成された感応物体を現像することと；を含むデバイス製造方法が、提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の露光装置の横断面図である。
【図３】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、浮上・昇降装置を示す斜視図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、浮上・昇降装置の作用を説明するための図である。
【図５】ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の手順を示すフローチャート（その１）である。
【図６】ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の手順を示すフローチャート（その２）である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の動作を説明するための図（その１）である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の動作を説明するための図（その２）である。
【図９】ステージモジュールを露光装置本体に戻す際の手順を示すフローチャートである。
【図１０】図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）は、チャンバに戻されたステージモジュールをボディに対し位置決めする際の動作を説明するための図である。
【図１１】図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）は、カウンタマスモジュールを露光装置本体から外す際の動作を説明するための図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１１（Ｃ）に基づいて説明する。図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャナ）である。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１５】
露光装置１００は、例えば半導体工場等のクリーンルーム内に設置されている。露光装置１００は、床面Ｆ上に設置された露光装置本体１１０と、露光装置本体１１０を収容するエンバイロンメンタルチャンバ（以下、チャンバと略記する）とを備えている。チャンバ１５０は、複数枚のパネルの組み合わせ（又は複数枚のパネルとこれらが取り付けられるフレーム）とを備え、複数箇所に扉を兼ねる開閉パネルが設けられているが、以下では、＋Ｘ側のパネル１５０ａが開閉可能になっているものとする。
【００１６】
露光装置本体１１０は、光源及び照明光学系を含み、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージモジュール１２、投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、レチクルステージモジュール１２及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを含むウエハステージモジュール３０、ウエハステージモジュール３０のＸ軸方向の一側と他側とにそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂ、及びこれらの制御系等を備えている。
【００１７】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含む。照明系１０では、レチクルブラインドにより規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１８】
レチクルステージモジュール１２は、ボディＢＤの一部であるレチクルベース３６上に搭載されている。レチクルステージモジュール１２は、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルステージＲＳＴを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系（不図示）等を備えている。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系により、レチクルベース３６上を所定の走査方向（ここでは、図１における紙面直交方向であるＹ軸方向）に所定ストロークで駆動され、かつＸ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。
【００１９】
レチクルステージＲＳＴの位置は、不図示のレチクルレーザ干渉計によって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計の検出結果に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴを駆動（位置制御）する。
【００２０】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。投影ユニットＰＵは、ボディＢＤの一部を構成する後述する第１フレームに支持されたメトロロジーフレームと称される部材ＭＦに一体的に保持されている。より詳細には、メトロロジーフレームＭＦは、鏡筒定盤とも呼ばれ、そのほぼ中央部に不図示の円形開口が形成されている。円形開口（又はＵ字状の切り欠き）内に、投影ユニットＰＵが上方（又は紙面奥側）から挿入され、鏡筒４０の外周部に固定されたフランジＦＬＧを介して、メトロロジーフレームＭＦに支持されている。
【００２１】
これにより、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
ボディＢＤは、クリーンルームの床面Ｆ上に設置されたフレームキャスタＦＣ上に搭載された第１フレーム２３２と、第１フレーム２３２上に投影ユニットＰＵを取り囲む位置に、複数本、例えば３本の脚４１（但し、図１における紙面奥側の脚は図示省略）を介して搭載されたレチクルベース３６とを含む。すなわち、レチクルベース３６とこれを支持する３本の脚４１とによってコラム３４が構成されている。レチクルベース３６には、その中央部に照明光ＩＬの通路となる開口３６ａが形成されている。
【００２３】
フレームキャスタＦＣは、床面Ｆ上に水平に置かれたベースプレートＢＳと、該ベースプレートＢＳ上にＹ軸方向に離間して配置された一対の壁部３９Ａ、３９Ｂ（ただし、図１では、紙面奥側の壁部３９Ｂは不図示、図２参照）とを備えている。該一対の壁部３９Ａ、３９Ｂによって、第１フレーム２３２が下方から水平に支持されている。−Ｙ側の壁部３９Ａの＋Ｙ側の面には、後述する位置検出系３００に含まれる複数（例えば、５つ）の反射板３０２ａ〜３０２ｅが固定されている（図２参照）。
【００２４】
第１フレーム２３２は、ＸＹ平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第１フレーム２３２は、その中央部に矩形の段付きの開口部２３２ａを有しており、その開口部２３２ａ内にメトロロジーフレームＭＦが、上方から挿入され開口部２３２ａの段部上に載置されている。メトロロジーフレームＭＦは、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状（あるいは高さの低い箱形）の部材から成り、不図示の防振装置を介してＸＹ平面に平行な状態で第１フレーム２３２に対して固定されている。
【００２５】
なお、不図示ではあるが、投影ユニットＰＵの＋Ｙ側には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるＦＩＡ（Field Image Alignment）系から成るオフアクシス・アライメント系（以下、「アライメント系」と略述する）が設けられている。このアライメント系は、メトロロジーフレームＭＦの下面に吊り下げ状態で固定されている。アライメント系からの撮像信号は、不図示の制御装置に供給される。
【００２６】
図２には、ウエハステージモジュール３０及びカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂが示されている。図２及び図１に示されるように、ウエハステージモジュール３０は、平板（メンテプレート）ＭＰと、該平板ＭＰ上に搭載されたステージベース（ステージ定盤）７１と、該ステージベース７１の上面に沿って互いに独立して移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴと、を有している。
【００２７】
平板（メンテプレート）ＭＰは、その四隅部に対応して配置された４つの浮上・昇降装置１８（４つの浮上・昇降装置１８のうち、２つは図１に示される他の２つに対して紙面奥側に隠れている）を介してベースプレートＢＳ上で水平に支持されている。平板（メンテプレート）ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上には、図１等では図示が省略されているが、後述する複数枚の敷板が格納されている。
【００２８】
ここで、説明は前後するが、浮上・昇降装置１８について、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に基づいて説明する。
【００２９】
浮上・昇降装置１８は、図３（Ａ）に示されるように、エアスプリング装置２２Ａと、ホバー装置２２Ｂとを含む。エアスプリング装置２２Ａは、円板状の板状部材２４と、該板状部材２４の下側に設けられたエアマウント２６とを有し、板状部材２４の上面は、平板ＭＰの下面に固定されている（図４（Ａ）等参照）。エアマウント２６には、板状部材２４に設けられた第１の気体供給口２４ａを介して気体（例えば圧縮空気）を供給することが可能であり、エアマウント２６は、内部に充填された気体量（圧縮空気の圧力変化）に応じてＺ軸方向に所定のストローク（例えば、５０ｍｍ程度）で伸縮する。このため、ウエハステージモジュール３０では、複数の浮上・昇降装置１８それぞれが有するエアスプリング装置２２Ａ（エアマウント２６）を適宜用いて平板ＭＰを上下動させることにより、ステージベース７１上面のＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向それぞれの位置を任意に調整できるようになっている。エアマウント２６内の気圧（圧縮空気の量）は、露光装置１００のメインパネル（不図示）を操作することにより、又はレギュレータボックス（不図示）の手動コックを開閉することにより調整可能となっている。
【００３０】
ホバー装置２２Ｂは、図３（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６を下側から支持するベース２８と、ベース２８の下面（−Ｚ側の面）に設けられたエアホバー２９とを含む。エアホバー２９には、図３（Ａ）に示される板状部材２４に設けられた第２の気体供給口２４ｂ及び板状部材２４内に形成された管路２４ｃ並びに該管路２４ｃとベース２８とを連結する配管３１を介して、圧縮気体(例えば圧縮空気)を供給可能（ただし、上記エアマウント２６とは別系統）であり、該圧縮気体がエアホバー２９からベースプレートＢＳ上面（又は床面Ｆ）に噴出されると、その噴出力により、エアホバー２９とベースプレートＢＳ上面（又は床面Ｆ）との間に所定間隔が形成される（図４（Ｃ）参照）。これにより、ウエハステージモジュール３０全体を、床面Ｆ上に所定のクリアランス（例えば、１０ｍｍ程度）を介して浮上させることができる。エアホバー２９への圧縮気体の供給は、露光装置１００のメインパネル（不図示）を操作することにより、又はレギュレータボックス（不図示）の手動コックを開閉することにより行われる。
【００３１】
また、ベース２８の下面の四隅部それぞれには、平面視（−Ｚ方向から見て）三角形状のホバー接触防止部材３５が設けられている。このホバー接触防止部材３５の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）は、図４（Ａ）等に示されるように、エアホバー２９の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）よりも大きく設定されている。これにより、エアホバー２９から圧縮気体が噴出されない場合であっても、エアホバー２９の下面とベースプレートＢＳ上面とが非接触状態に維持される。
【００３２】
また、ベース２８の上面の四隅部それぞれには、柱部材３３が設けられている（図３（Ａ），図３（Ｂ）では奥側に位置する柱部材は不図示）。この柱部材３３は、図４（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６内の気体を減少させた際に、平板ＭＰの下面と接触して、エアマウント２６の代わりに平板ＭＰの自重を支持するものである。
【００３３】
上記のように構成される浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の状態、図４（Ｂ）の状態、図４（Ｃ）の状態の間で遷移するようになっている。以下、各状態について説明する。
【００３４】
図４（Ａ）の状態は、エアマウント２６に気体を充填し、かつエアホバー２９には圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ａ）の状態では、ホバー接触防止部材３５がベースプレートＢＳ上面に接触し（以下、この状態を「着地状態」と呼ぶ）、柱部材３３が平板ＭＰ下面に接触しない状態（以下、この状態を「上昇状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ａ）の状態を「第１状態」と呼ぶこととする。
【００３５】
また、図４（Ｂ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ（外部に排気し）、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ｂ）の状態では、ホバー接触防止部材３５が前記着地状態であり、柱部材３３が平板ＭＰに接触した状態（以下、この状態を「下降状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ｂ）の状態を「第２状態」と呼ぶこととする。
【００３６】
また、図４（Ｃ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給した状態である。この図４（Ｃ）の状態では、ホバー接触防止部材３５がベースプレートＢＳと非接触となっており（以下、この状態を「浮上状態」と呼ぶ）、柱部材３３が前記下降状態となっている。以下においては、図４（Ｃ）の状態を「第３状態」と呼ぶこととする。
【００３７】
なお、露光装置の稼働中（露光中など）においては、浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の第１の状態に維持されている。
【００３８】
平板ＭＰは、図２に示されるように、複数（例えば、３つ）の位置決め装置１６により、壁部３９Ａ、３９Ｂ及び第１フレーム２３２を含むボディＢＤに対して、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの各方向（６自由度方向）に関して位置決めされた状態となっている。これをさらに詳述すると、各位置決め装置１６は、図４（Ａ）に示されるように、平板ＭＰの上面に固定部材１５ａを介して固定された球座（半球状の突部）１６ａと、壁部３９Ａ、３９Ｂに一端が接続され他端が平板ＭＰの上方に位置し、下面に球座１６ａに対向して円錐凹部であるＶ溝１６ｂが形成されたＶブロック１５ｂとを含む。この場合、球座１６ａは、平板ＭＰの＋Ｙ側の端部にＸ軸方向に所定間隔で２つ、−Ｙ側の端部に１つ配置されており、各球座１６ａに対向する位置にＶ溝１６ｂが各１つ配置されている。従って、複数の浮上・昇降装置１８それぞれが上昇状態となっている平板ＭＰの壁部３９Ａ、３９Ｂに対する位置決め状態では、３つの球座１６ａのそれぞれが対向するＶ溝１６ｂと嵌合しており、これによってステージベース７１がメトロロジーフレームＭＦに対して６自由度方向に位置決めされている。ここで、Ｖ溝１６ｂをＸＹ平面内の所定方向に長い断面Ｖ字状のＶ溝としても良い。この場合、３つのＶブロック１５ｂのそれぞれで異なる方向に長いＶ溝を形成することが望ましい。
【００３９】
平板ＭＰには、図１に示されるように、駆動系２００が内蔵されている。駆動系２００は、駆動輪１６０、該駆動輪１６０にその中心を貫通する状態で固定されたＹ軸方向を長手方向とする駆動軸（回転軸）、該駆動軸の長手方向の両端を回転自在に支持する軸受部材、駆動輪１６０の駆動源であるモータ等、及び駆動軸に駆動源の駆動力を伝達するギヤ機構等の駆動力伝達部材等を含む。この場合、駆動輪１６０は、１つでも良いし、複数あっても良い。複数の駆動輪１６０は、同一の駆動軸の長手方向の複数箇所にそれぞれ設けられていても良い。あるいは、複数の駆動輪１６０がそれぞれ別の駆動軸を有していても良いが、この場合、それらの駆動軸が同軸であることが望ましい。複数の駆動輪１６０がそれぞれ別の駆動軸を有している場合、それぞれ別々の駆動源によって駆動されるようになっていても良いし、同一の駆動源によって駆動されるようになっていても良い。
【００４０】
いずれにしても、駆動輪１６０は、不図示の上下動装置（例えば、エアシリンダあるいはオイルシリンダ等を駆動源とする）により、平板ＭＰ内に格納される格納位置と、浮上・昇降装置１８が前述の第３状態（図４（Ｃ）参照）にあるときに、その周面がベースプレートＢＳの上面に当接する当接位置との間で昇降駆動される。駆動輪１６０の駆動源（モータ等）及び上下動装置は、不図示のリモコン装置（ティーチングペンダント）を介して作業者による操作が可能となっている。
【００４１】
また、平板ＭＰの上面の−Ｙ側の端部には、図２に示されるように、位置検出系３００に含まれる複数（例えば、４つ）のフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２、３０４ｂ、３０４ｃ及び複数（例えば、２つ）のセンサ対３０４ｄ、３０４ｅが固定されている。位置検出系３００については、後に詳述する。
【００４２】
この他、平板ＭＰには、その＋Ｘ側及び−Ｘ側の端面に、それぞれ複数の連結バー（不図示）が突設されている。
【００４３】
図１に戻り、ウエハステージモジュール３０の一部を構成するステージベース７１の＋Ｚ側の面（上面）は、その平面度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのガイド面とされている。
【００４４】
ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ウエハステージ本体９１、及びウエハテーブルＷＴＢを含む。ウエハステージ本体９１は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、その下面に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を複数ヶ所に有しており、その気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出する加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００４５】
ウエハステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８０が挿入されている。固定子８０は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、ウエハステージ本体９１は、Ｘ軸方向、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含むＸ軸可動子、及びＺ軸可動子（図示省略）を有している。ウエハステージ本体９１は、固定子８０とＸ軸可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８０に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。
【００４６】
Ｘ軸可動子は、Ｙ軸方向に離間して複数設けられ、その複数のＸ軸可動子と固定子８０とにより複数のＸ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＸ軸リニアモータにより、適宜θｚ方向に微少駆動される。また、Ｚ軸可動子は、複数（少なくとも３つ）設けられ、その複数のＺ軸可動子と固定子８０とにより複数のローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＺ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＺ軸リニアモータにより、適宜θｘ方向、及び／又はθｙ方向に微少駆動される。
【００４７】
固定子８０は、図１に示されるように、長手方向の一端及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受８８（例えば、エアベアリング）を有している。固定子８０は、気体静圧軸受８８からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００４８】
固定子８０の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８２，８３がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８２，８３は、ウエハステージモジュール３０の＋Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ａの一部を構成するＹ軸固定子８６、及びウエハステージモジュール３０の−Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ｂの一部を構成するＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸固定子８６，８７はその内部に複数のコイルを有し、Ｙ軸可動子８２、８３のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８２により、Ｙ軸可動子８２をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８３により、Ｙ軸可動子８３をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８２、８３と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８２、Ｙ軸リニアモータ８３と呼ぶものとする。
【００４９】
２つのＹ軸リニアモータ８２、８３が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８２，８３によって、固定子８０と一体的にウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８２、８３によって、Ｘ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８２，８３の駆動力を異ならせることによりθｚ方向に駆動される。
【００５０】
ウエハテーブルＷＴＢは、図２に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体９１上に搭載されている。ウエハテーブルＷＴＢの−Ｘ側及び−Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１７ｂ及び１７ａがそれぞれ形成されている。ウエハステージＷＳＴのＺ軸を除く少なくとも５自由度方向の位置は、反射面１７ｂ、１７ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含むウエハ干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。なお、干渉計システムに代えて、又は加えてエンコーダシステムによりウエハテーブルＷＴＢの位置を計測しても良い。
【００５１】
ウエハテーブルＷＴＢの上面には、図１に示されるように、ウエハＷを真空吸着（あるいは静電吸着）によって吸着保持するウエハホルダＷＨが取り付けられている。
【００５２】
計測ステージＭＳＴは、図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に配置されており、計測ステージ本体９２、及び計測テーブルＭＴＢを有している。計測ステージ本体９２は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、計測ステージ本体９２は、その底部に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有している。計測ステージＭＳＴは、気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１上に数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００５３】
計測ステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、例えばコイルユニットを含むＸ軸方向に延びる固定子８１が挿入されている。これに対し、計測ステージ本体９２は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット（図示省略）から成るＸ軸可動子を有している。計測ステージ本体９２は、固定子８１とＸ軸可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８１に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。以下では、適宜、このＸ軸リニアモータを、固定子８１と同一の符号を用いて、Ｘ軸リニアモータ８１と呼ぶ。
【００５４】
固定子８１の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８４，８５がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８４，８５は、カウンタマスモジュール３２Ａの一部を構成するＹ軸固定子８６、及びカウンタマスモジュール３２Ｂの一部を構成するＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸可動子８４、８５のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８４により、Ｙ軸可動子８４をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８５により、Ｙ軸可動子８５をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８４、８５と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８４、Ｙ軸リニアモータ８５と呼ぶものとする。なお、これまでに説明した各リニアモータとして、ムービングマグネット型に代えて、ムービングコイル型のリニアモータを用いても良い。
【００５５】
２つのＹ軸リニアモータ８４、８５が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８４，８５によって、固定子８１と一体的に計測ステージＭＳＴがＹ軸方向に駆動される。したがって、本実施形態では、計測ステージＭＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８４、８５及びＸ軸リニアモータ８１によって、Ｘ軸及びＹ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８４，８５の駆動力を異ならせることによりθｚ方向に駆動される。
【００５６】
さらに、図１では気体静圧軸受８８に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子８１の長手方向の一端及び他端の近傍の下面には、固定子８１をステージベース７１上で浮上させるための気体静圧軸受が取り付けられている。
【００５７】
計測テーブルＭＴＢは、図２に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体９２上に搭載されている。計測テーブルＭＴＢの−Ｘ側及び＋Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１９ｂ及び１９ａがそれぞれ形成されている。
【００５８】
計測ステージＭＳＴ（計測テーブルＭＴＢ）の少なくともＸ軸、Ｙ軸、及びθｚ方向の３由度方向の位置は、反射面１９ｂ、１９ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含む干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。
【００５９】
計測テーブルＭＴＢには、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、例えば、米国特許第５，２４３，１９５号明細書などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク領域や投影光学系ＰＬを介して照明光ＩＬを受光するセンサ（照度モニタ、照度むらセンサ、空間像計測器等）などが含まれている。
【００６０】
図１に戻り、一方のカウンタマスモジュール３２Ａは、前述したＹ軸固定子８６と、Ｙ軸固定子８６の底面に固定されたカウンタマス７５と、カウンタマス７５をＹ軸方向にスライド自在に支持するベース７３と、ベース７３をベースプレートＢＳ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。また、他方のカウンタマスモジュール３２Ｂは、前述したＹ軸固定子８７と、このＹ軸固定子８７の底面に固定されたカウンタマス７６と、このカウンタマス７６を浮上支持するベース７４と、ベース７４をベースプレートＢＳ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。
【００６１】
カウンタマス７５，７６は、略直方体状の重量物であり、その下面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びる凸部が形成されている。この凸部を規定する一対の傾斜面のそれぞれには、不図示の気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）が設けられている。
【００６２】
ベース７３，７４は、例えば略直方体状の形状を有し、その上面には、ＸＺ断面Ｖ字状でＹ軸方向に延びるＶ溝が形成されている。このＶ溝を規定する一対の傾斜面間には、カウンタマス７５，７６それぞれの凸部が挿入されている。カウンタマス７５，７６は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定のクリアランスを介してベース７３，７４上にて非接触支持されている。従って、ウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴのＹ軸方向への移動により生じる反力がＹ軸固定子８６，８７に作用した場合には、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６が、それぞれ一体となってＹ軸方向に沿って移動する。この場合、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６は、運動量保存則（作用反作用の法則）に従って移動するので、それらの移動により、上記反力がキャンセルされる。
【００６３】
ベース７３の−Ｘ端面、及びベース７４の＋Ｘ端面には、不図示ではあるが、平板ＭＰに設けられた連結バーが係合する凹部又は溝がそれぞれ形成されている。
【００６４】
浮上・昇降装置５８は、大きさが異なる点を除き、ウエハステージモジュール３０が有する前述した浮上・昇降装置１８と同様の構成、及び機能を有する。浮上・昇降装置５８は、ベース７３の下面に、Ｙ軸方向に所定間隔で２つ取り付けられている（図１では、一方の浮上・昇降装置５８は、他方の紙面奥側に隠れている）。従って、カウンタマスモジュール３２Ａは、浮上・昇降装置５８が有する不図示のエアマウントを用いてＹ軸固定子８６のＺ位置を調整すること、及び不図示のエアホバーを用いてベースプレートＢＳ上及び床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール３２Ｂは、図１に示されるように、露光装置１００を−Ｙ側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール３２Ａと同様に構成されているため、説明を省略する。
【００６５】
次に、位置検出系３００について説明する。位置検出系３００は、ボディＢＤに対するウエハステージモジュール３０又はウエハ側ステージモジュール（以下、ステージモジュールと略記する）ＷＳＭのＸ軸方向に関する位置情報を検出する。ここで、ステージモジュールＷＳＭとは、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂとが一体となった露光装置本体１１０のサブシステムを意味する。位置検出系３００は、原点位置検出部、速度制限位置検出部及び引出し位置検出部を含む。
【００６６】
原点位置検出部は、図２に示されるように、−Ｙ側の壁部３９Ａの＋Ｙ側の面のＸ軸方向中央に配置された反射板３０２ａと、それぞれが反射板３０２ａと同じ高さに、かつ互いにＸ軸方向に所定間隔で平板ＭＰ上に配置された一対のフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２とを含む。ここで、フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２としては、限定反射型光電センサが用いられている。ウエハステージモジュール３０が、原点位置（ボディＢＤに対する基準位置）にあるときは、両フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２が反射板３０２ａに対向しており、両センサはオン状態（光を検出している状態）にある。したがって、原点位置検出部は、ウエハステージモジュール３０又はステージモジュールＷＳＭの原点位置を検出できるとともに、ウエハステージモジュール３０又はステージモジュールＷＳＭが原点位置から＋Ｘ方向、−Ｘ方向のいずれに移動したかを検出できる。すなわち、両フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２は、原点位置センサである。以下では、適宜、原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２とも表記する。
【００６７】
速度制限位置検出部は、ステージモジュールＷＳＭの後述する電動引出しの際に、ステージモジュールＷＳＭの速度制限位置の情報を検出する。速度制限位置検出部は、図２に示されるように、両原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２を挟むようにＸ軸方向に離間して配置された一対のフォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃと、壁部３９Ａのフォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃそれぞれと同じ高さ位置に配置され、Ｘ軸方向に延びる一対の反射板３０２ｂ、３０２ｃとを含む。一方の反射板３０２ｂは、ステージモジュールＷＳＭが原点位置にあるとき、壁部３９Ａの−Ｘ側の端面の近傍の位置からフォトセンサ３０４ｂの−Ｘ端面の位置まで（図２の矢印Ｐの範囲に亘って）延びている。他方の反射板３０２ｃは、ステージモジュールＷＳＭが原点位置にあるときに、フォトセンサ３０４ｃの＋Ｘ端面の位置から壁部３９Ａの＋Ｘ側の端部近傍の位置まで（図２の矢印Ｑの範囲に亘って）延びている。フォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃとしては、限定反射型光電センサが用いられている。図２からもわかるように、反射板３０２ｃは、反射板３０２ｂの下方の位置に配置されており、これに対応してフォトセンサ３０４ｃは、フォトセンサ３０４ｂより低い位置に配置されている。従って、ステージモジュールＷＳＭがＸ軸方向へ移動しても、フォトセンサ３０４ｂは反射板３０２ｃに対向することがなく、フォトセンサ３０４ｃは反射板３０２ｄに対向することがない。
【００６８】
引出位置検出部は、ステージモジュールＷＳＭの後述する電動引出しの際に、ステージモジュールＷＳＭの引出位置の情報を検出する。
【００６９】
引出位置検出部は、平板ＭＰ上面の＋Ｘ側かつ−Ｙ側の角部、及び−Ｘ側かつ−Ｙ側の角部のそれぞれに配置されたセンサ対３０４ｄ、３０４ｅと、センサ対３０４ｄ、３０４ｅのそれぞれと同じ高さに配置された一対の反射板３０２ｄ、反射板３０２ｅとを含む。反射板３０２ｄは、反射板３０２ｂの−Ｘ側に配置され、反射板３０２ｅは、反射板３０２ｃの＋Ｘ側に配置されている。センサ対３０４ｄは、Ｘ軸方向に隣接して配置された一対のフォトセンサ３０４ｄ１、３０４ｄ２を有している。同様に、センサ対３０４ｅは、Ｘ軸方向に隣接して配置された一対のフォトセンサ３０４ｅ１、３０４ｅ２を有している。フォトセンサ３０４ｄ１、３０４ｄ２及びフォトセンサ３０４ｅ１、３０４ｅ２としては、回帰反射型の光電センサが用いられている。センサ対３０４ｄのうちの−Ｘ側のフォトセンサ３０４ｄ１及びセンサ対３０４ｅのうちの＋Ｘ側のフォトセンサ３０４ｅ１は、ステージモジュールＷＳＭの通常の引出位置を検出する。一方、センサ対３０４ｄのうちの＋Ｘ側のフォトセンサ３０４ｄ２及びセンサ対３０４ｅのうちの−Ｘ側のフォトセンサ３０４ｅ２は、ステージモジュールＷＳＭの引出限界位置を検出する。
【００７０】
反射板３０２ｄと反射板３０２ｅとは、異なる高さ位置に配置されており、これに対応してセンサ対３０４ｄ、３０４ｅは互いに異なる高さに配置されている。従って、ステージモジュールＷＳＭがＸ軸方向へ移動しても、センサ対３０４ｄは反射板３０２ｅに対向することがなく、センサ対３０４ｅは反射板３０２ｄに対向することがない。
【００７１】
位置検出系３００に備えられるフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２、３０４ｂ、３０４ｃ、３０４ｄ１、３０４ｄ２、３０４ｅ１、３０４ｅ２それぞれの検出情報は、不図示のリモコン装置（ティーチングペンダント）に供給される。
【００７２】
次に、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）から外部へ引き出す手順を、図５及び図６のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、ステージモジュールＷＳＭの露光装置本体１１０からの引き出しは、複数の作業者の共同作業によるが、以下では、個々の作業者を区別することなく、単に作業者と呼ぶ。後述するステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す作業、カウンタマスモジュール３２Ａの外し、ドッキング等の説明においても同様である。
【００７３】
前述のように、露光装置の稼働中は、ウエハステージモジュール３０の浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）に示される第１の状態にあり、また、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂの浮上・昇降装置５８も同様の状態にあり、ステージモジュールＷＳＭは、全体として、図７（Ａ）に示される状態にある。なお、図７（Ａ）〜図７（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【００７４】
先ず、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しの前処理として、露光装置１００のメインパネル（不図示）からステージ降下開始を指示する。この指示を受け、露光装置１００の制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス（ＣＭ）７５、７６を、所定の位置（ホバー装置２２Ｂによる浮上時においてステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置）に移動させた後、ウエハステージＷＳＴ（及び計測ステージＭＳＴ）のサーボをオフにする（図５のステップＳ１、ステップＳ２）。サーボオフ後、制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を浮上させる各エアパッドへの空気供給を停止して、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を着地させる（ステップＳ３、図７（Ｂ）参照）。
【００７５】
次いで、作業者は、パネル１５０ａに設けられた覗き窓（不図示）を開いても良い。次に行われるウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下中の装置異常を監視するためである。
【００７６】
次に、制御装置は、作業者によるメインパネルを介した指示に応じ、各浮上・昇降装置１８（及び５８）のエアマウント２６内の気圧を下げて、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下を開始させる（ステップＳ４）。
【００７７】
次に、制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下開始後、傾斜計（例えば、気泡式のものなどが用いられる）、及びタイマーなどのモニタを開始する。そして、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下開始から一定時間（例えば、３０秒）、ステージベース７１の傾きを監視する（ステップＳ５、Ｓ７）。そして、制御装置は、ステージベース７１の傾きが異常であることを検知した場合、例えば傾斜計の計測値が水平面に対し５°以上になった場合には、各エアマウント２６内の気圧を上げて（ステップＳ６ａ）、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を上昇させた後、例えば「ステージ降下姿勢の異常を検知しました。チャンバを開けてステージの姿勢を確認して下さい。」とメインパネルの表示部に表示する（ステップＳ６ｂ）。この場合、作業者により、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の姿勢が確認された後、再度、ステージ降下が指示されることとなる。
【００７８】
一方、ステージベース７１の傾き異常を検出することなく一定時間（例えば、３０秒）が経過すると、各エアマウント２６の上側に設けられた板状部材２４のＺ位置を検出するフォトセンサ（不図示）、及び各エアマウント２６に設けられた圧力センサ（不図示）などの計測値に基づいて、全エアマウントの排気が終了したか否かを判断する（ステップＳ７）。そして、この判断が否定された場合には、制御装置は、例えば「ステージ降下が時間内に終了しませんでした。チャンバを開けてステージの状態を確認して下さい。」とメインパネルの表示部に表示する（ステップＳ８）。この場合、作業者により、ステージモジュールＷＳＭの状態が確認された後、再度、適切な指示が与えられることになる。
【００７９】
一方、制御装置は、全エアマウント２６の排気が一定時間内に終了したと判断した場合には、例えば、「ステージ降下完了」などをメインパネルの表示部に表示してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下完了表示を行う（ステップＳ９）。
【００８０】
次に、作業者により、ステージモジュールＷＳＭを引き出す側のチャンバパネル、この場合パネル１５０ａが開けられ、平板ＭＰの下方から敷板１８０が引き出されてベースプレートＢＳの＋Ｘ側に敷設される（図７（Ｂ）参照）。
【００８１】
次いで、作業者により、カウンタマス７５、７６の位置が適正か否か（カウンタマス７５、７６が、ホバー装置２２Ｂによる浮上時においてステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置にあるか否か）が判断される（ステップＳ１０）。この判断は、目視によって行われる。
【００８２】
作業者は、カウンタマス７５、７６の位置が適正でないと判断した場合には、メインパネルからカウンタマス７５，７６に設けられたエアパッドの浮上を指示し（ステップＳ１１）、カウンタマス７５、７６の位置調整を手動で行った（ステップＳ１２）後、カウンタマス７５、７６に設けられたエアパッドを着地させる（ステップＳ１３）。その後、作業者が各エアホバー２９に空気を供給してステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ１４、図７（Ｃ）参照）。一方、作業者は、カウンタマス７５、７６の位置が適正であると判断した場合には、各エアホバー２９に空気を供給して全エアホバー２９によりステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ１４、図７（Ｃ）参照）。
【００８３】
次に、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しを電動又は手動のいずれにより行うのが妥当かを、安全性等を十分考慮して判断する（Ｓ１５）。作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しを電動により行うのが妥当であると判断した場合には、駆動系２００を操作するための図示しないリモコン装置（ティーチングペンダント）を、＋Ｘ側のベース７３に設け、駆動系２００に電気的に接続されたコネクタ部（不図示）に接続する。そして、作業者は、リモコン装置により、前述の上下動装置（例えば、エアシリンダなどを駆動源とする）を作動させて、駆動輪１６０を接地させる（ステップＳ１６、図８（Ａ）参照）。
【００８４】
次に、以下に詳述するようにして、作業者により、ステージモジュールＷＳＭの電動引き出しが行われる（ステップＳ１７）。
【００８５】
ステージモジュールＷＳＭは、当初、前述した原点位置にあり、図２に示される原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２は、反射板３０２ａに対向しており、検出状態にある。作業者は、先ず、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭの駆動開始の際、駆動開始から所定時間（例えば、２秒間）の速度を目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）よりも低い速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に設定した後、駆動輪１６０を回転させてステージモジュールＷＳＭの＋Ｘ方向への移動を開始させる。これにより、ステージモジュールＷＳＭが低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）で＋Ｘ方向へ移動を開始し、間もなく、原点位置センサ３０４ａ１が反射板３０２ａに対向しなくなり非検出状態（オフ状態）になるとともに、フォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃに対向するようになって検出状態（オン状態）となる。その後、原点位置センサ３０４ａ２が反射板３０２ａに対向する位置から外れて非検出状態となる。作業者は、上記所定時間（例えば、２秒間）が経過したときに、すなわちフォトセンサ３０４ｃが検出状態となった直後に、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭを上記目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）まで加速する。そして、ステージモジュールＷＳＭが更に＋Ｘ方向へ移動し、フォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃの＋Ｘ端のＸ位置を通過したとき、すなわちフォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃに対向しなくなって非検出状態となったとき、このときの非検出情報がリモコン装置の表示部に反映される。作業者は、このタイミングで、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭの速度を低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に切り替える。そして、フォトセンサ３０４ｅ１が反射板３０２ｅに対向したときに、フォトセンサ３０４ｅ１の検出情報がリモコン装置の表示部に反映されるので、このタイミングで、作業者は、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭを停止させる。このタイミングを逃した場合には、フォトセンサ３０４ｅ２が反射板３０２ｅに対向したときに、フォトセンサ３０４ｅ２の検出情報がリモコン装置の表示部に反映されるので、このときに、ステージモジュールＷＳＭを停止させても良い。結果的に、ステージモジュールＷＳＭは、＋Ｘ方向に所定距離（例えば、約１．１ｍ）移動した位置で停止し（図８（Ｂ）参照）、この位置がステージモジュールＷＳＭの引出位置となる。
【００８６】
この一方、作業者は、ステップＳ１５において、ステージモジュールＷＳＭを手動で引き出すことが妥当である判断した場合には、上記原点位置にあるステージモジュールＷＳＭを直接的に押し引きすることにより上記引出位置までゆっくり引き出す（ステップＳ１８）。この際、ステージモジュールＷＳＭに水平方向の慣性力が作用するので、安全性の観点から、特に、その動き出し時及び停止時にステージモジュールＷＳＭの速度を控えめにすることが望ましい。
【００８７】
ステージモジュールＷＳＭを引出位置まで引き出した後、各エアホバー２９への空気供給を停止して全エアホバー２９を着地させる（ステップＳ１９ａ、図８（Ｃ）参照）。これにより、ステージモジュールＷＳＭの手動による引き出し作業は終了する。一方、電動引き出しの場合は、各エアホバー２９への空気供給を停止して全てのホバー装置２２Ｂを着地させ（ステップＳ１９）、その後に、作業者は、リモコン装置により、上下動装置を駆動して、駆動輪１６０を格納する（ステップＳ２０、図８（Ｃ）参照）。
【００８８】
ここで、作業者がステージモジュールＷＳＭの各構成部のメンテナンス作業及び交換作業を行う。具体的には、ウエハステージＷＳＴ、ウエハステージＷＳＴの構成部材の清掃及び交換、ウエハホルダの清掃機のメンテナンス、ウエハの研削用砥石の交換、アライメント系（ＦＩＡ）のメンテナンス、交換等を行う。そして、これらのメンテナンス作業及び交換作業が終了したら、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す。
【００８９】
次に、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す手順を、図９のフローチャートを参照しつつ説明する。先ず、作業者は、各エアパッドに空気を供給してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、カウンタマス７５、７６を浮上させて、それぞれをホバー装置２２Ｂによる浮上時にステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置に移動させる（ステップＳ３１）。次に、作業者は、各エアパッドへの空気供給を停止してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、カウンタマス７５、７６を着地させる（ステップＳ３２）。その後、メインパネルから指示を与えて、各エアホバー２９へ空気を供給して全エアホバー２９によりステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ３３）。
【００９０】
ここで、作業者がステージモジュールＷＳＭの戻し方法を、上述した引出時と同様に、手動又は電動のいずれが妥当であるかを判断する（ステップＳ３４）。作業者は、電動により戻すことが妥当であると判断した場合には、リモコン装置により上下動装置を駆動して駆動輪１６０を接地させる（ステップＳ３５、図８（Ｂ）参照）。
【００９１】
次に、前述したステージモジュールＷＳＭの電動による引き出し方法とほぼ反対の手順で、作業者により、リモコン装置を用いてステージモジュールＷＳＭの電動による戻しが行われる（ステップＳ３６）。なお、詳細説明は省略するが、駆動輪１６０を回転させるモータは、速度が目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）から低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に切り替わった後、両原点位置検出センサ３０４ａ１、３０４ａ２がともに検出状態となった時点で停止する。これにより、ステージモジュールＷＳＭは、上記引出位置から−Ｘ方向に所定距離（例えば、約１．１ｍ）移動し、前述の原点位置で停止する（図１０（Ａ）参照）。なお、図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【００９２】
そして、作業者は、リモコン装置をコネクタから外し、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。
【００９３】
次いで、作業者は、メインパネルからステージ上昇開始を指示する。この指示を受け、露光装置１００の制御装置は、上下動装置を駆動して、駆動輪１６０を格納する（ステップＳ３７）。
【００９４】
次いで、制御装置は、各エアマウント２６への空気供給を開始した後、各エアマウント２６の内圧が第１の値（例えば、０．１７ＭＰａ）以上になるのを待つ（ステップＳ３９、Ｓ４０）。
【００９５】
この一方、ステップＳ３４において、作業者は、ステージモジュールＷＳＭを手動で戻すことが妥当であると判断した場合には、前述の引出位置にあるステージモジュールＷＳＭを直接的に押し引きすることにより上記原点位置まで戻す（ステップＳ３８）。この際、引出時と同様に、安全性に十分な注意を払うことが望ましい。また、作業者は、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。
【００９６】
次いで、作業者は、メインパネルからステージの上昇開始を指示する。この指示を受け制御装置は、各エアマウント２６への空気供給を開始した後、各エアマウント２６の内圧が第１の値（例えば、０．１７ＭＰａ）以上になるのを待つ（ステップＳ３９、Ｓ４０）。
【００９７】
そして、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６が所定位置まで上昇すると、各位置決め部１６の作用により（球座１６ａがＶ溝１６ｂに嵌り込み）、その上昇が抑えられる（図１０（Ｂ）及び図４（Ａ）参照）。これにより、各エアマウント２６の内圧が第１の値以上になる。
【００９８】
そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第１の値以上になったことを確認すると、全てのホバー装置２２Ｂの降下を開始する（ステップ４１）。そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第２の値、すなわち設定値（例えば０．３Ｍｐａ）以上になるのを待つ。
【００９９】
各エアマウント２６の内圧が第２の値以上になるまでの間に、制御装置は、ホバー装置２２Ｂが降下した分、さらにエアマウント２６（エアスプリング装置２２Ａ）を伸ばすことで、ステージモジュールＷＳＭがボディＢＤに対し位置決めされた状態を維持したまま、全てのホバー装置２２Ｂの降下を終了させ、各エアホバー２９への空気供給を停止して、全てのホバー装置２２Ｂを着地させる（ステップＳ４２、図１０（Ｃ）参照）。
【０１００】
そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第２の値以上になると、各エアマウント２６への空気供給を停止する。これにより、ステージモジュールＷＳＭを戻す一連の処理が終了する。
【０１０１】
次に、カウンタマスモジュールの外し動作及びドッキング動作を含む、メンテナンス方法について、図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）を参照して説明する。なお、図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【０１０２】
この場合、作業者により、カウンタマスモジュール３２Ａを引き出す側のチャンバパネル、この場合パネル１５０ａが開けられ、平板ＭＰの下方から敷板１８０が引き出されてベースプレートＢＳの＋Ｘ側に敷設され、カウンタマス７５、７６の位置が適正か否かが判断され、必要な場合に、カウンタマス７５、７６の位置調整が行われるまでの手順は、前述のステージモジュールＷＳＭの引き出しの場合と同様である。この状態で、先ず、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａとウエハステージモジュール３０とのロック装置（不図示）を解除した後、カウンタマスモジュール３２Ａのベース７３とウエハステージモジュール３０側とを接続する配管、配線等の切り離し、及び両者を電気的に接続するための電線の延長とその延長された電線８０を覆うための伸縮自在の増設カバー８１の取り付けなどの準備作業を行う。そして、作業者は、全エアホバー２９に空気を供給して浮上させる。図１１（Ａ）には、この全てのホバー装置２２Ｂが浮上した直後の状態が示されている。
【０１０３】
次に、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａを直接的に押し引きして＋Ｘ方向にゆっくり移動させる。カウンタマスモジュール３２Ａを＋Ｘ方向に移動させると、間もなく、前述した平板ＭＰに設けられた連結バーがベース７３の−Ｘ端面に形成された凹部又は溝から離脱される（カウンタマスモジュール３２Ａがウエハステージモジュール３０から分離する）が、作業者はそのままカウンタマスモジュール３２Ａを所定の引出位置まで移動させて、停止させる（図１１（Ｂ）参照）。なお、電線８０は、長めに設定されており、伸縮自在の増設カバー８１と共にカウンタマスモジュール３２Ａの移動に従って引き出される。
【０１０４】
カウンタマスモジュール３２Ａを上記引出位置に位置させた後、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａを浮上させるエアホバー２９への空気供給を停止してカウンタマスモジュール３２Ａを敷板１８０上に接地させる（図１１（Ｃ）参照）。その後、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａの各構成部材のメンテナンス及び交換作業を行う。
【０１０５】
上述のメンテナンス及び交換作業が終了すると、作業者は、エアホバー２９に空気を供給してカウンタマスモジュール３２Ａを浮上させ、作業者がカウンタマスモジュール３２Ａを−Ｘ方向にゆっくり移動させ、ウエハステージモジュール３０にドッキングさせる。具体的には、カウンタマスモジュール３２Ａをウエハステージモジュール３０に対して、連結バーとベース７３の−Ｘ端面に形成された凹部又は溝とが係合するように位置合わせした後、連結バーをベース７３の凹部又は溝に係合させることで両者をドッキングさせる。ドッキング後、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２ＡとのＺ軸方向の位置調整を行う。そして、上記ロック装置によりウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａとをロックして両者を固定する。その後、作業者は、全エアホバー２９に対する空気の供給を停止して、ステージモジュールＷＳＭを着地させた後、カウンタマスモジュール３２Ａのベース７３とウエハステージモジュール３０側とを配管、配線等で接続し、延長された電線８０及び増設カバー８１の取り外しを行う。そして、作業者は、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。その後、ステージのリセットが行われる。
【０１０６】
本実施形態の露光装置１００では、通常のスキャニング・ステッパと同様の手順で、レチクルアライメント及びベースライン計測、並びにウエハアライメント等の準備作業が行われた後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。
【０１０７】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、ステージモジュールＷＳＭを、ホバー装置２２Ｂ（エアホバー２９）によって浮上させた状態で、かつＹ軸に平行な回転軸を有する駆動輪１６０を接地させてモータ等によって駆動することにより、ステージモジュールＷＳＭを、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。また、駆動輪１６０の回転駆動によりステージモジュールＷＳＭを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にメンテナンス時の作業性を向上させることが可能になる。
【０１０８】
また、ステージモジュールＷＳＭを、ホバー装置２２Ｂ（エアホバー２９）によって浮上させた後に、駆動輪１６０を接地させるので、上下動装置に過剰な負荷が掛かることが防止される。
【０１０９】
また、露光装置１００では、ステージモジュールＷＳＭが電動又は手動により引き出し可能なので、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０から引き出す際に、状況により電動又は手動のいずれかを選択できる。したがって、専ら安全性が重視される場合、人員が足りない場合等には電動を選択でき、一方、人員を多数配置する等して安全性が充分確保されている場合、駆動系２００が故障した場合等には手動を選択できる。
【０１１０】
また、ステージモジュールＷＳＭの移動開始時及び停止前に、その速度が低速度に切り替えられるので、駆動系２００に掛かる負荷が低減され、ひいては駆動系２００の故障等を防止できる。また、ステージモジュールＷＳＭを引き出す際の引出位置における位置制御性を向上させることができ、ステージモジュールＷＳＭを戻す際の原点位置における位置制御性を向上させることができる。
【０１１１】
また、上述のように、ステージモジュールＷＳＭの少なくとも一部をベースプレートＢＳに対して浮上した（非接触に維持した）状態で露光装置本体１１０から引き出すこととしているので、ステージモジュールＷＳＭを引き出すのに必要な力を極力小さくすることができる。これにより、電動引出しを選択した場合には駆動系２００に掛かる負荷を低減でき、手動引出しを選択し場合には作業者がステージモジュールＷＳＭを楽に移動させることができる。しかも、ベースプレートＢＳ、敷板１８０等に傷を付けることなくステージモジュールＷＳＭの少なくとも一部を露光装置本体１１０から引き出すことが可能である。
【０１１２】
また、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０に戻す際にも、上述した引き出しの際と同様に、ステージモジュールＷＳＭを浮上させた状態で移動させるので、電動戻しを選択した場合には駆動系２００に掛かる負荷を低減でき、手動戻しを選択した場合には作業者がステージモジュールＷＳＭを楽に移動させることができる。しかも、ステージモジュールＷＳＭとの摩擦などによるベースプレートＢＳ、敷板１８０等の損傷を極力抑制することができる。
【０１１３】
また、本実施形態によると、カウンタマスモジュール３２Ａのみをメンテナンス又は交換したい場合に、カウンタマスモジュール３２Ａのみを引き出すことができるので、ステージモジュールＷＳＭ全体を移動させる場合に比べ、引出時、戻し時の作業性に優れる。また、カウンタマスモジュール３２Ａを単体でチャンバ１５０の外部に位置させることができるので、その各部のメンテナンス作業及び交換作業の作業性に優れる。
【０１１４】
なお、上記実施形態に係るモジュールユニットのメンテナンス方法は、一例であって、本発明に係るメンテナンス方法がこれに限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭの一部をチャンバ１５０の外部に位置させてメンテナンス等を行っているが、これに限らず、チャンバ１５０の外部にステージモジュールＷＳＭ全体を位置させるスペースがあれば、ステージモジュールＷＳＭ全体をチャンバ１５０の外部に位置させてメンテナンス等を行っても良い。
【０１１５】
また、上記実施形態では、カウンタマスモジュール３２ＡをボディＢＤに対し＋Ｘ方向に引き出してメンテナンス等を行っているが、これに加えて又はこれに代えて、カウンタマスモジュール３２ＢをボディＢＤに対し−Ｘ方向に引き出してメンテナンス等を行っても良い。カウンタマスモジュール３２Ｂの引出し方法及び戻し方法は、カウンタマスモジュール３２Ａの場合と同様である。
【０１１６】
また、上記実施形態では、カウンタマスモジュール３２Ａのみを引き出しているが、これに限らず、例えば、カウンタマスモジュール３２Ａを引き出した後、ウエハステージモジュール３０を引き出してその各構成部のメンテナンス及び交換等を行っても良い。
【０１１７】
また、上記実施形態では、平板ＭＰに上下動可能な駆動輪１６０を設けているが、これに限らず、例えば、それぞれＹ軸方向を軸方向とし、Ｘ軸方向に離間して配置された複数のローラと、これらのローラに巻き掛けられた無端ベルトとを含むベルト装置を、平板ＭＰに上下動可能に設けても良い。
【０１１８】
また、上記実施形態では、各フォトセンサ３０４ａ１〜３０４ｃ、各フォトセンサ対３０４ｄ、３０４ｅの検出情報を、リモコン装置のみならず、制御装置に供給して、駆動系２００を制御装置により制御するようにしても良い。
【０１１９】
また、上記実施形態では、フォトセンサ３０４ａ１〜３０４ｃ、３０４ｄ、３０４ｅが平板ＭＰに配置され、反射板３０２ａ〜３０２ｅが壁部３９Ａに配置されているが、反射板を平板ＭＰに配置し、フォトセンサを壁部に配置しても良い。フォトセンサ又は反射板を、壁部３９Ｂに配置し、反射板又はフォトセンサを、平板ＭＰの＋Ｙ側端部に配置しても良い。
【０１２０】
また、上記実施形態では、位置決め部として、球座とＶ溝の組み合わせの位置決め部を３つ用いた場合について説明したが、これに限らず、通常のキネマティック構造（点と、Ｖ溝と、面とで接触する構造）を採用することとしても良い。
【０１２１】
なお、上記実施形態では、位置決め部１６を構成する球座１６ａが平板ＭＰに設けられ、Ｖ溝１６ｂを有する部材が壁部３９Ａ、３９Ｂに設けられる場合について説明したが、これに限らず、球座が壁部３９Ａ、３９Ｂに設けられ、Ｖ溝を有する部材が平板ＭＰに設けられることとしても良い。また、平板ＭＰに代えて、ステージベース７１に球座又はＶ溝を有する部材を設けることとしても良いし、壁部３９Ａ、３９Ｂに代えて、第１コラム２３２に球座又はＶ溝を有する部材を設けることとしても良い。
【０１２２】
また、上記実施形態では、浮上・昇降装置１８が、エアスプリング装置とホバー装置とが一体化されている構成である場合について説明したが、これに限らず、エアスプリング装置とホバー装置とを別体で構成し、それぞれを平板ＭＰの下面に設けることとしても良い。
【０１２３】
また、上記実施形態では、エアスプリング装置及びホバー装置を採用したが、これに限らず、ウエハステージモジュール３０、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂの高さ方向の位置を調整することができる装置であれば、エアスプリング装置以外の装置を採用することとしても良いし、ウエハステージモジュール３０、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２ＢをベースプレートＢＳ上で浮上させることができる装置であれば、エアホバー以外の装置（例えば、気体静圧軸受など）を採用することとしても良い。
【０１２４】
また、上記実施形態では、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂとを別体とすることとしたが、これに限らず、ステージモジュールとカウンタマスモジュールを一体的に構成することとしても良い。
【０１２５】
なお、上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭの電動引出し用の駆動系２００を平板ＭＰに設けているが、これに限らず、駆動系２００を設けない構成（手動引出しに限る構成）も可能である。この場合、例えば、駆動輪１６０に代えて、Ｙ軸周りに回転自在な車輪を平板ＭＰに上下動可能に設けると良い。そして、車輪をベースプレートＢＳ及び敷板１８０に接地させた状態で、ステージモジュールＷＳＭを手動によりＸ軸方向に移動させることとすれば、ステージモジュールＷＳＭをボディＢＤに対し簡単に出し入れすることができる。
【０１２６】
上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭ又はカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂをメンテナンス等する場合について説明したが、上記実施形態で述べたステージモジュールＷＳＭをボディＢＤに戻す方法は、露光装置の製造工場及び／又は半導体工場などで露光装置を製造する際にも用いられる。
【０１２７】
例えば、上記実施形態の露光装置１００の露光装置本体１１０は、各構成要素を含む各種モジュール（サブシステム）、例えば照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、ウエハステージモジュール３０、ステージモジュールＷＳＭ、及びボディＢＤなどを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図１の照明系１０のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒４０及び投影光学系ＰＬを含む図１の投影ユニットＰＵのモジュールである。
【０１２８】
各種モジュールから露光装置への組み立て工程の一部に、ステージモジュールＷＳＭと、ボディとの組立工程がある。この組立工程において、前述したステップＳ３１〜ステップＳ４２の手順に従って、ボディＢＤの下方にステージモジュールＷＳＭを搬入後、両者がドッキングされる。各種モジュールから露光装置への組み立て工程には、各種モジュール相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種モジュールから露光装置への組み立て工程の前に、各モジュール個々の組み立て工程がある。例えば、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２ＢとからステージモジュールＷＳＭが組み立てられる。各種モジュールの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。
【０１２９】
従って、ここで説明した露光装置の製造方法によれば、ステージモジュールＷＳＭをボディＢＤとのドッキングのため外部からボディＢＤに向かって駆動する際に、前述と同様の理由により、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、駆動輪１６０の回転駆動によりステージモジュールＷＳＭを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にボディＢＤに対するステージモジュールＷＳＭの搬入、ひいては露光装置の製造の効率化、及び製造時間の短縮が可能になる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われる。
【０１３０】
なお、カウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂを、ウエハステージモジュール３０と別のサブシステムとして、露光装置を組み立てることも考えられる。この場合、前述したカウンタマスモジュールの外し動作及びドッキング動作のところで説明したカウンタマスのドッキング動作時と同様にして、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂとをドッキングする工程を、各種モジュールから露光装置への組み立て工程の一部として実行すれば良い。
【０１３１】
なお、上記実施形態ではステージモジュールが、ウエハステージと計測ステージとを有する露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを有する露光装置にも本発明を適用することが可能である。また、単一のウエハステージを有するシングルステージタイプの露光装置に本発明を適用することも可能である。
【０１３２】
なお、上記実施形態では、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置の製造に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書、国際公開第２００４／０５５８０３号、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置の製造にも本発明を適用することができる。
【０１３３】
また、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示される、液浸露光装置の製造などにも、本発明を適用することができる。この場合、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの各構成部のメンテナンス作業及び交換作業として、前述した作業に加え、例えばウエハテーブル上面の撥液プレート等の清掃及び交換、リニアエンコーダのヘッドの調整、液体供給ノズル及び液体回収ノズルの清掃及び交換等をも行うこととしても良い。
【０１３４】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これに限らず、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。また、上記実施形態では、スキャニング・ステッパの製造に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置の製造に本発明を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置の製造にも本発明は適用することができる。
【０１３５】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【０１３６】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１３７】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことは言うまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置にも本発明を好適に適用することができる。このほか、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。
【０１３８】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）を用いても良い。
【０１３９】
また、国際公開２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１４０】
さらに、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。
【０１４１】
また、物体上にパターンを形成する装置は、前述の露光装置（リソグラフィシステム）に限られず、例えばインクジェット方式にて物体上にパターンを形成する装置にも本発明を適用することができる。
【０１４２】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【０１４３】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄型磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【０１４４】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上述した本発明の製造方法の一実施形態に係る製造方法によって製造された上記実施形態の露光装置１００を用いて露光が行われ、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
以上説明したように、本発明の露光装置のメンテナンス方法及び露光装置の製造方法は、半導体素子又は液晶表示素子などを製造するリソグラフィ工程で用いられる種々の露光装置のメンテナンス及び製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイスの生産に適している。
【符号の説明】
【０１４６】
２２Ａ…エアスプリング装置、２２Ｂ…ホバー装置、２６…エアマウント、２９…エアホバー、３０…ウエハステージモジュール、３２Ａ，３２Ｂ…カウンタマスモジュール、７１…ステージベース、７３，７４…ベース、７５，７６…カウンタマス、１００…露光装置、１１０…露光装置本体、１６０…駆動輪、３０４ｂ，３０４ｃ…フォトセンサ、３０４ｄ１、３０４ｄ２、３０４ｅ１、３０４ｅ２…フォトセンサ、Ｗ…ウエハ、ＩＬ…照明光、ＷＳＭ…ステージモジュール、ＷＳＴ…ウエハステージ、Ｆ…床面。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置のメンテナンス方法、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程で用いられる露光装置のメンテナンス方法、前記露光装置の製造方法、及び該方法によって製造された露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程では、ステッパ、あるいはスキャニング・ステッパなどの投影露光装置を含む種々の露光装置が用いられている。
【０００３】
従来のステッパなどの露光装置では、フレーム装置（ボディ）に対して投影光学系が装着され、更にはレチクルを位置決めするレチクルステージ系、及びウエハを２次元移動するウエハステージ系が順次フレーム装置に対して直接組み付けられていた。このため、組立調整に時間を要する等の不都合があった。そこで、かかる不都合を改善するものとして、第１物体（レチクル）を保持して移動する第１ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第１ステージ室と、第２物体（ウエハ）を保持して移動する第２ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第２ステージ室とが、ともにモジュール構成とされ、第１及び第２ステージ室を組み立てた後に、フレーム装置に装着することによって、露光装置の組立調整を容易に、かつ迅速に行うことができる露光装置が、先に提案されている（特許文献１参照）。
【０００４】
しかるに、露光装置のステージ系、例えば基板ステージは、基板の大型化に伴って大型化している。例えば、半導体露光装置の場合、従前は直径が２００ｍｍのウエハであったが、現在は直径が３００ｍｍのウエハが主流であり、今や直径が４５０ｍｍのウエハの時代の到来が目前に迫っている。この基板の大型化によって、メンテナンスの際などにおける上記第２ステージ室などのボディから外部への搬出及びメンテンス終了時のボディへの組み付けなどが困難になることが懸念されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開２００１／００１５７９５号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置のメンテナンス方法であって、露光本体部から取り外すため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置のメンテナンス方法が、提供される。
【０００７】
ここで、転動部材を前記床面に当接させて駆動とは、転動部材がモータ等の駆動源のよって駆動される場合の他、外部からの力で駆動する場合も含む。
【０００８】
これによれば、前記移動体モジュールを、二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、第２軸に平行な方向に移動させるので、移動体モジュールを、二次元平面内における回転方向及び第１軸に平行な方向への動きを規制して第２軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、転動部材の駆動（回転又は周回を伴なう）により移動体モジュールを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にメンテナンス時の作業性を向上させることが可能になる。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置の製造方法であって、露光本体部に対して搬入するため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置の製造方法が、提供される。
【００１０】
ここでも、転動部材を前記床面に当接させて駆動とは、転動部材がモータ等の駆動源によって駆動される場合の他、外部からの力で駆動する場合も含む。また、露光装置の製造は、メーカの工場内での製造（組立を含む）、及び出荷先であるユーザの工場内での製造（立ち上げ時の組み立て）の他、装置を移設する際の組み立てをも含む。本明細書では、露光装置の製造なる用語をかかる意味で用いている。
【００１１】
これによれば、前記移動体モジュールを、二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、第２軸に平行な方向に移動させるので、移動体モジュールを、二次元平面内における回転方向及び第１軸に平行な方向への動きを規制して第２軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、転動部材の駆動（回転又は周回を伴なう）により移動体モジュールを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的に露光本体部に対する移動体モジュールの搬入、ひいては露光装置の製造の効率化、及び製造時間の短縮が可能になる。
【００１２】
本発明の第３の態様によれば、本発明の製造方法によって製造された露光装置を用いて感応物体を露光してパターンを形成することと；前記パターンが形成された感応物体を現像することと；を含むデバイス製造方法が、提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の露光装置の横断面図である。
【図３】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、浮上・昇降装置を示す斜視図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、浮上・昇降装置の作用を説明するための図である。
【図５】ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の手順を示すフローチャート（その１）である。
【図６】ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の手順を示すフローチャート（その２）である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の動作を説明するための図（その１）である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、ステージモジュールを露光装置本体から引き出す際の動作を説明するための図（その２）である。
【図９】ステージモジュールを露光装置本体に戻す際の手順を示すフローチャートである。
【図１０】図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）は、チャンバに戻されたステージモジュールをボディに対し位置決めする際の動作を説明するための図である。
【図１１】図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）は、カウンタマスモジュールを露光装置本体から外す際の動作を説明するための図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１１（Ｃ）に基づいて説明する。図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャナ）である。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１５】
露光装置１００は、例えば半導体工場等のクリーンルーム内に設置されている。露光装置１００は、床面Ｆ上に設置された露光装置本体１１０と、露光装置本体１１０を収容するエンバイロンメンタルチャンバ（以下、チャンバと略記する）とを備えている。チャンバ１５０は、複数枚のパネルの組み合わせ（又は複数枚のパネルとこれらが取り付けられるフレーム）とを備え、複数箇所に扉を兼ねる開閉パネルが設けられているが、以下では、＋Ｘ側のパネル１５０ａが開閉可能になっているものとする。
【００１６】
露光装置本体１１０は、光源及び照明光学系を含み、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージモジュール１２、投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、レチクルステージモジュール１２及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを含むウエハステージモジュール３０、ウエハステージモジュール３０のＸ軸方向の一側と他側とにそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂ、及びこれらの制御系等を備えている。
【００１７】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含む。照明系１０では、レチクルブラインドにより規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１８】
レチクルステージモジュール１２は、ボディＢＤの一部であるレチクルベース３６上に搭載されている。レチクルステージモジュール１２は、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルステージＲＳＴを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系（不図示）等を備えている。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系により、レチクルベース３６上を所定の走査方向（ここでは、図１における紙面直交方向であるＹ軸方向）に所定ストロークで駆動され、かつＸ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。
【００１９】
レチクルステージＲＳＴの位置は、不図示のレチクルレーザ干渉計によって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計の検出結果に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴを駆動（位置制御）する。
【００２０】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。投影ユニットＰＵは、ボディＢＤの一部を構成する後述する第１フレームに支持されたメトロロジーフレームと称される部材ＭＦに一体的に保持されている。より詳細には、メトロロジーフレームＭＦは、鏡筒定盤とも呼ばれ、そのほぼ中央部に不図示の円形開口が形成されている。円形開口（又はＵ字状の切り欠き）内に、投影ユニットＰＵが上方（又は紙面奥側）から挿入され、鏡筒４０の外周部に固定されたフランジＦＬＧを介して、メトロロジーフレームＭＦに支持されている。
【００２１】
これにより、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
ボディＢＤは、クリーンルームの床面Ｆ上に設置されたフレームキャスタＦＣ上に搭載された第１フレーム２３２と、第１フレーム２３２上に投影ユニットＰＵを取り囲む位置に、複数本、例えば３本の脚４１（但し、図１における紙面奥側の脚は図示省略）を介して搭載されたレチクルベース３６とを含む。すなわち、レチクルベース３６とこれを支持する３本の脚４１とによってコラム３４が構成されている。レチクルベース３６には、その中央部に照明光ＩＬの通路となる開口３６ａが形成されている。
【００２３】
フレームキャスタＦＣは、床面Ｆ上に水平に置かれたベースプレートＢＳと、該ベースプレートＢＳ上にＹ軸方向に離間して配置された一対の壁部３９Ａ、３９Ｂ（ただし、図１では、紙面奥側の壁部３９Ｂは不図示、図２参照）とを備えている。該一対の壁部３９Ａ、３９Ｂによって、第１フレーム２３２が下方から水平に支持されている。−Ｙ側の壁部３９Ａの＋Ｙ側の面には、後述する位置検出系３００に含まれる複数（例えば、５つ）の反射板３０２ａ〜３０２ｅが固定されている（図２参照）。
【００２４】
第１フレーム２３２は、ＸＹ平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第１フレーム２３２は、その中央部に矩形の段付きの開口部２３２ａを有しており、その開口部２３２ａ内にメトロロジーフレームＭＦが、上方から挿入され開口部２３２ａの段部上に載置されている。メトロロジーフレームＭＦは、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状（あるいは高さの低い箱形）の部材から成り、不図示の防振装置を介してＸＹ平面に平行な状態で第１フレーム２３２に対して固定されている。
【００２５】
なお、不図示ではあるが、投影ユニットＰＵの＋Ｙ側には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるＦＩＡ（Field Image Alignment）系から成るオフアクシス・アライメント系（以下、「アライメント系」と略述する）が設けられている。このアライメント系は、メトロロジーフレームＭＦの下面に吊り下げ状態で固定されている。アライメント系からの撮像信号は、不図示の制御装置に供給される。
【００２６】
図２には、ウエハステージモジュール３０及びカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂが示されている。図２及び図１に示されるように、ウエハステージモジュール３０は、平板（メンテプレート）ＭＰと、該平板ＭＰ上に搭載されたステージベース（ステージ定盤）７１と、該ステージベース７１の上面に沿って互いに独立して移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴと、を有している。
【００２７】
平板（メンテプレート）ＭＰは、その四隅部に対応して配置された４つの浮上・昇降装置１８（４つの浮上・昇降装置１８のうち、２つは図１に示される他の２つに対して紙面奥側に隠れている）を介してベースプレートＢＳ上で水平に支持されている。平板（メンテプレート）ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上には、図１等では図示が省略されているが、後述する複数枚の敷板が格納されている。
【００２８】
ここで、説明は前後するが、浮上・昇降装置１８について、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に基づいて説明する。
【００２９】
浮上・昇降装置１８は、図３（Ａ）に示されるように、エアスプリング装置２２Ａと、ホバー装置２２Ｂとを含む。エアスプリング装置２２Ａは、円板状の板状部材２４と、該板状部材２４の下側に設けられたエアマウント２６とを有し、板状部材２４の上面は、平板ＭＰの下面に固定されている（図４（Ａ）等参照）。エアマウント２６には、板状部材２４に設けられた第１の気体供給口２４ａを介して気体（例えば圧縮空気）を供給することが可能であり、エアマウント２６は、内部に充填された気体量（圧縮空気の圧力変化）に応じてＺ軸方向に所定のストローク（例えば、５０ｍｍ程度）で伸縮する。このため、ウエハステージモジュール３０では、複数の浮上・昇降装置１８それぞれが有するエアスプリング装置２２Ａ（エアマウント２６）を適宜用いて平板ＭＰを上下動させることにより、ステージベース７１上面のＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向それぞれの位置を任意に調整できるようになっている。エアマウント２６内の気圧（圧縮空気の量）は、露光装置１００のメインパネル（不図示）を操作することにより、又はレギュレータボックス（不図示）の手動コックを開閉することにより調整可能となっている。
【００３０】
ホバー装置２２Ｂは、図３（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６を下側から支持するベース２８と、ベース２８の下面（−Ｚ側の面）に設けられたエアホバー２９とを含む。エアホバー２９には、図３（Ａ）に示される板状部材２４に設けられた第２の気体供給口２４ｂ及び板状部材２４内に形成された管路２４ｃ並びに該管路２４ｃとベース２８とを連結する配管３１を介して、圧縮気体(例えば圧縮空気)を供給可能（ただし、上記エアマウント２６とは別系統）であり、該圧縮気体がエアホバー２９からベースプレートＢＳ上面（又は床面Ｆ）に噴出されると、その噴出力により、エアホバー２９とベースプレートＢＳ上面（又は床面Ｆ）との間に所定間隔が形成される（図４（Ｃ）参照）。これにより、ウエハステージモジュール３０全体を、床面Ｆ上に所定のクリアランス（例えば、１０ｍｍ程度）を介して浮上させることができる。エアホバー２９への圧縮気体の供給は、露光装置１００のメインパネル（不図示）を操作することにより、又はレギュレータボックス（不図示）の手動コックを開閉することにより行われる。
【００３１】
また、ベース２８の下面の四隅部それぞれには、平面視（−Ｚ方向から見て）三角形状のホバー接触防止部材３５が設けられている。このホバー接触防止部材３５の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）は、図４（Ａ）等に示されるように、エアホバー２９の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）よりも大きく設定されている。これにより、エアホバー２９から圧縮気体が噴出されない場合であっても、エアホバー２９の下面とベースプレートＢＳ上面とが非接触状態に維持される。
【００３２】
また、ベース２８の上面の四隅部それぞれには、柱部材３３が設けられている（図３（Ａ），図３（Ｂ）では奥側に位置する柱部材は不図示）。この柱部材３３は、図４（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６内の気体を減少させた際に、平板ＭＰの下面と接触して、エアマウント２６の代わりに平板ＭＰの自重を支持するものである。
【００３３】
上記のように構成される浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の状態、図４（Ｂ）の状態、図４（Ｃ）の状態の間で遷移するようになっている。以下、各状態について説明する。
【００３４】
図４（Ａ）の状態は、エアマウント２６に気体を充填し、かつエアホバー２９には圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ａ）の状態では、ホバー接触防止部材３５がベースプレートＢＳ上面に接触し（以下、この状態を「着地状態」と呼ぶ）、柱部材３３が平板ＭＰ下面に接触しない状態（以下、この状態を「上昇状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ａ）の状態を「第１状態」と呼ぶこととする。
【００３５】
また、図４（Ｂ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ（外部に排気し）、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ｂ）の状態では、ホバー接触防止部材３５が前記着地状態であり、柱部材３３が平板ＭＰに接触した状態（以下、この状態を「下降状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ｂ）の状態を「第２状態」と呼ぶこととする。
【００３６】
また、図４（Ｃ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給した状態である。この図４（Ｃ）の状態では、ホバー接触防止部材３５がベースプレートＢＳと非接触となっており（以下、この状態を「浮上状態」と呼ぶ）、柱部材３３が前記下降状態となっている。以下においては、図４（Ｃ）の状態を「第３状態」と呼ぶこととする。
【００３７】
なお、露光装置の稼働中（露光中など）においては、浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の第１の状態に維持されている。
【００３８】
平板ＭＰは、図２に示されるように、複数（例えば、３つ）の位置決め装置１６により、壁部３９Ａ、３９Ｂ及び第１フレーム２３２を含むボディＢＤに対して、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの各方向（６自由度方向）に関して位置決めされた状態となっている。これをさらに詳述すると、各位置決め装置１６は、図４（Ａ）に示されるように、平板ＭＰの上面に固定部材１５ａを介して固定された球座（半球状の突部）１６ａと、壁部３９Ａ、３９Ｂに一端が接続され他端が平板ＭＰの上方に位置し、下面に球座１６ａに対向して円錐凹部であるＶ溝１６ｂが形成されたＶブロック１５ｂとを含む。この場合、球座１６ａは、平板ＭＰの＋Ｙ側の端部にＸ軸方向に所定間隔で２つ、−Ｙ側の端部に１つ配置されており、各球座１６ａに対向する位置にＶ溝１６ｂが各１つ配置されている。従って、複数の浮上・昇降装置１８それぞれが上昇状態となっている平板ＭＰの壁部３９Ａ、３９Ｂに対する位置決め状態では、３つの球座１６ａのそれぞれが対向するＶ溝１６ｂと嵌合しており、これによってステージベース７１がメトロロジーフレームＭＦに対して６自由度方向に位置決めされている。ここで、Ｖ溝１６ｂをＸＹ平面内の所定方向に長い断面Ｖ字状のＶ溝としても良い。この場合、３つのＶブロック１５ｂのそれぞれで異なる方向に長いＶ溝を形成することが望ましい。
【００３９】
平板ＭＰには、図１に示されるように、駆動系２００が内蔵されている。駆動系２００は、駆動輪１６０、該駆動輪１６０にその中心を貫通する状態で固定されたＹ軸方向を長手方向とする駆動軸（回転軸）、該駆動軸の長手方向の両端を回転自在に支持する軸受部材、駆動輪１６０の駆動源であるモータ等、及び駆動軸に駆動源の駆動力を伝達するギヤ機構等の駆動力伝達部材等を含む。この場合、駆動輪１６０は、１つでも良いし、複数あっても良い。複数の駆動輪１６０は、同一の駆動軸の長手方向の複数箇所にそれぞれ設けられていても良い。あるいは、複数の駆動輪１６０がそれぞれ別の駆動軸を有していても良いが、この場合、それらの駆動軸が同軸であることが望ましい。複数の駆動輪１６０がそれぞれ別の駆動軸を有している場合、それぞれ別々の駆動源によって駆動されるようになっていても良いし、同一の駆動源によって駆動されるようになっていても良い。
【００４０】
いずれにしても、駆動輪１６０は、不図示の上下動装置（例えば、エアシリンダあるいはオイルシリンダ等を駆動源とする）により、平板ＭＰ内に格納される格納位置と、浮上・昇降装置１８が前述の第３状態（図４（Ｃ）参照）にあるときに、その周面がベースプレートＢＳの上面に当接する当接位置との間で昇降駆動される。駆動輪１６０の駆動源（モータ等）及び上下動装置は、不図示のリモコン装置（ティーチングペンダント）を介して作業者による操作が可能となっている。
【００４１】
また、平板ＭＰの上面の−Ｙ側の端部には、図２に示されるように、位置検出系３００に含まれる複数（例えば、４つ）のフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２、３０４ｂ、３０４ｃ及び複数（例えば、２つ）のセンサ対３０４ｄ、３０４ｅが固定されている。位置検出系３００については、後に詳述する。
【００４２】
この他、平板ＭＰには、その＋Ｘ側及び−Ｘ側の端面に、それぞれ複数の連結バー（不図示）が突設されている。
【００４３】
図１に戻り、ウエハステージモジュール３０の一部を構成するステージベース７１の＋Ｚ側の面（上面）は、その平面度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのガイド面とされている。
【００４４】
ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ウエハステージ本体９１、及びウエハテーブルＷＴＢを含む。ウエハステージ本体９１は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、その下面に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を複数ヶ所に有しており、その気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出する加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００４５】
ウエハステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８０が挿入されている。固定子８０は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、ウエハステージ本体９１は、Ｘ軸方向、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含むＸ軸可動子、及びＺ軸可動子（図示省略）を有している。ウエハステージ本体９１は、固定子８０とＸ軸可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８０に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。
【００４６】
Ｘ軸可動子は、Ｙ軸方向に離間して複数設けられ、その複数のＸ軸可動子と固定子８０とにより複数のＸ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＸ軸リニアモータにより、適宜θｚ方向に微少駆動される。また、Ｚ軸可動子は、複数（少なくとも３つ）設けられ、その複数のＺ軸可動子と固定子８０とにより複数のローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＺ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＺ軸リニアモータにより、適宜θｘ方向、及び／又はθｙ方向に微少駆動される。
【００４７】
固定子８０は、図１に示されるように、長手方向の一端及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受８８（例えば、エアベアリング）を有している。固定子８０は、気体静圧軸受８８からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００４８】
固定子８０の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８２，８３がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８２，８３は、ウエハステージモジュール３０の＋Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ａの一部を構成するＹ軸固定子８６、及びウエハステージモジュール３０の−Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ｂの一部を構成するＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸固定子８６，８７はその内部に複数のコイルを有し、Ｙ軸可動子８２、８３のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８２により、Ｙ軸可動子８２をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８３により、Ｙ軸可動子８３をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８２、８３と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８２、Ｙ軸リニアモータ８３と呼ぶものとする。
【００４９】
２つのＹ軸リニアモータ８２、８３が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８２，８３によって、固定子８０と一体的にウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８２、８３によって、Ｘ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８２，８３の駆動力を異ならせることによりθｚ方向に駆動される。
【００５０】
ウエハテーブルＷＴＢは、図２に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体９１上に搭載されている。ウエハテーブルＷＴＢの−Ｘ側及び−Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１７ｂ及び１７ａがそれぞれ形成されている。ウエハステージＷＳＴのＺ軸を除く少なくとも５自由度方向の位置は、反射面１７ｂ、１７ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含むウエハ干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。なお、干渉計システムに代えて、又は加えてエンコーダシステムによりウエハテーブルＷＴＢの位置を計測しても良い。
【００５１】
ウエハテーブルＷＴＢの上面には、図１に示されるように、ウエハＷを真空吸着（あるいは静電吸着）によって吸着保持するウエハホルダＷＨが取り付けられている。
【００５２】
計測ステージＭＳＴは、図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に配置されており、計測ステージ本体９２、及び計測テーブルＭＴＢを有している。計測ステージ本体９２は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、計測ステージ本体９２は、その底部に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有している。計測ステージＭＳＴは、気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１上に数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００５３】
計測ステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、例えばコイルユニットを含むＸ軸方向に延びる固定子８１が挿入されている。これに対し、計測ステージ本体９２は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット（図示省略）から成るＸ軸可動子を有している。計測ステージ本体９２は、固定子８１とＸ軸可動子とから成るローレンツ電磁力駆動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８１に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。以下では、適宜、このＸ軸リニアモータを、固定子８１と同一の符号を用いて、Ｘ軸リニアモータ８１と呼ぶ。
【００５４】
固定子８１の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８４，８５がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８４，８５は、カウンタマスモジュール３２Ａの一部を構成するＹ軸固定子８６、及びカウンタマスモジュール３２Ｂの一部を構成するＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸可動子８４、８５のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８４により、Ｙ軸可動子８４をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８５により、Ｙ軸可動子８５をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８４、８５と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８４、Ｙ軸リニアモータ８５と呼ぶものとする。なお、これまでに説明した各リニアモータとして、ムービングマグネット型に代えて、ムービングコイル型のリニアモータを用いても良い。
【００５５】
２つのＹ軸リニアモータ８４、８５が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８４，８５によって、固定子８１と一体的に計測ステージＭＳＴがＹ軸方向に駆動される。したがって、本実施形態では、計測ステージＭＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８４、８５及びＸ軸リニアモータ８１によって、Ｘ軸及びＹ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８４，８５の駆動力を異ならせることによりθｚ方向に駆動される。
【００５６】
さらに、図１では気体静圧軸受８８に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子８１の長手方向の一端及び他端の近傍の下面には、固定子８１をステージベース７１上で浮上させるための気体静圧軸受が取り付けられている。
【００５７】
計測テーブルＭＴＢは、図２に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体９２上に搭載されている。計測テーブルＭＴＢの−Ｘ側及び＋Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１９ｂ及び１９ａがそれぞれ形成されている。
【００５８】
計測ステージＭＳＴ（計測テーブルＭＴＢ）の少なくともＸ軸、Ｙ軸、及びθｚ方向の３由度方向の位置は、反射面１９ｂ、１９ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含む干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。
【００５９】
計測テーブルＭＴＢには、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、例えば、米国特許第５，２４３，１９５号明細書などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク領域や投影光学系ＰＬを介して照明光ＩＬを受光するセンサ（照度モニタ、照度むらセンサ、空間像計測器等）などが含まれている。
【００６０】
図１に戻り、一方のカウンタマスモジュール３２Ａは、前述したＹ軸固定子８６と、Ｙ軸固定子８６の底面に固定されたカウンタマス７５と、カウンタマス７５をＹ軸方向にスライド自在に支持するベース７３と、ベース７３をベースプレートＢＳ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。また、他方のカウンタマスモジュール３２Ｂは、前述したＹ軸固定子８７と、このＹ軸固定子８７の底面に固定されたカウンタマス７６と、このカウンタマス７６を浮上支持するベース７４と、ベース７４をベースプレートＢＳ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。
【００６１】
カウンタマス７５，７６は、略直方体状の重量物であり、その下面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びる凸部が形成されている。この凸部を規定する一対の傾斜面のそれぞれには、不図示の気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）が設けられている。
【００６２】
ベース７３，７４は、例えば略直方体状の形状を有し、その上面には、ＸＺ断面Ｖ字状でＹ軸方向に延びるＶ溝が形成されている。このＶ溝を規定する一対の傾斜面間には、カウンタマス７５，７６それぞれの凸部が挿入されている。カウンタマス７５，７６は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定のクリアランスを介してベース７３，７４上にて非接触支持されている。従って、ウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴのＹ軸方向への移動により生じる反力がＹ軸固定子８６，８７に作用した場合には、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６が、それぞれ一体となってＹ軸方向に沿って移動する。この場合、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６は、運動量保存則（作用反作用の法則）に従って移動するので、それらの移動により、上記反力がキャンセルされる。
【００６３】
ベース７３の−Ｘ端面、及びベース７４の＋Ｘ端面には、不図示ではあるが、平板ＭＰに設けられた連結バーが係合する凹部又は溝がそれぞれ形成されている。
【００６４】
浮上・昇降装置５８は、大きさが異なる点を除き、ウエハステージモジュール３０が有する前述した浮上・昇降装置１８と同様の構成、及び機能を有する。浮上・昇降装置５８は、ベース７３の下面に、Ｙ軸方向に所定間隔で２つ取り付けられている（図１では、一方の浮上・昇降装置５８は、他方の紙面奥側に隠れている）。従って、カウンタマスモジュール３２Ａは、浮上・昇降装置５８が有する不図示のエアマウントを用いてＹ軸固定子８６のＺ位置を調整すること、及び不図示のエアホバーを用いてベースプレートＢＳ上及び床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール３２Ｂは、図１に示されるように、露光装置１００を−Ｙ側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール３２Ａと同様に構成されているため、説明を省略する。
【００６５】
次に、位置検出系３００について説明する。位置検出系３００は、ボディＢＤに対するウエハステージモジュール３０又はウエハ側ステージモジュール（以下、ステージモジュールと略記する）ＷＳＭのＸ軸方向に関する位置情報を検出する。ここで、ステージモジュールＷＳＭとは、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂとが一体となった露光装置本体１１０のサブシステムを意味する。位置検出系３００は、原点位置検出部、速度制限位置検出部及び引出し位置検出部を含む。
【００６６】
原点位置検出部は、図２に示されるように、−Ｙ側の壁部３９Ａの＋Ｙ側の面のＸ軸方向中央に配置された反射板３０２ａと、それぞれが反射板３０２ａと同じ高さに、かつ互いにＸ軸方向に所定間隔で平板ＭＰ上に配置された一対のフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２とを含む。ここで、フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２としては、限定反射型光電センサが用いられている。ウエハステージモジュール３０が、原点位置（ボディＢＤに対する基準位置）にあるときは、両フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２が反射板３０２ａに対向しており、両センサはオン状態（光を検出している状態）にある。したがって、原点位置検出部は、ウエハステージモジュール３０又はステージモジュールＷＳＭの原点位置を検出できるとともに、ウエハステージモジュール３０又はステージモジュールＷＳＭが原点位置から＋Ｘ方向、−Ｘ方向のいずれに移動したかを検出できる。すなわち、両フォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２は、原点位置センサである。以下では、適宜、原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２とも表記する。
【００６７】
速度制限位置検出部は、ステージモジュールＷＳＭの後述する電動引出しの際に、ステージモジュールＷＳＭの速度制限位置の情報を検出する。速度制限位置検出部は、図２に示されるように、両原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２を挟むようにＸ軸方向に離間して配置された一対のフォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃと、壁部３９Ａのフォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃそれぞれと同じ高さ位置に配置され、Ｘ軸方向に延びる一対の反射板３０２ｂ、３０２ｃとを含む。一方の反射板３０２ｂは、ステージモジュールＷＳＭが原点位置にあるとき、壁部３９Ａの−Ｘ側の端面の近傍の位置からフォトセンサ３０４ｂの−Ｘ端面の位置まで（図２の矢印Ｐの範囲に亘って）延びている。他方の反射板３０２ｃは、ステージモジュールＷＳＭが原点位置にあるときに、フォトセンサ３０４ｃの＋Ｘ端面の位置から壁部３９Ａの＋Ｘ側の端部近傍の位置まで（図２の矢印Ｑの範囲に亘って）延びている。フォトセンサ３０４ｂ、３０４ｃとしては、限定反射型光電センサが用いられている。図２からもわかるように、反射板３０２ｃは、反射板３０２ｂの下方の位置に配置されており、これに対応してフォトセンサ３０４ｃは、フォトセンサ３０４ｂより低い位置に配置されている。従って、ステージモジュールＷＳＭがＸ軸方向へ移動しても、フォトセンサ３０４ｂは反射板３０２ｃに対向することがなく、フォトセンサ３０４ｃは反射板３０２ｄに対向することがない。
【００６８】
引出位置検出部は、ステージモジュールＷＳＭの後述する電動引出しの際に、ステージモジュールＷＳＭの引出位置の情報を検出する。
【００６９】
引出位置検出部は、平板ＭＰ上面の＋Ｘ側かつ−Ｙ側の角部、及び−Ｘ側かつ−Ｙ側の角部のそれぞれに配置されたセンサ対３０４ｄ、３０４ｅと、センサ対３０４ｄ、３０４ｅのそれぞれと同じ高さに配置された一対の反射板３０２ｄ、反射板３０２ｅとを含む。反射板３０２ｄは、反射板３０２ｂの−Ｘ側に配置され、反射板３０２ｅは、反射板３０２ｃの＋Ｘ側に配置されている。センサ対３０４ｄは、Ｘ軸方向に隣接して配置された一対のフォトセンサ３０４ｄ１、３０４ｄ２を有している。同様に、センサ対３０４ｅは、Ｘ軸方向に隣接して配置された一対のフォトセンサ３０４ｅ１、３０４ｅ２を有している。フォトセンサ３０４ｄ１、３０４ｄ２及びフォトセンサ３０４ｅ１、３０４ｅ２としては、回帰反射型の光電センサが用いられている。センサ対３０４ｄのうちの−Ｘ側のフォトセンサ３０４ｄ１及びセンサ対３０４ｅのうちの＋Ｘ側のフォトセンサ３０４ｅ１は、ステージモジュールＷＳＭの通常の引出位置を検出する。一方、センサ対３０４ｄのうちの＋Ｘ側のフォトセンサ３０４ｄ２及びセンサ対３０４ｅのうちの−Ｘ側のフォトセンサ３０４ｅ２は、ステージモジュールＷＳＭの引出限界位置を検出する。
【００７０】
反射板３０２ｄと反射板３０２ｅとは、異なる高さ位置に配置されており、これに対応してセンサ対３０４ｄ、３０４ｅは互いに異なる高さに配置されている。従って、ステージモジュールＷＳＭがＸ軸方向へ移動しても、センサ対３０４ｄは反射板３０２ｅに対向することがなく、センサ対３０４ｅは反射板３０２ｄに対向することがない。
【００７１】
位置検出系３００に備えられるフォトセンサ３０４ａ１、３０４ａ２、３０４ｂ、３０４ｃ、３０４ｄ１、３０４ｄ２、３０４ｅ１、３０４ｅ２それぞれの検出情報は、不図示のリモコン装置（ティーチングペンダント）に供給される。
【００７２】
次に、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）から外部へ引き出す手順を、図５及び図６のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、ステージモジュールＷＳＭの露光装置本体１１０からの引き出しは、複数の作業者の共同作業によるが、以下では、個々の作業者を区別することなく、単に作業者と呼ぶ。後述するステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す作業、カウンタマスモジュール３２Ａの外し、ドッキング等の説明においても同様である。
【００７３】
前述のように、露光装置の稼働中は、ウエハステージモジュール３０の浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）に示される第１の状態にあり、また、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂの浮上・昇降装置５８も同様の状態にあり、ステージモジュールＷＳＭは、全体として、図７（Ａ）に示される状態にある。なお、図７（Ａ）〜図７（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【００７４】
先ず、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しの前処理として、露光装置１００のメインパネル（不図示）からステージ降下開始を指示する。この指示を受け、露光装置１００の制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス（ＣＭ）７５、７６を、所定の位置（ホバー装置２２Ｂによる浮上時においてステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置）に移動させた後、ウエハステージＷＳＴ（及び計測ステージＭＳＴ）のサーボをオフにする（図５のステップＳ１、ステップＳ２）。サーボオフ後、制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を浮上させる各エアパッドへの空気供給を停止して、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を着地させる（ステップＳ３、図７（Ｂ）参照）。
【００７５】
次いで、作業者は、パネル１５０ａに設けられた覗き窓（不図示）を開いても良い。次に行われるウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下中の装置異常を監視するためである。
【００７６】
次に、制御装置は、作業者によるメインパネルを介した指示に応じ、各浮上・昇降装置１８（及び５８）のエアマウント２６内の気圧を下げて、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下を開始させる（ステップＳ４）。
【００７７】
次に、制御装置は、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下開始後、傾斜計（例えば、気泡式のものなどが用いられる）、及びタイマーなどのモニタを開始する。そして、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下開始から一定時間（例えば、３０秒）、ステージベース７１の傾きを監視する（ステップＳ５、Ｓ７）。そして、制御装置は、ステージベース７１の傾きが異常であることを検知した場合、例えば傾斜計の計測値が水平面に対し５°以上になった場合には、各エアマウント２６内の気圧を上げて（ステップＳ６ａ）、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６を上昇させた後、例えば「ステージ降下姿勢の異常を検知しました。チャンバを開けてステージの姿勢を確認して下さい。」とメインパネルの表示部に表示する（ステップＳ６ｂ）。この場合、作業者により、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の姿勢が確認された後、再度、ステージ降下が指示されることとなる。
【００７８】
一方、ステージベース７１の傾き異常を検出することなく一定時間（例えば、３０秒）が経過すると、各エアマウント２６の上側に設けられた板状部材２４のＺ位置を検出するフォトセンサ（不図示）、及び各エアマウント２６に設けられた圧力センサ（不図示）などの計測値に基づいて、全エアマウントの排気が終了したか否かを判断する（ステップＳ７）。そして、この判断が否定された場合には、制御装置は、例えば「ステージ降下が時間内に終了しませんでした。チャンバを開けてステージの状態を確認して下さい。」とメインパネルの表示部に表示する（ステップＳ８）。この場合、作業者により、ステージモジュールＷＳＭの状態が確認された後、再度、適切な指示が与えられることになる。
【００７９】
一方、制御装置は、全エアマウント２６の排気が一定時間内に終了したと判断した場合には、例えば、「ステージ降下完了」などをメインパネルの表示部に表示してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６の降下完了表示を行う（ステップＳ９）。
【００８０】
次に、作業者により、ステージモジュールＷＳＭを引き出す側のチャンバパネル、この場合パネル１５０ａが開けられ、平板ＭＰの下方から敷板１８０が引き出されてベースプレートＢＳの＋Ｘ側に敷設される（図７（Ｂ）参照）。
【００８１】
次いで、作業者により、カウンタマス７５、７６の位置が適正か否か（カウンタマス７５、７６が、ホバー装置２２Ｂによる浮上時においてステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置にあるか否か）が判断される（ステップＳ１０）。この判断は、目視によって行われる。
【００８２】
作業者は、カウンタマス７５、７６の位置が適正でないと判断した場合には、メインパネルからカウンタマス７５，７６に設けられたエアパッドの浮上を指示し（ステップＳ１１）、カウンタマス７５、７６の位置調整を手動で行った（ステップＳ１２）後、カウンタマス７５、７６に設けられたエアパッドを着地させる（ステップＳ１３）。その後、作業者が各エアホバー２９に空気を供給してステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ１４、図７（Ｃ）参照）。一方、作業者は、カウンタマス７５、７６の位置が適正であると判断した場合には、各エアホバー２９に空気を供給して全エアホバー２９によりステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ１４、図７（Ｃ）参照）。
【００８３】
次に、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しを電動又は手動のいずれにより行うのが妥当かを、安全性等を十分考慮して判断する（Ｓ１５）。作業者は、ステージモジュールＷＳＭの引き出しを電動により行うのが妥当であると判断した場合には、駆動系２００を操作するための図示しないリモコン装置（ティーチングペンダント）を、＋Ｘ側のベース７３に設け、駆動系２００に電気的に接続されたコネクタ部（不図示）に接続する。そして、作業者は、リモコン装置により、前述の上下動装置（例えば、エアシリンダなどを駆動源とする）を作動させて、駆動輪１６０を接地させる（ステップＳ１６、図８（Ａ）参照）。
【００８４】
次に、以下に詳述するようにして、作業者により、ステージモジュールＷＳＭの電動引き出しが行われる（ステップＳ１７）。
【００８５】
ステージモジュールＷＳＭは、当初、前述した原点位置にあり、図２に示される原点位置センサ３０４ａ１、３０４ａ２は、反射板３０２ａに対向しており、検出状態にある。作業者は、先ず、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭの駆動開始の際、駆動開始から所定時間（例えば、２秒間）の速度を目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）よりも低い速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に設定した後、駆動輪１６０を回転させてステージモジュールＷＳＭの＋Ｘ方向への移動を開始させる。これにより、ステージモジュールＷＳＭが低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）で＋Ｘ方向へ移動を開始し、間もなく、原点位置センサ３０４ａ１が反射板３０２ａに対向しなくなり非検出状態（オフ状態）になるとともに、フォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃに対向するようになって検出状態（オン状態）となる。その後、原点位置センサ３０４ａ２が反射板３０２ａに対向する位置から外れて非検出状態となる。作業者は、上記所定時間（例えば、２秒間）が経過したときに、すなわちフォトセンサ３０４ｃが検出状態となった直後に、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭを上記目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）まで加速する。そして、ステージモジュールＷＳＭが更に＋Ｘ方向へ移動し、フォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃの＋Ｘ端のＸ位置を通過したとき、すなわちフォトセンサ３０４ｃが反射板３０２ｃに対向しなくなって非検出状態となったとき、このときの非検出情報がリモコン装置の表示部に反映される。作業者は、このタイミングで、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭの速度を低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に切り替える。そして、フォトセンサ３０４ｅ１が反射板３０２ｅに対向したときに、フォトセンサ３０４ｅ１の検出情報がリモコン装置の表示部に反映されるので、このタイミングで、作業者は、リモコン装置を操作して、ステージモジュールＷＳＭを停止させる。このタイミングを逃した場合には、フォトセンサ３０４ｅ２が反射板３０２ｅに対向したときに、フォトセンサ３０４ｅ２の検出情報がリモコン装置の表示部に反映されるので、このときに、ステージモジュールＷＳＭを停止させても良い。結果的に、ステージモジュールＷＳＭは、＋Ｘ方向に所定距離（例えば、約１．１ｍ）移動した位置で停止し（図８（Ｂ）参照）、この位置がステージモジュールＷＳＭの引出位置となる。
【００８６】
この一方、作業者は、ステップＳ１５において、ステージモジュールＷＳＭを手動で引き出すことが妥当である判断した場合には、上記原点位置にあるステージモジュールＷＳＭを直接的に押し引きすることにより上記引出位置までゆっくり引き出す（ステップＳ１８）。この際、ステージモジュールＷＳＭに水平方向の慣性力が作用するので、安全性の観点から、特に、その動き出し時及び停止時にステージモジュールＷＳＭの速度を控えめにすることが望ましい。
【００８７】
ステージモジュールＷＳＭを引出位置まで引き出した後、各エアホバー２９への空気供給を停止して全エアホバー２９を着地させる（ステップＳ１９ａ、図８（Ｃ）参照）。これにより、ステージモジュールＷＳＭの手動による引き出し作業は終了する。一方、電動引き出しの場合は、各エアホバー２９への空気供給を停止して全てのホバー装置２２Ｂを着地させ（ステップＳ１９）、その後に、作業者は、リモコン装置により、上下動装置を駆動して、駆動輪１６０を格納する（ステップＳ２０、図８（Ｃ）参照）。
【００８８】
ここで、作業者がステージモジュールＷＳＭの各構成部のメンテナンス作業及び交換作業を行う。具体的には、ウエハステージＷＳＴ、ウエハステージＷＳＴの構成部材の清掃及び交換、ウエハホルダの清掃機のメンテナンス、ウエハの研削用砥石の交換、アライメント系（ＦＩＡ）のメンテナンス、交換等を行う。そして、これらのメンテナンス作業及び交換作業が終了したら、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す。
【００８９】
次に、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０（ボディＢＤの下方）に戻す手順を、図９のフローチャートを参照しつつ説明する。先ず、作業者は、各エアパッドに空気を供給してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、カウンタマス７５、７６を浮上させて、それぞれをホバー装置２２Ｂによる浮上時にステージモジュールＷＳＭ全体のバランスが良くなる位置に移動させる（ステップＳ３１）。次に、作業者は、各エアパッドへの空気供給を停止してウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、カウンタマス７５、７６を着地させる（ステップＳ３２）。その後、メインパネルから指示を与えて、各エアホバー２９へ空気を供給して全エアホバー２９によりステージモジュールＷＳＭを浮上させる（ステップＳ３３）。
【００９０】
ここで、作業者がステージモジュールＷＳＭの戻し方法を、上述した引出時と同様に、手動又は電動のいずれが妥当であるかを判断する（ステップＳ３４）。作業者は、電動により戻すことが妥当であると判断した場合には、リモコン装置により上下動装置を駆動して駆動輪１６０を接地させる（ステップＳ３５、図８（Ｂ）参照）。
【００９１】
次に、前述したステージモジュールＷＳＭの電動による引き出し方法とほぼ反対の手順で、作業者により、リモコン装置を用いてステージモジュールＷＳＭの電動による戻しが行われる（ステップＳ３６）。なお、詳細説明は省略するが、駆動輪１６０を回転させるモータは、速度が目標速度（例えば、５０ｍｍ／ｓ）から低速度（例えば、２０ｍｍ／ｓ）に切り替わった後、両原点位置検出センサ３０４ａ１、３０４ａ２がともに検出状態となった時点で停止する。これにより、ステージモジュールＷＳＭは、上記引出位置から−Ｘ方向に所定距離（例えば、約１．１ｍ）移動し、前述の原点位置で停止する（図１０（Ａ）参照）。なお、図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【００９２】
そして、作業者は、リモコン装置をコネクタから外し、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。
【００９３】
次いで、作業者は、メインパネルからステージ上昇開始を指示する。この指示を受け、露光装置１００の制御装置は、上下動装置を駆動して、駆動輪１６０を格納する（ステップＳ３７）。
【００９４】
次いで、制御装置は、各エアマウント２６への空気供給を開始した後、各エアマウント２６の内圧が第１の値（例えば、０．１７ＭＰａ）以上になるのを待つ（ステップＳ３９、Ｓ４０）。
【００９５】
この一方、ステップＳ３４において、作業者は、ステージモジュールＷＳＭを手動で戻すことが妥当であると判断した場合には、前述の引出位置にあるステージモジュールＷＳＭを直接的に押し引きすることにより上記原点位置まで戻す（ステップＳ３８）。この際、引出時と同様に、安全性に十分な注意を払うことが望ましい。また、作業者は、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。
【００９６】
次いで、作業者は、メインパネルからステージの上昇開始を指示する。この指示を受け制御装置は、各エアマウント２６への空気供給を開始した後、各エアマウント２６の内圧が第１の値（例えば、０．１７ＭＰａ）以上になるのを待つ（ステップＳ３９、Ｓ４０）。
【００９７】
そして、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴ、及びカウンタマス７５、７６が所定位置まで上昇すると、各位置決め部１６の作用により（球座１６ａがＶ溝１６ｂに嵌り込み）、その上昇が抑えられる（図１０（Ｂ）及び図４（Ａ）参照）。これにより、各エアマウント２６の内圧が第１の値以上になる。
【００９８】
そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第１の値以上になったことを確認すると、全てのホバー装置２２Ｂの降下を開始する（ステップ４１）。そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第２の値、すなわち設定値（例えば０．３Ｍｐａ）以上になるのを待つ。
【００９９】
各エアマウント２６の内圧が第２の値以上になるまでの間に、制御装置は、ホバー装置２２Ｂが降下した分、さらにエアマウント２６（エアスプリング装置２２Ａ）を伸ばすことで、ステージモジュールＷＳＭがボディＢＤに対し位置決めされた状態を維持したまま、全てのホバー装置２２Ｂの降下を終了させ、各エアホバー２９への空気供給を停止して、全てのホバー装置２２Ｂを着地させる（ステップＳ４２、図１０（Ｃ）参照）。
【０１００】
そして、制御装置は、各エアマウント２６の内圧が第２の値以上になると、各エアマウント２６への空気供給を停止する。これにより、ステージモジュールＷＳＭを戻す一連の処理が終了する。
【０１０１】
次に、カウンタマスモジュールの外し動作及びドッキング動作を含む、メンテナンス方法について、図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）を参照して説明する。なお、図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）において、ボディＢＤ、及び投影ユニットＰＵ等の図示は、省略されている。
【０１０２】
この場合、作業者により、カウンタマスモジュール３２Ａを引き出す側のチャンバパネル、この場合パネル１５０ａが開けられ、平板ＭＰの下方から敷板１８０が引き出されてベースプレートＢＳの＋Ｘ側に敷設され、カウンタマス７５、７６の位置が適正か否かが判断され、必要な場合に、カウンタマス７５、７６の位置調整が行われるまでの手順は、前述のステージモジュールＷＳＭの引き出しの場合と同様である。この状態で、先ず、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａとウエハステージモジュール３０とのロック装置（不図示）を解除した後、カウンタマスモジュール３２Ａのベース７３とウエハステージモジュール３０側とを接続する配管、配線等の切り離し、及び両者を電気的に接続するための電線の延長とその延長された電線８０を覆うための伸縮自在の増設カバー８１の取り付けなどの準備作業を行う。そして、作業者は、全エアホバー２９に空気を供給して浮上させる。図１１（Ａ）には、この全てのホバー装置２２Ｂが浮上した直後の状態が示されている。
【０１０３】
次に、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａを直接的に押し引きして＋Ｘ方向にゆっくり移動させる。カウンタマスモジュール３２Ａを＋Ｘ方向に移動させると、間もなく、前述した平板ＭＰに設けられた連結バーがベース７３の−Ｘ端面に形成された凹部又は溝から離脱される（カウンタマスモジュール３２Ａがウエハステージモジュール３０から分離する）が、作業者はそのままカウンタマスモジュール３２Ａを所定の引出位置まで移動させて、停止させる（図１１（Ｂ）参照）。なお、電線８０は、長めに設定されており、伸縮自在の増設カバー８１と共にカウンタマスモジュール３２Ａの移動に従って引き出される。
【０１０４】
カウンタマスモジュール３２Ａを上記引出位置に位置させた後、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａを浮上させるエアホバー２９への空気供給を停止してカウンタマスモジュール３２Ａを敷板１８０上に接地させる（図１１（Ｃ）参照）。その後、作業者は、カウンタマスモジュール３２Ａの各構成部材のメンテナンス及び交換作業を行う。
【０１０５】
上述のメンテナンス及び交換作業が終了すると、作業者は、エアホバー２９に空気を供給してカウンタマスモジュール３２Ａを浮上させ、作業者がカウンタマスモジュール３２Ａを−Ｘ方向にゆっくり移動させ、ウエハステージモジュール３０にドッキングさせる。具体的には、カウンタマスモジュール３２Ａをウエハステージモジュール３０に対して、連結バーとベース７３の−Ｘ端面に形成された凹部又は溝とが係合するように位置合わせした後、連結バーをベース７３の凹部又は溝に係合させることで両者をドッキングさせる。ドッキング後、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２ＡとのＺ軸方向の位置調整を行う。そして、上記ロック装置によりウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａとをロックして両者を固定する。その後、作業者は、全エアホバー２９に対する空気の供給を停止して、ステージモジュールＷＳＭを着地させた後、カウンタマスモジュール３２Ａのベース７３とウエハステージモジュール３０側とを配管、配線等で接続し、延長された電線８０及び増設カバー８１の取り外しを行う。そして、作業者は、敷板１８０を元の位置（平板ＭＰの下方のベースプレートＢＳ上）に戻し、チャンバ１５０の開閉パネル１５０ａを閉める。その後、ステージのリセットが行われる。
【０１０６】
本実施形態の露光装置１００では、通常のスキャニング・ステッパと同様の手順で、レチクルアライメント及びベースライン計測、並びにウエハアライメント等の準備作業が行われた後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。
【０１０７】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、ステージモジュールＷＳＭを、ホバー装置２２Ｂ（エアホバー２９）によって浮上させた状態で、かつＹ軸に平行な回転軸を有する駆動輪１６０を接地させてモータ等によって駆動することにより、ステージモジュールＷＳＭを、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。また、駆動輪１６０の回転駆動によりステージモジュールＷＳＭを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にメンテナンス時の作業性を向上させることが可能になる。
【０１０８】
また、ステージモジュールＷＳＭを、ホバー装置２２Ｂ（エアホバー２９）によって浮上させた後に、駆動輪１６０を接地させるので、上下動装置に過剰な負荷が掛かることが防止される。
【０１０９】
また、露光装置１００では、ステージモジュールＷＳＭが電動又は手動により引き出し可能なので、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０から引き出す際に、状況により電動又は手動のいずれかを選択できる。したがって、専ら安全性が重視される場合、人員が足りない場合等には電動を選択でき、一方、人員を多数配置する等して安全性が充分確保されている場合、駆動系２００が故障した場合等には手動を選択できる。
【０１１０】
また、ステージモジュールＷＳＭの移動開始時及び停止前に、その速度が低速度に切り替えられるので、駆動系２００に掛かる負荷が低減され、ひいては駆動系２００の故障等を防止できる。また、ステージモジュールＷＳＭを引き出す際の引出位置における位置制御性を向上させることができ、ステージモジュールＷＳＭを戻す際の原点位置における位置制御性を向上させることができる。
【０１１１】
また、上述のように、ステージモジュールＷＳＭの少なくとも一部をベースプレートＢＳに対して浮上した（非接触に維持した）状態で露光装置本体１１０から引き出すこととしているので、ステージモジュールＷＳＭを引き出すのに必要な力を極力小さくすることができる。これにより、電動引出しを選択した場合には駆動系２００に掛かる負荷を低減でき、手動引出しを選択し場合には作業者がステージモジュールＷＳＭを楽に移動させることができる。しかも、ベースプレートＢＳ、敷板１８０等に傷を付けることなくステージモジュールＷＳＭの少なくとも一部を露光装置本体１１０から引き出すことが可能である。
【０１１２】
また、ステージモジュールＷＳＭを露光装置本体１１０に戻す際にも、上述した引き出しの際と同様に、ステージモジュールＷＳＭを浮上させた状態で移動させるので、電動戻しを選択した場合には駆動系２００に掛かる負荷を低減でき、手動戻しを選択した場合には作業者がステージモジュールＷＳＭを楽に移動させることができる。しかも、ステージモジュールＷＳＭとの摩擦などによるベースプレートＢＳ、敷板１８０等の損傷を極力抑制することができる。
【０１１３】
また、本実施形態によると、カウンタマスモジュール３２Ａのみをメンテナンス又は交換したい場合に、カウンタマスモジュール３２Ａのみを引き出すことができるので、ステージモジュールＷＳＭ全体を移動させる場合に比べ、引出時、戻し時の作業性に優れる。また、カウンタマスモジュール３２Ａを単体でチャンバ１５０の外部に位置させることができるので、その各部のメンテナンス作業及び交換作業の作業性に優れる。
【０１１４】
なお、上記実施形態に係るモジュールユニットのメンテナンス方法は、一例であって、本発明に係るメンテナンス方法がこれに限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭの一部をチャンバ１５０の外部に位置させてメンテナンス等を行っているが、これに限らず、チャンバ１５０の外部にステージモジュールＷＳＭ全体を位置させるスペースがあれば、ステージモジュールＷＳＭ全体をチャンバ１５０の外部に位置させてメンテナンス等を行っても良い。
【０１１５】
また、上記実施形態では、カウンタマスモジュール３２ＡをボディＢＤに対し＋Ｘ方向に引き出してメンテナンス等を行っているが、これに加えて又はこれに代えて、カウンタマスモジュール３２ＢをボディＢＤに対し−Ｘ方向に引き出してメンテナンス等を行っても良い。カウンタマスモジュール３２Ｂの引出し方法及び戻し方法は、カウンタマスモジュール３２Ａの場合と同様である。
【０１１６】
また、上記実施形態では、カウンタマスモジュール３２Ａのみを引き出しているが、これに限らず、例えば、カウンタマスモジュール３２Ａを引き出した後、ウエハステージモジュール３０を引き出してその各構成部のメンテナンス及び交換等を行っても良い。
【０１１７】
また、上記実施形態では、平板ＭＰに上下動可能な駆動輪１６０を設けているが、これに限らず、例えば、それぞれＹ軸方向を軸方向とし、Ｘ軸方向に離間して配置された複数のローラと、これらのローラに巻き掛けられた無端ベルトとを含むベルト装置を、平板ＭＰに上下動可能に設けても良い。
【０１１８】
また、上記実施形態では、各フォトセンサ３０４ａ１〜３０４ｃ、各フォトセンサ対３０４ｄ、３０４ｅの検出情報を、リモコン装置のみならず、制御装置に供給して、駆動系２００を制御装置により制御するようにしても良い。
【０１１９】
また、上記実施形態では、フォトセンサ３０４ａ１〜３０４ｃ、３０４ｄ、３０４ｅが平板ＭＰに配置され、反射板３０２ａ〜３０２ｅが壁部３９Ａに配置されているが、反射板を平板ＭＰに配置し、フォトセンサを壁部に配置しても良い。フォトセンサ又は反射板を、壁部３９Ｂに配置し、反射板又はフォトセンサを、平板ＭＰの＋Ｙ側端部に配置しても良い。
【０１２０】
また、上記実施形態では、位置決め部として、球座とＶ溝の組み合わせの位置決め部を３つ用いた場合について説明したが、これに限らず、通常のキネマティック構造（点と、Ｖ溝と、面とで接触する構造）を採用することとしても良い。
【０１２１】
なお、上記実施形態では、位置決め部１６を構成する球座１６ａが平板ＭＰに設けられ、Ｖ溝１６ｂを有する部材が壁部３９Ａ、３９Ｂに設けられる場合について説明したが、これに限らず、球座が壁部３９Ａ、３９Ｂに設けられ、Ｖ溝を有する部材が平板ＭＰに設けられることとしても良い。また、平板ＭＰに代えて、ステージベース７１に球座又はＶ溝を有する部材を設けることとしても良いし、壁部３９Ａ、３９Ｂに代えて、第１コラム２３２に球座又はＶ溝を有する部材を設けることとしても良い。
【０１２２】
また、上記実施形態では、浮上・昇降装置１８が、エアスプリング装置とホバー装置とが一体化されている構成である場合について説明したが、これに限らず、エアスプリング装置とホバー装置とを別体で構成し、それぞれを平板ＭＰの下面に設けることとしても良い。
【０１２３】
また、上記実施形態では、エアスプリング装置及びホバー装置を採用したが、これに限らず、ウエハステージモジュール３０、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂの高さ方向の位置を調整することができる装置であれば、エアスプリング装置以外の装置を採用することとしても良いし、ウエハステージモジュール３０、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２ＢをベースプレートＢＳ上で浮上させることができる装置であれば、エアホバー以外の装置（例えば、気体静圧軸受など）を採用することとしても良い。
【０１２４】
また、上記実施形態では、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂとを別体とすることとしたが、これに限らず、ステージモジュールとカウンタマスモジュールを一体的に構成することとしても良い。
【０１２５】
なお、上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭの電動引出し用の駆動系２００を平板ＭＰに設けているが、これに限らず、駆動系２００を設けない構成（手動引出しに限る構成）も可能である。この場合、例えば、駆動輪１６０に代えて、Ｙ軸周りに回転自在な車輪を平板ＭＰに上下動可能に設けると良い。そして、車輪をベースプレートＢＳ及び敷板１８０に接地させた状態で、ステージモジュールＷＳＭを手動によりＸ軸方向に移動させることとすれば、ステージモジュールＷＳＭをボディＢＤに対し簡単に出し入れすることができる。
【０１２６】
上記実施形態では、ステージモジュールＷＳＭ又はカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂをメンテナンス等する場合について説明したが、上記実施形態で述べたステージモジュールＷＳＭをボディＢＤに戻す方法は、露光装置の製造工場及び／又は半導体工場などで露光装置を製造する際にも用いられる。
【０１２７】
例えば、上記実施形態の露光装置１００の露光装置本体１１０は、各構成要素を含む各種モジュール（サブシステム）、例えば照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、ウエハステージモジュール３０、ステージモジュールＷＳＭ、及びボディＢＤなどを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図１の照明系１０のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒４０及び投影光学系ＰＬを含む図１の投影ユニットＰＵのモジュールである。
【０１２８】
各種モジュールから露光装置への組み立て工程の一部に、ステージモジュールＷＳＭと、ボディとの組立工程がある。この組立工程において、前述したステップＳ３１〜ステップＳ４２の手順に従って、ボディＢＤの下方にステージモジュールＷＳＭを搬入後、両者がドッキングされる。各種モジュールから露光装置への組み立て工程には、各種モジュール相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種モジュールから露光装置への組み立て工程の前に、各モジュール個々の組み立て工程がある。例えば、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２ＢとからステージモジュールＷＳＭが組み立てられる。各種モジュールの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。
【０１２９】
従って、ここで説明した露光装置の製造方法によれば、ステージモジュールＷＳＭをボディＢＤとのドッキングのため外部からボディＢＤに向かって駆動する際に、前述と同様の理由により、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して移動させることが可能になる。また、駆動輪１６０の回転駆動によりステージモジュールＷＳＭを移動させるので、容易に移動させることが可能になり、結果的にボディＢＤに対するステージモジュールＷＳＭの搬入、ひいては露光装置の製造の効率化、及び製造時間の短縮が可能になる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われる。
【０１３０】
なお、カウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂを、ウエハステージモジュール３０と別のサブシステムとして、露光装置を組み立てることも考えられる。この場合、前述したカウンタマスモジュールの外し動作及びドッキング動作のところで説明したカウンタマスのドッキング動作時と同様にして、ウエハステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ，３２Ｂとをドッキングする工程を、各種モジュールから露光装置への組み立て工程の一部として実行すれば良い。
【０１３１】
なお、上記実施形態ではステージモジュールが、ウエハステージと計測ステージとを有する露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを有する露光装置にも本発明を適用することが可能である。また、単一のウエハステージを有するシングルステージタイプの露光装置に本発明を適用することも可能である。
【０１３２】
なお、上記実施形態では、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置の製造に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書、国際公開第２００４／０５５８０３号、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置の製造にも本発明を適用することができる。
【０１３３】
また、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示される、液浸露光装置の製造などにも、本発明を適用することができる。この場合、作業者は、ステージモジュールＷＳＭの各構成部のメンテナンス作業及び交換作業として、前述した作業に加え、例えばウエハテーブル上面の撥液プレート等の清掃及び交換、リニアエンコーダのヘッドの調整、液体供給ノズル及び液体回収ノズルの清掃及び交換等をも行うこととしても良い。
【０１３４】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これに限らず、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。また、上記実施形態では、スキャニング・ステッパの製造に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置の製造に本発明を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置の製造にも本発明は適用することができる。
【０１３５】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【０１３６】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１３７】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことは言うまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置にも本発明を好適に適用することができる。このほか、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。
【０１３８】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）を用いても良い。
【０１３９】
また、国際公開２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１４０】
さらに、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。
【０１４１】
また、物体上にパターンを形成する装置は、前述の露光装置（リソグラフィシステム）に限られず、例えばインクジェット方式にて物体上にパターンを形成する装置にも本発明を適用することができる。
【０１４２】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【０１４３】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄型磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【０１４４】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上述した本発明の製造方法の一実施形態に係る製造方法によって製造された上記実施形態の露光装置１００を用いて露光が行われ、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
以上説明したように、本発明の露光装置のメンテナンス方法及び露光装置の製造方法は、半導体素子又は液晶表示素子などを製造するリソグラフィ工程で用いられる種々の露光装置のメンテナンス及び製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイスの生産に適している。
【符号の説明】
【０１４６】
２２Ａ…エアスプリング装置、２２Ｂ…ホバー装置、２６…エアマウント、２９…エアホバー、３０…ウエハステージモジュール、３２Ａ，３２Ｂ…カウンタマスモジュール、７１…ステージベース、７３，７４…ベース、７５，７６…カウンタマス、１００…露光装置、１１０…露光装置本体、１６０…駆動輪、３０４ｂ，３０４ｃ…フォトセンサ、３０４ｄ１、３０４ｄ２、３０４ｅ１、３０４ｅ２…フォトセンサ、Ｗ…ウエハ、ＩＬ…照明光、ＷＳＭ…ステージモジュール、ＷＳＴ…ウエハステージ、Ｆ…床面。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置のメンテナンス方法であって、
露光本体部から取り外すため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置のメンテナンス方法。
【請求項２】
前記移動体モジュールは、前記移動体の前記水平面内の移動の際にその駆動力の反力を受けて移動するカウンタマスをさらに含み、
前記移動体及びカウンタマスを、前記移動体モジュールの浮上時のバランスを考慮して、前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記移動体モジュールの内部で前記二次元平面に平行に移動させることを含む請求項１に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項３】
前記移動体モジュールは、前記移動体及び前記カウンタマスそれぞれを支持する第１、第２の支持部材をさらに含み、
前記移動体、前記カウンタマス、及び前記第１、第２の支持部材を含む複数の部材を一体で降下させることをさらに含む請求項２に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項４】
前記複数の部材の降下中の傾きを監視することをさらに含む請求項３に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項５】
前記移動体モジュールは、前記第１、第２の支持部材を個別に支持するとともに、上下方向に伸縮する複数の空気ばね装置をさらに含み、
前記複数の部材の降下は、前記複数の空気ばね装置を縮めることで行われる請求項３又は４に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項６】
前記移動体及び前記カウンタマスは、前記第１、第２の支持部材に対して非接触支持されており、
前記降下させることに先立って、前記移動体及び前記カウンタマスをそれぞれ前記第１、第２の支持部材上に着地させることをさらに含む請求項３〜５のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項７】
前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記カウンタマスの位置が適正であるか否かを判断し、適正でない場合に、前記カウンタマスの位置を調整することをさらに含む請求項２〜６のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項８】
前記移動体モジュールは、エアホバー装置をさらに含み、
前記移動体モジュールを、床面上で浮上させた状態は、前記エアホバー装置による浮上力で実現される請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項９】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、前記転動部材による前記移動体モジュールの駆動速度が、駆動開始直後と駆動終了直前では、設定速度より低く切り替えられる請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１０】
前記駆動速度の切り替えは、フォトセンサのオンオフに応じて行われる請求項９に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１１】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、移動開始後リミットセンサが移動限界位置を検出するまで、前記移動体モジュールが前記第２軸に平行な方向に移動される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１２】
感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置の製造方法であって、
露光本体部に対して搬入するため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記移動体モジュールは、前記移動体の前記水平面内の移動の際にその駆動力の反力を受けて移動するカウンタマスをさらに含み、
前記移動体及びカウンタマスを、前記移動体モジュールの浮上時のバランスを考慮して、前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記移動体モジュールの内部で前記二次元平面に平行に移動させることを含む請求項１２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２軸に平行な方向に移動することを実行した後、
前記移動体モジュールを浮上させたまま、前記転動部材を前記床面から離間させて格納することをさらに含む請求項１２又は１３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１５】
前記移動体モジュールは、前記移動体及び前記カウンタマスそれぞれを支持する第１、第２の支持部材をさらに含み、
前記転動部材を前記床面から離間させて格納した後、前記移動体、前記カウンタマス、及び前記第１、第２の支持部材を含む複数の部材を一体で上昇させることをさらに含む請求項１４に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記移動体モジュールは、前記第１、第２の支持部材を個別に支持するとともに、上下方向に伸縮する複数の空気ばね装置をさらに含み、
前記複数の部材の上昇は、前記複数の空気ばね装置を伸ばすことで行われる請求項１５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記露光本体部は、前記移動体モジュールの前記第１の支持部材が、位置決め装置を介して位置決めされるボディを備え、
前記複数の部材が上昇し、前記第１の支持部材が、前記位置決め装置を介して前記ボディに位置決めされ、前記各空気ばね装置の内圧が第１の値以上に達するのを待つことを含む請求項１６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１８】
前記移動体モジュールは、エアホバー装置をさらに含み、
前記各空気ばね装置の内圧が第１の値以上に達すると、前記エアホバー装置の降下を開始し、前記各空気ばね装置の内圧が第２の値以上になるのを待つことをさらに含む請求項１７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１９】
前記エアホバー装置の降下を開始から前記空気ばね装置の内圧が第２の値以上になるまでの間、前記エアホバー装置が降下した分、さらに前記各空気ばね装置を伸ばすことで、前記第１の支持部材が、前記位置決め装置を介して前記ボディに位置決めされた状態を維持する請求項１８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２０】
前記各空気ばね装置の内圧が第２の値以上になると、前記エアホバー装置を着地させる請求項１９に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、前記転動部材による前記移動体モジュールの駆動速度が、駆動開始直後と駆動終了直前では、設定速度より低く切り替えられる請求項１２〜２０のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２２】
前記駆動速度の切り替えは、フォトセンサのオンオフに応じて行われる請求項２１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２３】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、移動開始後原点位置センサが原点を検出するまで、前記移動体モジュールが前記第２軸に平行な方向に移動される請求項１２〜２２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された露光装置を用いて感応物体を露光してパターンを形成することと；
前記パターンが形成された感応物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項１】
感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置のメンテナンス方法であって、
露光本体部から取り外すため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を前記床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置のメンテナンス方法。
【請求項２】
前記移動体モジュールは、前記移動体の前記水平面内の移動の際にその駆動力の反力を受けて移動するカウンタマスをさらに含み、
前記移動体及びカウンタマスを、前記移動体モジュールの浮上時のバランスを考慮して、前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記移動体モジュールの内部で前記二次元平面に平行に移動させることを含む請求項１に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項３】
前記移動体モジュールは、前記移動体及び前記カウンタマスそれぞれを支持する第１、第２の支持部材をさらに含み、
前記移動体、前記カウンタマス、及び前記第１、第２の支持部材を含む複数の部材を一体で降下させることをさらに含む請求項２に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項４】
前記複数の部材の降下中の傾きを監視することをさらに含む請求項３に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項５】
前記移動体モジュールは、前記第１、第２の支持部材を個別に支持するとともに、上下方向に伸縮する複数の空気ばね装置をさらに含み、
前記複数の部材の降下は、前記複数の空気ばね装置を縮めることで行われる請求項３又は４に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項６】
前記移動体及び前記カウンタマスは、前記第１、第２の支持部材に対して非接触支持されており、
前記降下させることに先立って、前記移動体及び前記カウンタマスをそれぞれ前記第１、第２の支持部材上に着地させることをさらに含む請求項３〜５のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項７】
前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記カウンタマスの位置が適正であるか否かを判断し、適正でない場合に、前記カウンタマスの位置を調整することをさらに含む請求項２〜６のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項８】
前記移動体モジュールは、エアホバー装置をさらに含み、
前記移動体モジュールを、床面上で浮上させた状態は、前記エアホバー装置による浮上力で実現される請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項９】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、前記転動部材による前記移動体モジュールの駆動速度が、駆動開始直後と駆動終了直前では、設定速度より低く切り替えられる請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１０】
前記駆動速度の切り替えは、フォトセンサのオンオフに応じて行われる請求項９に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１１】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、移動開始後リミットセンサが移動限界位置を検出するまで、前記移動体モジュールが前記第２軸に平行な方向に移動される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置のメンテナンス方法。
【請求項１２】
感応物体にエネルギビームを照射し、前記感応物体上にパターンを形成する露光装置の製造方法であって、
露光本体部に対して搬入するため、前記感応物体を保持する移動体を含む移動体モジュールを、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む二次元平面と平行な床面上で浮上させた状態で、かつ前記第１軸に平行な軸廻りに回転又は周回する転動部材を床面に当接させて駆動することにより、前記第２軸に平行な方向に移動させることを含む露光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記移動体モジュールは、前記移動体の前記水平面内の移動の際にその駆動力の反力を受けて移動するカウンタマスをさらに含み、
前記移動体及びカウンタマスを、前記移動体モジュールの浮上時のバランスを考慮して、前記第２軸に平行な方向に移動させることに先立って、前記移動体モジュールの内部で前記二次元平面に平行に移動させることを含む請求項１２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２軸に平行な方向に移動することを実行した後、
前記移動体モジュールを浮上させたまま、前記転動部材を前記床面から離間させて格納することをさらに含む請求項１２又は１３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１５】
前記移動体モジュールは、前記移動体及び前記カウンタマスそれぞれを支持する第１、第２の支持部材をさらに含み、
前記転動部材を前記床面から離間させて格納した後、前記移動体、前記カウンタマス、及び前記第１、第２の支持部材を含む複数の部材を一体で上昇させることをさらに含む請求項１４に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記移動体モジュールは、前記第１、第２の支持部材を個別に支持するとともに、上下方向に伸縮する複数の空気ばね装置をさらに含み、
前記複数の部材の上昇は、前記複数の空気ばね装置を伸ばすことで行われる請求項１５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記露光本体部は、前記移動体モジュールの前記第１の支持部材が、位置決め装置を介して位置決めされるボディを備え、
前記複数の部材が上昇し、前記第１の支持部材が、前記位置決め装置を介して前記ボディに位置決めされ、前記各空気ばね装置の内圧が第１の値以上に達するのを待つことを含む請求項１６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１８】
前記移動体モジュールは、エアホバー装置をさらに含み、
前記各空気ばね装置の内圧が第１の値以上に達すると、前記エアホバー装置の降下を開始し、前記各空気ばね装置の内圧が第２の値以上になるのを待つことをさらに含む請求項１７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１９】
前記エアホバー装置の降下を開始から前記空気ばね装置の内圧が第２の値以上になるまでの間、前記エアホバー装置が降下した分、さらに前記各空気ばね装置を伸ばすことで、前記第１の支持部材が、前記位置決め装置を介して前記ボディに位置決めされた状態を維持する請求項１８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２０】
前記各空気ばね装置の内圧が第２の値以上になると、前記エアホバー装置を着地させる請求項１９に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、前記転動部材による前記移動体モジュールの駆動速度が、駆動開始直後と駆動終了直前では、設定速度より低く切り替えられる請求項１２〜２０のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２２】
前記駆動速度の切り替えは、フォトセンサのオンオフに応じて行われる請求項２１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２３】
前記第２軸に平行な方向に移動させることでは、移動開始後原点位置センサが原点を検出するまで、前記移動体モジュールが前記第２軸に平行な方向に移動される請求項１２〜２２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項１２〜２３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された露光装置を用いて感応物体を露光してパターンを形成することと；
前記パターンが形成された感応物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１１−１６５９９０（Ｐ２０１１−１６５９９０Ａ）
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８３９９（Ｐ２０１０−２８３９９）
【出願日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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