【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットＢＬを吸着保持する吸着ステージ５１の上面５１０と、アライメントパターンＡＰ２を下方から撮像するための石英窓５２ａの上面５２０とを同一平面とせず、石英窓５２ａの上面５２０を下方に後退させて配置する。ブランケットＢＬと石英窓５２ａとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材２０の位置を調整する被露光部材位置調整装置１００と、被露光部材２０に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク３０の位置を調整するマスク位置調整装置２００とを備える露光装置１０であって、直交する２軸の一方の軸をＸ軸とし、他方の軸をＹ軸としたとき、被露光部材位置調整装置１００は、被露光部材２０をＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面上におけるＸ軸に沿った方向及びＹ軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置２００は、マスク３０をＸＹ平面に直交するＺ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットＢＬを吸着保持する吸着ステージ５１の上面５１０と、アライメントパターンＡＰ２を下方から撮像するための石英窓５２ａの上面５２０とを同一平面とせず、石英窓５２ａの上面５２０を下方に後退させて配置する。ブランケットＢＬと石英窓５２ａとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。石英窓５２ａの上面５２０の上方に形成されたギャップ空間ＧＳに真空吸着されたブランケットＢＬが引き込まれて変形するのを防止するため、気体流路５１８およびバルブＶ５３を介してギャップ空間ＧＳ内の気圧を調整する。 （もっと読む）

【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第１のパターンと、前記第１のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第２のパターンとを具備し、かつ、前記第１のパターンは第１の材料を含み、前記第２のパターンは前記第１の材料とは異なる第２の材料を含むテンプレート１を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第１および第２の材料とは異なる第３の材料を含む被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆する。次に、被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆した状態で、テンプレート１を洗浄する。次に、被覆部材１１を除去して前記第２のパターンを露出させる。 （もっと読む）

【課題】基板表面の高さレベルを決定する際のより多くの融通性及び／又は効率的レベルセンサ技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗ表面の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、基板Ｗ上の反射後に測定ビームを受光するように配置された検出ユニットを備え、検出ユニットは、各検出素子が測定エリア８１、８２、８３、８４の測定サブエリア８ａ上に反射した測定ビームの一部を受光するように配置された検出素子のアレイを備え、それぞれの検出素子によって受光された測定ビームの部分に基づいて測定信号を提供するように構成され、処理ユニットは、測定サブエリア８ａでの選択された解像度に応じて、測定サブエリア８ａの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリア８ａの組合せの高さレベルを計算するように構成された、レベルセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】波長差に起因する計測誤差を低減して高精度な位置検出を行う位置検出装置を提供する。
【解決手段】基準マークＳＭを利用して被検出体ＷＭの位置を検出する位置検出装置であって、第１の波長帯域を有する計測光を用いて被検出体ＷＭを照明する第１の照明光学系５と、第２の波長帯域を有する基準光を用いて基準マークＳＭを照明する第２の照明光学系１３と、被検出体ＷＭからの光束および基準マークＳＭからの光束を検出する検出光学系１０と、検出光学系１０で検出された光束に基づいて被検出体ＷＭの位置を検出する位置検出部４８とを有し、基準光の第２の波長帯域は、計測光の第１の波長帯域の上限と下限との間に設定されている。 （もっと読む）

【課題】光学素子の光が入射又は透過する面の変形を抑制した状態でその光学素子を保持する。
【解決手段】照明光ＩＬを反射するミラー２２を有するミラー保持装置５０であって、凹面鏡よりなるミラー２２の照明光ＩＬが入射する反射面２２ａの裏面２２ｂに設けられて、反射面２２ａよりも断面形状が小さい凸状の連結部２３と、連結部２３に設けられて、連結部２３よりも断面形状が大きい被保持部２４と、被保持部２４を支持するクランプ部２５と、クランプ部２５が設けられたカバー部材５５と、カバー部材５５が固定された分割鏡筒４７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】外乱音波による振動の影響を抑えるのに有利なリソグラフィー装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィー装置１は、基板６上にパターンを形成するためのパターニング手段５と、パターニング手段５を支持する支持構造体１１とを備える。さらに、このリソグラフィー装置１は、支持構造体１１と、基板６を保持し移動可能とする基板保持部７を載置する定盤１０とに囲まれた第１領域Ｒ１に温度調節された気体を放出する第１吹き出し口１７を、支持構造体１１に対して第１領域Ｒ１の側に含む空調装置１５と、支持構造体１１を基準として第１領域Ｒ１とは反対側に存在する第２領域Ｒ２にて、第１吹き出し口１７から発生する第１音波Ｓ１と同位相である第２音波Ｓ２を発生させる音波発生部２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来の火炎加水分解法や、新たなスート押圧法、ゾル・ゲル法などの方法で作製することが困難な、ドープされたシリカ・チタニアガラスを使用した、ＥＵＶＬの投影光学系の大型部品を提供する。
【解決手段】５℃から３５℃の温度範囲に亘ってＣＴＥが０±３０ｐｐｂ／℃以下である材料から成る素子ブランク１０が、ドープされたシリカ・チタニアガラスから成る、インサート１４を備える。シリカ・チタニアガラスに加えられたドーパントは、酸化アルミニウムと選択された遷移金属酸化物とから成る群から選択されたものであり、また素子ブランク１０の材料は、ガラスとガラスセラミックとから成る群から選択される。このインサート１４は、フリットを用いて、またはフリットを用いることなく、ブランク１０に融合接合される。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション５は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット１００と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査する検査ユニット１０１と、各ユニット１００、１０１の間で基板を搬送するアームを備えたウェハ搬送機構１２０、１３０と、ウェハ搬送機構１２０、1３０の動作を制御するウェハ搬送制御部を有している。ウェハ搬送制御部は、検査の結果、ウェハの状態が洗浄ユニット１００での再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該ウェハを洗浄ユニット１００に再度搬送するように、ウェハ搬送機構１２０、１３０を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度でとることができるアライメントマーク及び露光装置を提供する。
【解決手段】基板とマスクとを相対的に位置合わせする際に、マイクロレンズアレイを基板アライメントマーク３２とマスクアライメントマーク３１との間に配置し、アライメント光を照射し、マスク上に基板アライメントマーク３２の正立等倍像を結像させる。このマスクアライメントマーク３１は、その輪郭を示す全ての辺３ｅ，３ｆ、３ｇ、３ｈが、マイクロレンズの配列方向に対して傾斜している。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度でとることができるアライメントマークを提供する。
【解決手段】基板１とマスク２とを相対的に位置合わせする際に、マイクロレンズアレイ３を基板アライメントマーク１１とマスクアライメントマーク２ａとの間に配置し、アライメント光を照射し、マスク２上に基板アライメントマーク１１の正立等倍像を結像させる。マイクロレンズアレイ３の各マイクロレンズには、多角視野絞り（例えば６角視野絞り）が設けられているが、基板アライメントマーク１１は、多角視野絞りの開口の全ての辺に対して傾斜し、複数本の線状のマーク片を有しており、このマーク片同士の交差部の像により、基板アライメントマーク１１のアライメント中心を検出できる。 （もっと読む）

【課題】波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。この補助パターン３０１は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン２０４を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 （もっと読む）