【課題】 複数個のＬＥＤ光源の放射光を合成して出射する構成のものにおいて、複数のピーク波長を有する連続した広範囲の波長範囲の光を出射することができると共に高い輝度を得ることのできる光源装置を提供すること。
【解決手段】 この光源装置は、ピーク波長が互いに異なる３つ以上のＬＥＤ光源の各々の放射光を合成して出射するものにおいて、第１のＬＥＤ光源からの放射光および第２のＬＥＤ光源からの放射光を合成する第１のダイクロイックミラーと、第１のダイクロイックミラーによる合成光および第３のＬＥＤ光源からの放射光を合成する第２のダイクロイックミラーとを有し、第２のダイクロイックミラーは、第１のダイクロイックミラーにより得られる合成光を反射すると共に第３のＬＥＤ光源からの放射光を透過して合成光を得るものである。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 （もっと読む）

【解決手段】 高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品を製造するための３Ｄ鋳型を製造するプロセスが開示される。このプロセスは、２光子レーザリソグラフィと３Ｄ書き込み技術との使用を統合して、３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型を作り、次に、ナノインプリントを使用して、その層の上記３Ｄ鋳型から３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートを形成する。次に、ポリマー薄膜シートの各層は、サブミクロン３Ｄ構造製品に製造される。高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型がさらに使用されて、マスタ鋳型が作られ、次に、マスタ鋳型を使用して、３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートが形成されて、サブミクロン３Ｄ構造製品が製造される。このプロセスを使用する適用例も開示される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は露光面へ直進光だけを放射することができる、小型で、構造が簡単で、容易に製造することができるとともに、発熱量を著しく低減させることができる露光機用光源装置を得るにある。
【解決手段】 内壁面に光吸収膜が形成されたハニカムコアと、このハニカムコアの開口端部の一端部を覆うように取付けられたベース板と、このベース板の前記ハニカムコアの各筒内に位置し、該ハニカムコアの他端部より直進光だけを放射できるように取付けられた多数個のＬＥＤと、この多数個のＬＥＤを点灯させる点灯回路とで露光機用光源装置を構成している。 （もっと読む）

【課題】アドレス・レゾリューションが改善されたパターン作成装置の提供。
【解決手段】本発明に係る装置は、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップをフィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされる。境界線上の中間画素マップが、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態を有する位相変調素子の画素を含み、加工品に投影される位相変調空間光変調装置の画素に比べて微細なアドレス・グリッドで境界線上の配置によって作成される。境界線の露光レベルが、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態に設定する位相変調素子の能力を使って作られ、中間画素マップに一致する中間変調状態に設定された位相変調素子の微小領域素子から反射された光の複素振幅を一体化した光の複素振幅により、微細なアドレス・グリッド及び前記境界線の露光レベルが作成される。 （もっと読む）

【課題】多色波露光に適したＦＰＤ用大型マスク及びマスクブランクを提供する。
【解決手段】透光性基板上に、透過量を調整する機能を有するグレートーンマスク用半透
光性膜を少なくとも有するＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクであって、
前記グレートーンマスク用半透光性膜は、超高圧水銀灯から放射される少なくともｉ線
からｇ線に渡る波長帯域において、半透光性膜の透過率（即ち半透過率）の変動幅が５％
未満の範囲内となるように制御された膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】費用の低減及び効率の向上を可能にする感光性膜露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】感光性膜を露光させるための光を出力する複数の発光ダイオードと、前記複数の発光ダイオード間に位置してノイズを遮断する遮光体と、前記感光性膜の形成された基板が載置されたステージと、前記複数の発光ダイオードと前記ステージとの間に位置し、前記複数の発光ダイオードからの光を平行光に変える平行光発生部とを備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】現像液の活性を正確に評価しうる平版印刷版の現像液評価方法を提供すること。
【解決手段】赤外線感光性平版印刷版原版に使用する現像液を、以下の（Ａ）〜（Ｄ）工程により評価する平版印刷版の現像液評価方法。
（Ａ）ＡＭスクリーン方式による面積率が段階的に異なる複数のＡＭ網点画像と、該複数のＡＭ網点画像の各々に隣接すると共に、直径１０μｍ〜７５μｍの円形ドットを用い、所定の面積率を有するＦＭスクリーン方式によるＦＭ網点画像と、を備える標準画像パターンを、赤外線感光性平版印刷版原版に対して赤外線露光する工程
（Ｂ）（Ａ）による赤外線露光済み版を、標準現像液で現像して標準版を作製する工程
（Ｃ）（Ｂ）とは異なる（Ａ）による赤外線露光済み版を、評価しようとする現像液で現像して対象現像液評価版を作製する工程、
（Ｄ）前記標準版と前記対象現像評価版との網点面積率を比較する工程 （もっと読む）

【課題】表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、これを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基板上にエッチング対象物質層、フォトレジスト層及び所定周期で反復配列された構造の第１パターン形状にパターニングされた金属層を順次形成する工程と、（ｂ）パターニングされた金属層に表面プラズモンが励起されてフォトレジスト層が第２パターン形状に露光されるように光を照射する工程と、（ｃ）パターニングされた金属層を除去し、フォトレジスト層を現像する工程と、（ｄ）第２パターンにパターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチング対象物質層をエッチングする工程と、を含むナノパターニング方法である。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の両面に形成するようにする露光描画装置を提供する。
【解決手段】露光描画装置（１０）は、感光層が形成された基板（ＣＢ）を基板整合位置に投入する基板投入部（２０）と、この基板整合位置に投入された上記基板を所定の位置に整合する整合部（３０）と、整合部によって整合された基板の第１面及び第２面に対して第１及び第２アライメントマークを形成するマーク形成部（４０）と、第１及び第２アライメントマークに基づいて回路パターンを基板の第１面及び第２面に描画する描画部（６０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 容易に実行可能なＰＤ構成を用いて、高いスループットレートをもたらす方法を提供すること。
【解決手段】 複数のアパーチャを有するパターン決定手段を用いて荷電粒子のビームをターゲット（４０）にマスクレスで照射し、所定の軸に対して横に、上記パターン決定手段に対して相対移動している（ｖ）ターゲット上に、上記パターン決定手段における上記アパーチャのイメージを形成する方法において、上記イメージの位置を、上記ターゲットの相対移動の距離が上記ターゲットにおいて測定される上記イメージの幅（ｗ）の倍数以上である画素露光期間の間、上記ターゲットに沿って移動させるようにし、上記画素露光期間の後に、上記ビームのイメージの位置を変化させるようにし、この位置の変化は上記ビームのイメージの上記位置の移動をほぼ補うものである。 （もっと読む）

【課題】長時間の連続露光により寸法精度が損なわれることが無く、更に、画質が劣化することなく均一な露光を行うことができる連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒体と、該透明円筒体の内部に配置されたＬＥＤ光源と、該透明円筒体と該ＬＥＤ光源の間に配置された拡散板を有する連続露光装置。 （もっと読む）

【課題】 可視光や紫外光等によって影響を受けることなく、試料に照射された電子線エネルギーを正確に測定することのできる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】 電子線照射システムにおいては、チャンバ２に収容された試料４に電子線Ｅを照射し、その試料４に照射された電子線エネルギーを、電子線検出器７によって測定する。このとき、電子線検出器７の検出面７ａを、導電性遮光膜７ｂで覆うことにより、当該電子線検出器７にて電子線Ｅを検出する際に、チャンバ２内における可視光や紫外光等から影響を受けることを防止する。これによって、試料４に照射された電子線エネルギーを正確に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な微細パターンを形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
【解決手段】露光光の波長サイズ以下の微小開口を有する遮光膜を密着させ、露光光源から光を照射してパタンを転写する近接場露光に用いられる被露光物の形成方法であって、
凹凸を有する基板２０１上に、該基板の凹凸を埋め込むように形状緩衝層と光吸収層としての機能を兼ね備えた層２０２を形成し、該基板表面を平坦化する工程と、
前記形状緩衝層と光吸収層としての機能を兼ね備えた層上に、感光性レジスト層２０４を形成する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

平版印刷版を製造するための方法であって、その方法はｉ）親水性表面を有するか又は親水性層を与えられた支持体、及び前記親水性表面又は前記親水性層の上に与えられた被覆を含む平版印刷版プリカーサを準備する、但し被覆は疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含む像記録層を含み、前記被覆の像記録層又は任意の他の層は赤外光吸収剤をさらに含む；ｉｉ）１９０ｍＪ／ｃｍ^２以下のエネルギー密度を有する赤外光にプリカーサを像に従って露光する；ｉｉｉ）処理液において未露光領域を除去することによって露出されたプリカーサを現像する；ｉｖ）かくして得られた版を熱可塑性粒子のガラス転移温度以上の温度に５秒〜２分の時間、保持することによって版を焼成する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】連続してパターン形成体の製造を行った場合であっても、目的とするパターンの形状に高精細に特性変化パターンを形成可能なパターン形成体の製造方法を提供。
【解決手段】真空紫外光３の作用により表面の特性が変化するパターン形成用基板に、フォトマスク２を介して前記真空紫外光３を照射することにより、前記パターン形成用基板の表面に、特性が変化した特性変化パターン４を形成してパターン形成体を形成するパターン形成工程を複数回行って、パターン形成体を複数製造するパターン形成体の製造方法であって、前記複数回行われるパターン形成工程の間に、前記フォトマスク２と前記パターン形成用基板とを対向させない状態で、前記パターン形成工程に用いられる光源と同一の光源により前記フォトマスク２に真空紫外光３を照射し、前記フォトマスク２に付着した付着物を除去する付着物除去工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 描画される画像の画素をより小さくすることができる直接描画装置を提供する。
【解決手段】 光を放射する複数の発光画素が少なくとも１列に並んで発光画素アレイが構成される。発光画素に対応して開口が形成され、発光画素から放射された光の一部が、対応する開口を通過し、かつ各開口内の全領域を、対応する発光画素から放射された光が通過するように配置され、開口以外の領域に入射する光を遮光する遮光マスクが配置されている。ステージが、表面に感光膜が形成された露光対象物を保持する。集光光学系が、発光画素から放射され、遮光マスクの対応する開口を通過した光を、ステージに保持された露光対象物上に集光させる。移動機構が、ステージに保持された露光対象物及び集光光学系の一方を他方に対して移動させる。 （もっと読む）

【課題】 超高圧水銀ランプを用いた従来装置の問題点を解決し、しかも均一な光を取り出すことができる露光装置用光源を安価に提供する。
【解決手段】 複数の紫外線波長域のＬＥＤを平面基板上に配置したＬＥＤ発光部８からの照度不均一な光束を非球面レンズ９で平行光にして四角柱状の透光性ロッド１０の端面に入射させ、他端よりその端面形状の均一光を出射させ、複数のレンズから構成されるコンデンサーレンズ１１及びリレーレンズ１２を介して硝子基板１３上のレジスト１４に露光するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 各ＬＥＤの発光タイミングのバラツキを小さくすることができる露光装置を得る。
【解決手段】 コントローラ部５４に設けた発光時間測定部８８に、露光ステージに設けられストロボ３８Ｃの出射口からの光量を測定する光量測定センサ８０を接続させ、各ＬＥＤモジュールの発光トリガから各出射口からの光が所定光量に到るまでの時間ｔを測定する。この測定結果は、コントローラ部５４に設けた発光タイミング補正部９０へ入力され、時間ｔの差をなくすように補正される。つまり、発光タイミング補正部９０のデータを基にストロボ発光制御部５７によって、各ＬＥＤモジュール毎に発光トリガの時間をずらすように制御される。これにより、各出射口の発光タイミングを略一致させることができ、感光材料の位置決め用のマークＭの位置を正確に読み取ることができる。 （もっと読む）