【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】取り付け機構に対する放電ランプの装着等を容易に短時間に行うことができる光源装置を提供する。
【解決手段】発光部を形成するガラス管２５とこれに連結された口金部２６とを有する放電ランプ１と、口金部２６を介して放電ランプ１を保持する取り付け装置３１とを備えた光源装置であって、口金部２６は、取り付け装置３１の位置決め板５０と当接するフランジ部２６ａと、フランジ部２６ａを位置決め板５０に押圧する押圧力が付勢される固定部２６ｈとを有し、取り付け装置３１は、圧縮コイルばね４４Ａによって固定部２６ｈを付勢する固定用アーム５５Ａを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザ（LD）、LED、ランプ等の発光源、およびレンズ、ファイバ等の伝送、転写、集光等の光学部品を備えた光源装置において、装置内における硫酸イオン量を低水準に保つことにより、硫酸アンモニウムの光学部品への付着を防ぐことのできる光源装置を提供する。
【解決手段】光を出射する光源１と、光源から出射された光２を処理する光学部品３と、光学部品を収納する、または光学部品が取り付けられる筐体とを備え、筐体は、硫黄成分を含まない材料を切削することにより形成され、前記材料が表面に露出している。 （もっと読む）

【課題】エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】冷却によるランプのゆらぎ、照度変動を抑え、安定したランプ点灯を維持する。
【解決手段】陰極２０、陽極３０を備えたショートアーク型放電ランプにおいて、発光管１２の厚さを変える。陰極先端部（輝点）を中心として、電極軸に直交し、陰極先端部を含む基準面Ｆから緯度方向６０度付近にある発光管肩部１２Ｔ付近の厚さ（肉厚）Ｔ１を、陽極先端面３１Ａを含む平面Ｇを含む発光管最大径部１２Ｓ付近の厚さＴ２より大きくする。 （もっと読む）

【課題】感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１においては、制御装置２９による制御の下で、露光ステージ１２の駆動ステージ１４によりチャックステージ１３を移動させて、感材３２が積層された基板３１をマスク１６に対して位置決めした後、基板３１上の感材３２へ向けて照射光学系２０によりマスク１６を介して露光光を照射することにより、基板３１上の感材３２を所定のパターンで露光する。このとき、照射光学系２０に短波長カットフィルター２７が装着されている場合には、超高圧水銀灯２１から出射された光は、短波長カットフィルター２７を通過し、ｇ線、ｈ線及びｉ線を残して、２７０〜３３３ｎｍの範囲にある深紫外線域の光がカットされる。なお、短波長カットフィルター２７は照射光学系２０において着脱可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】光照射装置で入射光が小光量の場合でも均一化して出射できる入射光を供給する。
【解決手段】光照射装置の絞り板の開口部の形状が、スリット形状で溝幅が連続的に暫減又は暫増するように形成される第１パターン１０１と、第１パターンにおける少なくとも溝幅が所定値以下に狭くなったところの近傍領域に、第１パターンにおける溝幅が暫減又は暫増することと協働して、出射光の通過可能となる面積を暫減又は暫増させるように形成される第２パターン１０２とが組み合わされて構成される。 （もっと読む）

【課題】安価且つ短時間で、高精細なマスクパターンを光透過性円筒基材の外周面に形成させる露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性円筒基材の外周面に少なくとも１層の感光層を有する感光体の露光装置であって、マスクパターンフィルムの挿入口と、前記マスクパターンフィルムを前記感光体に押し付け且つ前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体の外周面の一部を覆い、前記感光体と共に前記マスクパターンフィルムを挟持しながら搬送させるための光透過性搬送手段とを、少なくとも有する露光装置。 （もっと読む）

本発明は、ａ）透明な支持体を用意するステップと；ｂ）カラーマスクをその透明な支持体の第１の側に形成するステップと；ｃ）可視光に対して感受性のある堆積阻害材料を含む第１の層を適用するステップと；ｄ）カラーマスクを通して第１の層を可視光に露光して第１のパターンを形成し、堆積阻害材料を現像して堆積阻害材料が実質的にない選択された領域をもたらすことによって、堆積阻害材料を含む第１の層をパターニングするステップと；ｅ）透明な支持体の上に機能性材料からなる第２の層を堆積させるステップを含み、機能性材料の第２の層を、透明な支持体上で堆積阻害材料のない選択された領域にだけ実質的に堆積させる、構造体を形成する方法に関する。
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本発明は、支持体を用意する工程、前記支持体の一方の側にカラーマスクを被覆する工程、可視光によってフォトパターン化可能材料層を被覆する工程、そして前記層を、該カラーマスクを通して可視光に暴露して、フォトパターンを形成する工程を含んで成る、構造を形成する方法。
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【課題】 本発明は、待機モードの待機電力を下げつつ、処理モードにおいて、短時間で立ち上がり、立ち切れしない高出力点灯ができる高圧放電ランプおよび高圧放電ランプ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 一対の電極が対向配置され、水銀が封入された発光管と、前記発光管の外側に形成された直管状の外管を備え、前記発光管の両端で前記外管が固定されている高圧放電ランプにおいて、
前記発光管の外表面、または、前記外管の内表面に、凸部が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題の解決。
【解決手段】加工品にパターンを形成する装置および方法。この装置は、超紫外線から赤外線までの波長範囲の光を放射する光源と、精密ステージに装架され、多数の変調素子を有し、放射された光によって照射されるように構成された空間光変調装置と、加工品に空間光変調装置の画像を形成する投射系と、書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取り、パターンを変調信号に変換し、変調信号を空間光変調装置に供給する電子データ処理および伝送系と、加工品及び／又は投射系を相互に位置決めする高精度機械系と、加工品の位置、空間光変調装置への変調信号の供給、および放射の強度の調整の制御を行い、それによりパターンを加工品に印刷するようにさせる電子制御系と、印刷されるべきパターンの座標系を、位置付けステージ上の加工品の座標系に対して回転させる手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】長時間にわたって均一な照度の光を出射することのできる光源装置を提供する。
【解決手段】複数の放電灯３０と、放電灯３０のそれぞれに設けられ、放電灯３０のそれぞれから出射された光を同じ方向へ向けて反射するリフレクタ３１と、放電灯３０に付与される電圧を個別に測定して、電圧に基づいて放電灯３０の異常を個別に判定し、異常と判定したときに異常信号Ｓ３を出力する異常判定手段２８とを有するランプユニット１８、および放電灯３０を個別に通電し、または通電を遮断する機能を有しており、起動時には少なくとも１つの予備の放電灯３０の通電を遮断した状態で他の放電灯３０を通電し、かつ、異常信号Ｓ３に基づいて異常と判定された放電灯３０の通電を遮断するとともに、それまで通電が遮断されていた予備の放電灯３０を通電する点灯制御装置２２を備えることで上記課題を解決した光源装置１０を提供できる。 （もっと読む）

【課題】放電灯を有し、長時間にわたって均一な光量を出射することのできる光源装置を提供する。
【解決手段】複数の放電灯３０と、放電灯３０のそれぞれに設けられ、放電灯３０のそれぞれから出射された光を同じ方向へ向けて反射するリフレクタ３１とを有するランプユニット１８、ランプユニット１８から出射された光の照度を測定する照度計２０、および放電灯３０を個別に通電し、または通電を遮断する機能を有しており、起動時には少なくとも１つの予備の放電灯３０の通電を遮断した状態で他の放電灯３０を通電し、かつ、照度計２０で測定された実照度と予め設定された適正照度とを比較することによって実照度の過不足を判定するとともに、実照度の過不足を解消するように放電灯３０を通電し、あるいは通電を遮断する点灯制御装置２２を備えることにより、上記課題を解決した光源装置１０を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】正確に像様に露光処理を行い、長期間、安定に露光処理を行える連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒基材に画像パターンが描画された原稿円筒体１と該原稿円筒体の内部に配置された光源２と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材３で構成されている連続露光装置であって、該原稿円筒体の外周に透明な帯電防止層７０を有して、原稿円筒体の外周面と前駆体との間に塵・異物の混入がないようにし、外周面が摩耗しにくい原稿円筒体を用いる。 （もっと読む）

本発明は、支持体を用意し、前記支持体の一方の側に多色マスクを塗布し、該支持体の他方の側に、可視光によって硬化可能な層を塗布し、そして該光硬化性層を該マスクを通して可視光で露光することにより、露光された部分において、硬化されたパターンを形成するように、光によって硬化可能な層を硬化させることを含んで成る積層透明構造体を形成する方法に関する。
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【課題】安定したプリント品質を得ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】画像データに基づいて定電流駆動されることにより複数の有機ＥＬ発光素子を発光させ、出射される光ビームの光軸上に配置されたレンズアレイ７により、光ビームをカラー感光材料に結像させており、電圧測定部により、有機ＥＬ発光素子を定電流駆動させるために印加される駆動電圧を測定し、ＲＯＭ４５Ｂに記憶されている発光面積情報に基づき、測定した駆動電圧から発光領域の面積を導出し、光学位置調整部６６により、導出した発光領域の面積に基づいて経時的な当該面積の減少によるカラー感光材料上における光ビームのスポット径の縮小を補正するように光ビームの光軸方向に対する有機ＥＬ発光素子とレンズアレイの間の距離及びレンズアレイとカラー感光材料の間の距離の少なくとも一方を調整する。 （もっと読む）

【課題】現像性、硬化膜のテント性、密着性に優れ、かつエッチング時の剥離性、解像性にも優れ、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、前記バインダーが、ウレタン基を含有するバインダーと、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーと、を含有することを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法である。前記スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５である態様、ウレタン基を含有するバインダーの含有量が、バインダーの総量に対して５〜３５質量％である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】この発明は、液晶露光機などに用いられるガラス基板保持装置にあって基板保持面の表面に反射防止膜を形成するもので、これによって大面積の基板保持装置にあっても簡単で、かつ確実に反射防止膜を形成できるようにしたものである。
【解決手段】基板保持基板１がＳｉＣ又はＳｉ_３Ｎ_４のセラミックス素材からなる露光機用基板保持装置であって、前記基板保持面の粗さがＲａ０．２〜０．７μｍで、その表面に熱酸化膜２が形成されており、該酸化膜２の膜厚をｄ、屈折率をｎ_ｆｉｌｍ、露光波長をλとしたとき、膜厚がｄ＝［（λ／ｎ_ｆｉｌｍ）×（２ｍ−１）／４）］±（（λ／ｎ_ｆｉｌｍ）／４）×０．５の範囲内である基板保持装置，但し、λ；露光波長、ｎ_ｆｉｌｍ；膜の屈折率、ｍ；１または２の整数である。 （もっと読む）

【課題】低コスト化、高スループット化、製造プロセス安定化を全て実現するマスクレス露光装置及びその露光装置を用いた露光方法および配線基板製造方法を提供する。
【解決手段】マスクレスの光変調方式の露光装置において、紫外光感光性樹脂層１０ａが形成された被露光基板１０を載置したステージ１１と、波長３００〜４１０ｎｍの範囲の少なくとも一部の波長光を出射する第１の光源１と、前記第１の光源１から出射された光束を変調し、前記ステージ１１上の前記感光性樹脂層１０ａ上にパターンを結像させるための第１の照射光学系と、波長４５０〜２５０００ｎｍの範囲の少なくとも一部の波長光を出射する第２の光源２と、少なくとも前記第１の照射光学系で露光描画された第１の照射領域を含むように設定された第２の照射領域に前記第２の光源２から出射された光束を導光する第２の照射光学系とを備える。 （もっと読む）