【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】汚染に起因する性能の劣化を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光の光路を第１液体で満たすように第１液体で液浸部を形成可能な第１部材と、第１部材から離れた位置で第２液体で液浸部を形成可能な第２部材と、所定部材と第２部材との間の第２液体に振動を与える振動発生装置とを備え、第２液体を用いて所定部材をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】出力光のパワー制御を安定的に行うことができるレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、波長が紫外領域のＵＶレーザ光を出力するＵＶ光出力部Ｉと、波長が可視〜赤外領域のＶＩＲレーザ光を出力するＶＩＲ光出力部II,IIIと、ＵＶ光出力部Ｉから出力されたＵＶレーザ光とＶＩＲ光出力部から出力されたＶＩＲレーザ光とから、波長変換により波長がＵＶレーザ光よりも短いＤＵＶレーザ光を発生して出力するＤＵＶ光変換部IVと、ＵＶ光出力部及びＶＩＲ光出力部の作動を制御する制御部８とを備える。制御部８は、ＤＵＶレーザ光のパワーを変化させるときに、ＵＶレーザ光のパワーを略一定とし、ＶＩＲレーザ光のパワーを変化させる制御を行うように構成される。 （もっと読む）

【課題】露光精度を高めることができる投影光学系、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、鏡筒１６の内部に保持された複数のミラー１７を備える投影装置１４を備えている。投影装置１４の鏡筒１６の外周部には、液相と固相との間で相転移する物性を有し、液相と固相とが共存する金属材料１９と、鏡筒１６の外周部に設けられて、金属材料１９を保持する金属保持部材１８とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 収差感度を判定することができるリソグラフィ方法及び／又はアセンブリを提供する。
【解決手段】 パターンフィーチャを与えるために使用されるリソグラフィ装置の光学収差の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するリソグラフィ方法である。この方法は、第１の収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第１の収差状態にある場合にリソグラフィ装置でパターンフィーチャの第１の像を形成するステップと、像の特性を測定するステップと、第２の異なる収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第２の収差状態にある場合にリソグラフィ装置で前記同じパターンフィーチャの像を形成するステップと、像の同じ特性を測定するステップと、測定値を使用して収差状態の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】フル点灯モードによる供給電力が大きくなったときに、発光管の封止部のクラックの発生や金属箔の破断の発生を防止することができる放電ランプ点灯装置を提供する。
【解決手段】発光部の両端に箔シール構造の封止部が形成されてなる発光管を有するロングアーク型の放電ランプ１０と、この放電ランプに給電する給電装置２０とを備えてなり、前記放電ランプが、前記給電装置によって、フル点灯モードと、このフル点灯モードによる供給電力より小さい電力を供給するスタンバイ点灯モードとを切り替えて点灯されると共に、前記フル点灯モードによる供給電力が定照度制御される放電ランプ点灯装置であって、前記フル点灯モードによる供給電力が大きくなったときに、これに応じて前記スタンバイ点灯モードによる供給電力が大きくなるよう制御される。 （もっと読む）

【課題】描画データの解像度やエンコーダのパルス信号の周期に依存することなく露光間隔を設定し、描画データの解像度で決まる露光間隔とエンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔とのずれを小さくして、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダ３２を設け、エンコーダ３２のパルス信号からチャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量を検出する。描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及びエンコーダ３２のパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、チャック１０の位置座標を決定し、チャック１０の位置座標に応じた描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたレジスト膜の周縁部を短時間にて除去可能にすることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。
【解決手段】冷却プレート８１に保持された基板Ｗの表面の全面にはほぼ均一な厚さにてレジスト膜ＲＦが形成されている。フラッシュ照射部６０は、投光光学系６１を備えており、フラッシュランプＦＬから出射されたフラッシュ光を集光してレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥのみに一括照射する。フラッシュ光照射により周縁部ＲＦＥはガラス転移点Ｔｇ以上に加熱され、脱保護反応によって現像液に溶解可能となる。フラッシュ光照射によるレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥの加熱処理は処理時間が１秒以下の極めて短時間の処理であり、しかも周縁部ＲＦＥの全体に一括してフラッシュ光が照射されるため、その周縁部ＲＦＥを短時間にて除去可能とすることができる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置の内部を洗浄するための方法と装置を提供すること。
【解決手段】特に、リソグラフィ装置の液体供給システムを使用して、リソグラフィ装置の投影システムと基板テーブルとの間の空間に洗浄流体を導入することができる。追加的に又は代替案として、洗浄デバイスを基板テーブルの上に備えてもよく、超音波液体を作り出すために超音波エミッタを備えることもできる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをウエハ上に解像する。
【解決手段】照明光学系ＩＯＰにより、波長の異なる第１の光と第２の光とが、切り替えて（又は同時）に、第１面上に配置された第１パターンを有するレチクルＲ１、及び第２面上に配置された第２パターンを有するレチクルＲ２に副光学系６０を介して、照明光ＩＬとして照射される。そして、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が、その像面にウエハステージＷＳＴによって保持されたウエハＷ上に形成される。従って、物体上に第１の光、第２の光にそれぞれ感度を有する第１、第２のレジスト層が形成されている場合には、第１の光と第２の光とを同時にレチクルＲ１、Ｒ２にそれぞれ照明光として照射することにより、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が第１、第２のレジスト層に形成される。 （もっと読む）

【課題】それまで使用されていた光学素子と構成が異なる光学素子を使用する場合に、光量分布に関して必要に応じて互換性を維持する。
【解決手段】照明方法において、第１の照明瞳面における光量分布を設定する回折光学素子を経由した光で第１被照射面を照明することと、その第１の照明瞳面の光量分布を計測し、この計測結果を第１光量分布として記憶することと、第２の照明瞳面２２Ｐにおける光量分布をその第１光量分布とほぼ同じ分布に設定可能な空間光変調器１３を経由した光で第２被照射面を照明することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】水素ラジカルジェネレータによって生成され、リソグラフィ装置の光エレメント上に堆積した汚染物質を低減させる方法を提供する。
【解決手段】本実施形態に係る方法は、水素ラジカルジェネレータの金属フィラメントの金属酸化物を含む第１部分の温度が金属酸化物の蒸発温度以下である還元温度である場合に、水素分子を金属フィラメントの第１部分に通過させることを含む。 （もっと読む）

【課題】容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。液体には流れ、望ましくは放射状流れが誘起される。 （もっと読む）

【課題】コールドミラーである反射鏡を液体で効率よく冷却する手段を、簡便な構造により実現し、小型で安価な構成とすること
【解決手段】長尺なランプと、該ランプに沿って長手方向に配置される反射鏡を備え、該反射鏡の内面に紫外線を反射し赤外線を透過する反射膜を有する紫外線照射装置において、前記反射鏡の外面に近接して配置されるとともにこれを保持する反射鏡冷却保持体を備え、該反射鏡冷却保持体は内部に冷却液体が流通する流路を複数備え、該流路は該反射鏡冷却保持体の長手方向の両端部に開口を有し、該端部は蓋部材によって密閉されてなり、該蓋部材の内側に、溝状の折り返し流路部が形成されるとともに、一の流路と他の流路が折り返し流路部を介して空間的に連結されていること。 （もっと読む）

【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。
【解決手段】ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマＵＶランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。 （もっと読む）

【課題】ランプ交換や調整などのメンテナンスに要する作業時間の短縮化を図る。
【解決手段】マイクロ波を発生するマグネトロンおよび導波管を介してマイクロ波に基づき、紫外線を発光することが可能な放電媒体が封入された無電極ランプ１２が収容されたランプハウス１１からモジュール化された紫外線照射部１００を構成する。紫外線照射部１００から放射される紫外線は、リフレクタを用いて集光または拡散させながら照射室２００に配置される被照射体に照射させる。紫外線は通過し、マイクロ波は遮蔽する電磁シールド２４が配置される。電磁シールド２４は支持枠３０に複数取り付けられ、行方向に複数配置された紫外線照射部１００に対向させる。支持枠３０は電磁シールド２４を取り付けた状態で取り出し可能とした。照射室２００から紫外線照射部１００に対するメンテナンス性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】入射光を使用して所定面に光強度分布を形成するホログラムを提供する。
【解決手段】ホログラム１１００は、入射光ＩＬの第１の偏光方向の第１の偏光成分ＩＬ１の位相、及び第１の偏光方向に対して垂直な第２の偏光方向の第２の偏光成分ＩＬ２の位相の双方を制御して、第１の偏光成分ＩＬ１の位相分布と第２の偏光成分ＩＬ２の位相分布との間の位相差分布を形成するように構成された複数のセルを含む。複数のセルは、位相差分布の位相差のレベル数が第１の偏光成分ＩＬ１の位相分布の位相のレベル数より少なくなるように設計されている。 （もっと読む）

【課題】長尺の紫外線ランプであっても、不点灯や消灯直後における高温状態であっても安全にかつ確実なランプ交換の実現を図る。
【解決手段】ランプハウス１０内に、紫外線を放射する紫外線ランプ１３を主に構成するランプユニット部１１とランプユニット部１１から放射される紫外線が照射される照射部１２が構成される。ランプユニット部１１に出し入れされるキャリア２６に、紫外線ランプ１３を載置可能とし、ランプ交換時にキャリア２６を使用して、ランプユニット部１１内に交換用ランプを搬送し、ランプハウス１０の側面に形成された作業口を介して紫外線ランプ１３を所定の位置に交換するようにした。 （もっと読む）

【課題】紫外線ランプ表面温度を規定温度範囲内に収める管理を可能としたことでランプの長寿命化を実現する。
【解決手段】ランプハウス１０内に、紫外線を放射される紫外線ランプ１３を主に構成するランプユニット部１１とランプユニット部１１から放射される紫外線が照射される照射部１２が構成される。さらに、紫外線ランプ１３と反射板１７１，１７２との間には耐熱性の紫外線透過ガラス板２７２，２７２を設置した。紫外線透過ガラス板２７１，２７２が紫外線ランプ１３に対して風量を増やす作用を生かしてランプ温度の管理を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】開口数の大きな被検光学系の光学特性計測に用いることが可能な光検出装置、同装置を用いた光学特性計測装置、光学特性測定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の一表面上に配置された開口パターンと、前記基板の前記一表面に対向する表面上に形成された蛍光膜とを有する蛍光ユニットと、複数の光ファイバーを束ねて構成された導光部材と、前記導光部材の一表面に接して配置された撮像素子とを有する撮像ユニットを備えた光検出装置とし、前記蛍光ユニットの前記蛍光膜側の表面を、前記撮像ユニットの前記導光部材側の表面に対面して配置する。 （もっと読む）