【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】Ｘ方向（又はＹ方向）へ移動する第１のステージ（１４）、第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージ（１６）、及び第２のステージに搭載されθ方向へ回転する第３のステージ（１７）を有する移動ステージにチャック（１０ａ，１０ｂ）を搭載する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージ（１６）に取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ（１７）によりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、対象ワークの位置姿勢制御を極めて高い精度で行うことができる載置ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ３０である。基準平面に対して固定的に設けられたベース部材３１と、基準平面に沿う第１方向（Ｙ軸方向）に移動可能にベース部材３１上に設けられた第１駆動機構（３２）と、第１駆動機構により支持される第１スライダ（３３）と、基準平面に沿いかつ第１方向に対して傾斜する第２方向（Ｘ軸方向）に移動可能に、第１スライダ上で第１方向に間隔を置いて対を為して設けられた２つの第２駆動機構（３４）と、各第２駆動機構により個別に支持される２つの第２スライダ（３５）と、対象ワーク２２を載置すべく両第２スライダを第１方向に架け渡して基準平面に沿って設けられた平面調整板（３６）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成かつ小型化を実現し、オペレータの手作業による位置決め調整を容易にする。
【解決手段】ステージ装置１は、回転ベース１０、Ｙベース２０、Ｘベース３０、Ｚ／チルトベース４０及びユニットベース５０が積層して構成される。回転方向の位置決めは、Ｙベース２０のスタンドピン２９を用いて、回転用調整器具１００により行う。Ｙ方向の位置決めは、Ｙベース２０のＹカムフォロア（ナット）２３及びＸベース３０のＹカムフォロア３２を用いて、Ｙ軸調整器具２００によりＹカムフォロア３２をＹガイド穴３３内に移動させることで行う。Ｘ方向の位置決めは、Ｘベース３０のＸカムフォロア（ナット）３４及びＺ／チルトベース４０のＸカムフォロア４２を用いて、Ｘ軸調整器具３００によりＸカムフォロア４２をＸガイド穴４３内に移動させることで行う。Ｚ／チルト方向の位置決めは、Ｚ／チルトベース４０のＺ／チルト調整ネジ４５により行う。 （もっと読む）

【課題】マスクステージの回転中心の座標を精度良く求め、これによりマスクと基板との位置決めを高精度で行うことができるマスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法を提供する。
【解決手段】位置決め装置７０は、回転機構１６ｘを具備するマスクステージ１０と、マスクＭ及び基板Ｗに設けられた複数のアライメントマークＭｍ、Ｗｍを検知するための複数のアライメントカメラ１８と、アライメントカメラ１８により得られた画像を用いて各アライメントマークＭｍ、Ｗｍの位置が合うようにマスクステージ１０の動作を制御する制御装置７１と、を備える。アライメントカメラ１８は、各アライメントカメラ１８にそれぞれ対応するアライメントマークＭｍ、Ｗｍを撮像し、マスクステージ１０を回転させた後、各アライメントマークＭｍ、Ｗｍを再度撮影して、マスクステージ１０の回転中心Ｅの座標を算出する。 （もっと読む）

【課題】装置の高さが大きくなるのを抑制するとともに、装置全体の小型化を図ることが可能なθＺ駆動装置を提供する。
【解決手段】このθＺステージユニット１１０（θＺ駆動装置）は、ベース部１０と、ベース部１０に対して上下方向であるＺ方向およびＺ方向を回転中心線とするθ方向に駆動されるステージ２０と、ベース部１０に対してステージ２０を少なくともＺ方向に駆動する第１モータ３０と、少なくともステージ２０の重量を補償する重量補償部４０とを備え、第１モータ３０および重量補償部４０は、水平方向に間隔を隔てて配置されるとともに、上下方向の配置高さ範囲の少なくとも一部が互いに重なるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置などで使用される基板を位置決めするθＺ駆動装置を小型にすることを課題とする。
【解決手段】ベース６に立設する円筒状のフレーム１７と、フレーム１７の内面に設けられてテーブル１をＺ方向とθ方向に駆動するθＺアクチュエータ１５と、テーブル１がＺ方向へ昇降可能となるよう支持する昇降支持部７と、テーブル１がθ方向へ回転可能となるよう支持する回転支持部４と、テーブル１の昇降位置および回転位置を取得するための位置検出部３１と、を備え、昇降支持部７と回転支持部４と位置検出部３１のすべてが、θＺアクチュエータ１５の内側にあって、かつθＺアクチュエータ１５のＺ方向の高さにほぼ収まるよう配置されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】スループットの増加が可能なインプリントリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置が開示される。この装置は、インプリントテンプレートアレンジメントを移動させるように構成された電磁ローレンツアクチュエータを含み、電磁ローレンツアクチュエータは、磁石アレイおよび導体アレイを含み、各導体は電流を搬送するように構成され、磁石アレイまたは導体アレイのうちの一方は、移動可能であり、かつインプリントテンプレートアレンジメントに接続され、磁石アレイまたは導体アレイのうちの他方は、少なくとも部分的に基板ホルダの周りに延在するか、または基板ホルダの一部を形成し、磁石アレイと導体アレイとは、合わせて、磁石アレイまたは導体アレイのうち移動可能な一方の６自由度方向の移動であって、インプリントテンプレートアレンジメントもまた６自由度方向に移動可能とする移動を容易にする。 （もっと読む）

【課題】高スループッドで高精度の検査を行う。
【解決手段】表面にレジスト膜が形成されたウェハのエッジ周辺に照明光を照射してその反射光を撮影し、エッジ周辺の明視野画像を取得する明視野画像取得工程Ｓ１と、ウェハのエッジ周辺に照明光を２つの光路に分けて照射してウェハ表面からの反射光とレジスト膜からの反射光とが合成された干渉光を撮影し、エッジ周辺の微分干渉画像を取得する微分干渉画像取得工程Ｓ２と、明視野画像に基づいてウェハ境界位置を検出するエッジ位置検出工程Ｓ１１と、微分干渉画像に基づいてＥＢＲ境界位置Ｅを検出する境界位置検出工程Ｓ１２と、ウェハ境界位置からＥＢＲ境界位置までの距離を判定する判定工程Ｓ１３とを備える基板検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果と、レーザ干渉計を用いてアーム部材７１の変動を計測する第２計測系の計測結果と、に基づいて移動体が駆動される。この場合、駆動系は、第１計測系の計測結果に含まれるアーム部材の変動に起因する計測誤差を、第２計測系の計測結果を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】 可動オブジェクトの制御位置の位置量を制御する制御システムを提供する。
【解決手段】 制御システムは、別のオブジェクトに対して２以上の自由度で可動オブジェクトの制御位置を位置決めするように構成される。制御システムは、設定値発生器と、位置量測定システムと、それぞれが誤差信号に基づいて論理座標における制御信号を供給する単一入力単一出力コントローラを各自由度について含み、制御位置の位置量を制御するコントローラと、制御信号に基づいて重心座標で重心制御信号を供給するためのゲインスケジューリングデバイスであって、可動オブジェクトの論理座標と重心座標との静的関係および動的関係を有するゲインスケジューリングデバイスとを含む。 （もっと読む）

【課題】高加速化を実現しつつ、小型化、軽量化をも体現したステージ装置を提供する。
【解決手段】第１可動部３２と第２可動部３３とを含み、定盤３０に対して移動するステージと、第１可動部３２に対して第２可動部３３を位置決めする第１アクチュエータ３７と、第１可動部３２に対して第２可動部３３の加減速をする第２アクチュエータとを備えたステージ装置であって、第２アクチュエータは、第２可動部３３に第１軸に平行な方向へ力を与える電磁石と、前記第１軸に平行しない第２軸に平行な方向へ力を与える電磁石とを含む複数の電磁石４０ａ〜４０ｄで構成され、該複数の電磁石４０ａ〜４０ｄは、該各電磁石の発生する力の力線４２が、第２可動部３３の重心４１からオフセットし、かつ、力線４２がそれぞれ複数個所で交差するように配置される。 （もっと読む）

【課題】大型の被駆動体を搭載可能で安定した動作が可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】被駆動体を駆動するステージ装置は、スライダー３と、Ｚ軸方向に平行な表面２ａを有するガイド２と、ガイド２の表面２ａに対するＺ軸方向の移動を容易にする静圧軸受としての軸受１２と、ガイド２とは反対側の外面１１ｂから突出して球面又は円筒面の一部を構成する表面１４ａを有する突起１４と、を有する軸受部１０と、突起１４の表面１４ａに対するＸＹＺのいずれかの軸周りの回転方向の移動を容易にする軸受２２を有してスライダー３に固定される軸受部２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
基台とステージの積み重ね方向における厚みを薄くして小型化を図ることが可能なチルトステージを提供する。
【解決手段】
第一プレートと、この第一プレート上に設けられた第一、第二及び第三の支持ユニットと、これら支持ユニットによって傾動自在に支持された第二プレートとから構成されており、前記三基の支持ユニットは第一プレート上の仮想点の周囲に配置され、各支持ユニットは、前記仮想点を通過する前記第一プレートの法線に対して放射状に設けられると共に当該法線に対して所定角度で傾斜した方向に沿って案内経路を有する第一案内手段と、この第一案内手段に案内されると共に当該第一案内手段の案内方向と直交する方向に沿って案内経路を有する第二案内手段と、この第二案内手段に案内されると共に当該第二案内手段に対して前記第二プレートを傾動自在に連結する球面軸受とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板載置部を備えた基板保持部材に基板を載置して吸着保持するにあたって、基板との摺動による基板載置部の劣化を抑えることのできる基板保持部材を提供すること。また、基板載置部上の基板の表面に対して上方側から処理液を供給して液処理を行う場合には、処理液による基板載置部の劣化を抑えること。
【解決手段】テーブル１１を構成する樹脂内にその端部がテーブル１１の表面から外側に突き出るように成形されたカーボンファイバー２４が埋設されるように、少なくともウェハＷを吸着保持する保持面を覆うようにダイヤモンドライクカーボン膜２５を成膜する。また、テーブル１１上に吸着保持したウェハＷの表面に処理液を供給して液処理を行う場合には、ウェハＷの表面と連通するテーブル１１の側周面及び裏面にフッ素を含むダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】一層の小型化が可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置１は、定盤２上を移動するＹ軸移動体４と、Ｙ軸移動体４を駆動するＹ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂと、Ｙ軸移動体を定盤２上で支持する転がりガイド１１及びＹ軸リフトエアパッド１２と、を備えている。Ｙ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂは、定盤２の盤面２ａと間に空間Ａ１，Ａ２が形成されるように定盤２にそれぞれ固定されたＹ軸シャフト部２１Ａ，２１Ｂと、Ｙ軸移動体４にそれぞれ固定されたＹ軸コイル部２２Ａ，２２Ｂと、を有している。このステージ装置１においては、かかる空間Ａ１，Ａ２に、転がりガイド１１及びＹ軸リフトエアパッド１２の少なくとも一部が入り込んでいることから、Ｙ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂを備えたことによる空間構成が好適なものとなり、フットプリントを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｙ軸移動体のヨーイング角度を所望に制御し、且つＸ軸移動体の走り精度を高める。
【解決手段】ＸＹステージ装置１は、定盤２上でＸ軸方向移動するＸ軸移動体３、定盤上でＹ軸方向移動すると共にＸ軸移動体３のＸ軸方向移動をガイドするＹ軸移動体４、Ｙ軸移動体４をＹ軸方向駆動するシャフトモータ１４Ａ，１４Ｂ、Ｙ軸移動体４のヨーイング角度を検出するリニアスケール１６Ａ，１６Ｂ、を備えている。ＸＹステージ装置１では、シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂの駆動がヨーイング角度に基づきコントローラ１７によって制御されるため、ヨーイング角度に応じてシャフトモータ１４Ａ，１４Ｂのそれぞれを適宜制御できる。また、転がりガイド１１でＹ軸移動体４のＸ軸方向一端部が支持され、リフトエアパッド１２でＹ軸移動体４のＸ軸方向他端部が支持されるため、Ｙ軸移動体４がＸ軸方向に完全拘束されない。 （もっと読む）

【課題】重ね合わせ補正時に生じる極めて微小な誤差を明確化し、この誤差を修正したより正確な重ね合わせ補正を可能として、半導体装置に対する更なる微細化及び高集積化の要請に十分に応え、信頼性の高い電子デバイスを実現する。
【解決手段】回転シフトの補正時に微小な並進シフトが生じることを見出し、この並進シフト成分を加味して回転シフトの補正を行う。即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルを基板の無駄を少なく生産する。
【解決手段】 液晶基板を自在に回転させる回転駆動手段とマスクを自在にマスキングする遮光板を設けることで、該載置手段を回転させ、マスクに配置された液晶パネルの全部または一部を露光することにより、液晶パネルを形成する。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
回転する定盤ＲＢ_１を回転駆動しつつ、回転している定盤ＲＢ_１上でレチクルＲ_１１，Ｒ_１２，Ｒ_１３のそれぞれを保持するステージを駆動することにより、これらのステージを走査方向に延びる直線経路Ｐ_１１−Ｐ_１２に沿って、交互に且つ繰り返し、等速度で駆動するステージ駆動系２２_１を露光装置に搭載する。ステージ駆動系２２_１を用いて、複数のステージを走査方向に交互に駆動すると同時に、ウエハを保持するステージを走査方向に駆動することにより、ステージがそれぞれ保持するレチクルに形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。それにより、露光工程に要する時間の短縮、すなわちスループットの向上が可能となる。 （もっと読む）