【課題】被露光部材の焦点方向の位置情報を高精度に検出できる露光装置を提供する。
【解決手段】パターンを形成するパターン形成部を照明光で照明する照明部と、パターンが転写される被露光部材Ｐを載置面で載置させる載置部２１と、載置部に載置された被露光部材に、照明光で照明されたパターンの像を投影する投影部３と、投影部を介して照明光とは異なる波長の第２照明光ＳＬで載置部に載置された被露光部材を照明して、被露光部材の位置情報を計測する計測装置４と、載置部に設けられ、被露光部材を透過した第２照明光の計測装置への反射を規制する反射規制部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の各モジュールのデータを効率よく取得すると共に精度高い検査を行うこと。
【解決手段】
モジュールの情報を収集するためのセンサ部と、前記センサ部に電力を供給するための受電用コイルとを備えたセンサ用基板を前記保持部材に保持する工程と、次いで前記保持部材を前進させて前記センサ用基板を前記モジュールに受け渡す工程と、記基台と共に移動する送電用コイルに電力を供給して磁界を形成すると共に、この磁界中で当該送電用コイルと前記受電用コイルとを共鳴させ、前記送電用コイルから前記受電用コイルに電力を供給する工程と、前記センサ部によりモジュールに関するデータを取得する工程と、を含む基板処理装置のデータ取得方法を実行する。 （もっと読む）

【課題】パターンを正確に位置合わせする。
【解決手段】ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。これにより、レチクルの熱変形に起因する補正誤差に影響を受けることなく、目標パターンをウエハ上のターゲット層に正確に位置合わせすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】検出対象面の光学特性に依らずに検出対象面を検出可能にする。
【解決手段】本発明の表面検出装置９は、流体Ｇの吹出口２４を有する第１部材２０と、第１部材２０と検出対象面との間に配置され、吹出口２４からの流体Ｇの少なくとも一部が流入する流入口２７、及び流入口２７を通った流体Ｇが検出対象面に向けて流出する流出口２８を有する第２部材２１と、流出口２８から流出する流体Ｇの流れ方向における第２部材２１の位置を検出する検出部２３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子ユニットと可動子ユニットとの間の距離の変化を検知可能な移動体装置、この移動体装置を備える露光装置、及びこの露光装置を利用してデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体装置は、第１の方向に沿って設けられた固定体部と、第１の方向に沿って固体体部に対して相対移動可能に固定体部に対向して配置された移動体部と、第１の方向に沿って固定体部に配列された複数の第１ユニット、および複数の第１ユニットに対向するように移動体部に設けられた第２ユニットを有し、第１ユニットと第２ユニットとの間に相互に作用させる電磁力によって移動体部を相対移動させるリニアモータと、第１ユニットと第２ユニットとの間に張設された線状部材と、線状部材の動きを検出し、線状部材の動きの検出結果に基づいて第１ユニットと第２ユニットとの間の距離の変化を検知する検知部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子ユニットと可動子ユニットとの間の距離の変化を検知可能な移動体装置、この移動体装置を備える露光装置、及びこの露光装置を利用してデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体装置は、第１の方向に沿って設けられた固定体部と、第１の方向に沿って固体体部に対し相対移動可能に固定体部に対向配置された移動体部と、第１の方向に沿って固定体部に配列された複数の第１ユニット、および複数の第１ユニットに対向するように移動体部に設けられた第２ユニットを有し、第１ユニットと第２ユニットとの間に相互に作用させる電磁力によって移動体部を相対移動させるリニアモータと、第２ユニットに対し第１ユニット側へ突出するように移動体部に設けられた接触子を有し、接触子の端部と第１ユニットとの接触状態に基づいて第１ユニットと第２ユニットとの間の距離の変化を検知する検知部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板ステージに対する可変成形マスクの相対位置を高精度に計測できる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、照明光ＩＬｉの状態を空間的に個別に変調する複数のマイクロミラー素子２１を有し、マイクロミラー素子２１を照明光ＩＬｉの入射位置に２次元的に配置して照明光ＩＬｉを変調する可変成形マスク２０と、所定の走査方向に移動する基板ステージ１０と、可変成形マスク２０によって変調された照明光ＩＬｉを基板ステージ１０に載置された基板へ導いて、基板上に光パターンを投影する投影光学系ＰＬと、基板ステージ１０の位置を検出する第１レーザー干渉計３１の少なくとも一部が設けられて、基板ステージ１０の位置の基準となるメトロロジーフレームと、メトロロジーフレームに設けられて、可変成形マスク２０との相対位置を検出するマスク位置計測部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】所望寸法のパターンを基板上に形成できる露光補正量決定方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、露光補正量決定方法が、補正時寸法算出ステップと、露光補正量決定ステップと、を含んでいる。補正時寸法算出ステップでは、露光ショット内に配置されている少なくとも２種類以上のパターンピッチを有したマスクパターンを複数種類の露光補正量を用いて前記露光補正量毎に基板上に転写した場合に、前記露光補正量毎に前記基板上に形成される基板上パターンの理想値からの各寸法ずれ量を、前記露光ショット内でのショット内分布として算出する。また、露光補正量決定ステップでは、前記各寸法ずれ量に基づいて、前記露光ショットに適用する露光補正量のショット内分布を決定する。 （もっと読む）

【課題】周辺露光処理後の基板の検査を行う基板処理において、当該基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置４２は、周辺露光処理を行う周辺露光室１１１、１１２と、周辺露光処理後のウェハＷの欠陥を検査する検査室１１３と、ウェハＷを鉛直方向に搬送する搬送アーム１３０を備えた搬送室１１４とを有している。周辺露光室１１１、１１２は、ウェハＷを保持する第１の保持部１４０と、搬送室１１４との間で第１の保持部１４０を移動させる駆動部１４２と、ウェハＷの周縁部を露光する露光部１５０と、ウェハＷの周縁部の位置を検出する位置検出センサ１５２とを有している。検査室１１３は、ウェハＷを保持する第２の保持部１６０と、搬送室１１４との間で第２の保持部１６０を移動させる駆動部１６２と、ウェハＷを撮像する撮像部１７０とを有している。 （もっと読む）

【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】内部導体パターンを精度よく形成することのできる多層構造の電子部品の製造装置及び製造方法を得る。
【解決手段】ステージ１０上に保持されたマザー基板１にマスクを掛け、マザー基板１上に設けた感光性ペーストを該マスクを介して露光する電子部品の製造装置。この製造装置は、吸引ポンプ１３を動作させることでマザー基板１を気密に保持する縁部を有する開口部１１を形成したステージ１０と、開口部１１に負圧又は正圧を作用させる内圧調整ポンプ１５と、ステージ１０に保持されたマザー基板１に対して開口部１１側から押上げ力を作用させる押上げ手段２０と、を備えている。開口部１１に負圧又は正圧を作用させること、及び、押上げ手段２０にてマザー基板１を押し上げることにより、マザー基板１の反りを矯正する。 （もっと読む）

【課題】 描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベースプレート２４の主走査方向の位置情報を検出するための移動位置検出手段７０と、主走査方向に移動するベースプレート２４が所定の位置を通過したことを検出するための通過検出手段４０が配設されている。通過検出手段４０で検出される通過位置情報と、通過検出手段４０でベースプレート２４が特定の位置を通過したことが検出された時に移動位置検出手段７０で検出される測定位置情報とから、移動位置検出手段７０の検出に係る位置情報の遅れを補正するための補正量を算出し、補正量と測定位置情報とからベースプレート２４の修正位置情報を算出し、修正位置情報に基づいて描画手段３０の描画タイミングの動作を制御し、高精度にパターンを描画することができる。 （もっと読む）

【課題】スループットにほとんど影響を及ぼすことなく、所期の転写パターン形成精度を維持すること。
【解決手段】マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して前記基板に前記パターンの転写パターンを形成する露光方法であって、前記転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスクの伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて前記露光光像を調整する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置に起因する像の横ずれがあっても、実際に露光を行った場合に所望の像が得られる露光条件またはマスクパターンを決定する。
【解決手段】 露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、露光装置は光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える。該方法は、露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて投影光学系の物体面にあるパターンの像を計算し、該計算結果に基づいて、露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する。 （もっと読む）

【課題】センサの読み取りにおける誤差の可能性を少なくとも低減する装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、該基板テーブルは、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある１つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位量を簡易な構成で計測することができる変位センサ、駆動装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の変位量を計測可能に構成され、圧電部材５３に対する電圧の印加に伴って、圧電部材５３から駆動力が伝達されて凹面鏡４１に対して接触する接触位置まで変位する接触部材５８と、接触部材５８の変位量を計測する受光素子６２と、受光素子６２の計測結果に基づき、接触部材５８が接触位置まで変位したか否かを判別すると共に、接触部材５８が接触位置まで変位した旨を判別した時点での接触部材５８の位置を、凹面鏡４１の変位量を計測する際の基準となるスケール６０の原点として設定する制御装置６４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】位置センサを用いた移動部材の移動情報の検出精度を向上させることができる移動情報検出方法、移動情報検出プログラム、計測装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】ステップＳ１１では、レンズをＺ軸方向及びθｘ方向に移動させると共に、複数の位置で位置センサを用いてレンズのＹ軸移動量ｄを検出させ、さらに、Ｙ軸移動量ｄを検出したときのレンズのＺ軸方向に関する位置及び傾斜角を検出させる。そして、ステップＳ１２，１３では、位置センサのスケールの傾き角度θを算出させる。その後、算出した傾き角度θに基づいて、位置センサを用いてレンズのＹ軸移動量ｄが補正される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）