【課題】露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。
【解決手段】シート基板Ｐの露光装置であって、シート基板Ｐを走査方向Ｄ１に移動する基板駆動装置１０と、マスクＭ１〜Ｍ３を保持して上面ＭＢａに沿って移動するマスクステージＭＳ１〜ＭＳ３と、駆動対象のマスクステージＭＳ２の走査方向Ｄ２の位置情報を計測する干渉計３３ＸＡ，３３ＸＢと、この計測結果に基づいて、マスクステージＭＳ２を走査方向Ｄ２に移動する駆動装置と、マスクステージＭＳ１〜ＭＳ３の走査方向Ｄ２の位置を相互に入れ替えるステージ入れ替え装置２４と、を備える。 （もっと読む）

基板ケースは、回路生成プロセスが施された回路領域を有するシート状の基板が巻きつけられる軸部と、当該軸部に巻かれた状態の基板を収容するカバー部とを備え、軸部は、基板の巻き始めの一端部のうち、回路領域と異なる領域を保持する保持部を有する。
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【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の移動速度を変化させなくても非露光エリアを小さく抑える。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１パターン領域を有する第１マスク（Ｍ１）を保持して移動する第１ステージ（ＭＳ１）と、第２パターン領域を有する第２マスク（Ｍ２）を保持して移動する第２ステージ（ＭＳ２）と、第１パターン領域のパターン像を基板上に形成する第１投影光学系（ＰＬ１）と、第２パターン領域のパターン像を基板上に形成する第２投影光学系（ＰＬ２）と、第１パターン領域のパターンを基板上の第１露光領域へ走査露光する第１走査露光期間と、第２パターン領域のパターンを基板上の第２露光領域へ走査露光する第２走査露光期間とが部分的に重複するように制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

フレキソ印刷要素を熱現像して表面上にレリーフ像を形成する装置、及び前記フレキソ印刷要素を現像する方法。前記方法は、フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の架橋フォトポリマーを軟化又は溶融させることを含む。前記装置は、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触し、且つ前記フレキソ印刷要素の画像形成表面上を移動して、前記フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の軟化又は溶融した非架橋フォトポリマーを除去するロールを含む。前記非架橋フォトポリマーは、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接するヒータを用いて、又は前記印刷要素の表面と接触する１つのロールを加熱することによって軟化又は溶融する。任意で、前記装置は、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を硬化させる装置である。 （もっと読む）

【課題】ドラムに対する刷版の供給および排出を円滑に行い、刷版に無理な力がかかったり傷めたりすることがない円筒外面走査装置を提供する。
【解決手段】ドラム４の周面からみて第１の方向に供給機構８が、第２の方向に収容機構９がそれぞれ設けられる。ドラム４への刷版３の供給および排出時にドラム４に押圧するスキージローラ１３は、ローラ移動機構１２により、第１の方向に対応した位置と、第２の方向に対応した位置との間で移動可能となっている。スキージローラ１３は、供給機構８から刷版３をドラム４に供給する際には、第１の方向に対応した位置でドラム４を押圧し、ドラム４から刷版３を収容機構９に収容する際には、第２の方向に対応した位置でドラム４を押圧させるように、ローラ移動機構１２により移動させる。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上を達成する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性を有する基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、マスク（Ｍ）を保持し、基板の走査方向への移動に対応して、走査方向に沿って往復移動するステージ機構（ＭＳ）と、ステージ機構に保持されたマスク上に照明領域（ＩＲ）を形成する照明光学系（ＩＬ）と、照明領域内のパターンの走査方向に倒立した第１投影像を基板上の第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系、及び照明領域内のパターンの走査方向に正立した第２投影像を第１結像領域から走査方向に間隔を隔てた第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１マスク（Ｍ１）を保持して第１の向き（＋Ｙ方向）に移動する第１ステージ（ＭＳ１）、及び第２マスク（Ｍ２）を保持して第２の向き（−Ｙ方向）に移動する第２ステージ（ＭＳ２）を有するステージ機構と、第１マスク上に第１照明領域（ＩＲ１）を形成する第１照明系（ＩＬ１）、及び第２マスク上に第２照明領域（ＩＲ２）を形成する第２照明系（ＩＬ２）を有する照明光学系と、第１照明領域内のパターンの倒立像を第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系（Ｇ１，Ｇ３）、及び第２照明領域内のパターンの正立像を第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系（Ｇ２，Ｇ３）を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができる凸状シートの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍである凸状シートの製造方法において、シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０を形成する塗布工程と、フォトマスク２０を用いて、塗布層１０に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層１０を硬化する露光工程と、塗布層を現像処理し、未硬化域１２を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする凸状シートの製造方法および製造装置である。 （もっと読む）

【課題】 帯状の基板をその長手方向に連続的に移動させながら繰り返し投影露光することができ、スループットを向上させることができる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】帯状の基板の長手方向に沿って該基板の複数のパターン転写領域に、第１部分パターン及び第２部分パターンを含むパターンを露光する露光方法である。また、その露光方法は基板を長手方向に連続的に移動させる工程と、パターン転写領域のうちの第１部分領域に第１部分パターンを露光する第１露光処理を、基板の長手方向への移動に同期して繰り返す工程と、パターン転写領域のうち長手方向に沿って第１部分領域に隣接する第２部分領域に第２部分パターンを露光する第２露光処理を、基板の前記長手方向への移動に同期して繰り返す工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】長尺のシートＳの長尺方向の少なくとも２箇所を拘束し、長尺方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに長尺方向に関するテンションを付与するとともに、シート材の長尺方向と交差する幅方向の両側でシート材をホルダＳＨ_２で吸着して拘束し、幅方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに幅方向に関するテンションを付与する。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シート材Ｓの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、平坦化された状態のシート材の所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。
【解決手段】フィルム状基板Ｐを搬送するラダー式ステージ装置２８であって、フィルム状基板Ｐを支持するために、フィルム状基板Ｐの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】モアレの発生を低減することができるパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜を提供する。
【解決手段】感光材料に対し７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、マスクパターンを搬送方向に周期的な周期パターンとして感光材料に露光することで導電膜１０を得る。導電膜１０は、複数の導電性の金属細線にて構成された導電部１２と複数の開口部１４とを有する導電膜１０において、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側部は、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍから開口部１４に向かって張り出し、且つ、張出し量が設計幅Ｗｃの１／２５〜１／６である張出し部２６が形成された形状を有する。 （もっと読む）

【課題】光の透過性を有する基板の面位置を高精度に検出できること。
【解決手段】 基板の表面で反射された光を検出し、その検出結果に基づいて表面の面位置を検出する面位置検出装置である。その面位置検出装置は、基板の裏面を保持する保持部と、該保持部に対して凹状に形成された凹部とを有する保持装置と、基板の屈折率と同等の屈折率を有する流体を凹部に供給する流体供給装置と、凹部の上方の基板の表面に光を照射する照射装置と、を備える。 （もっと読む）

方法は、感光材料の層を上に有する基板を用意する工程と、連続する第１、第２、及び第３の部分を有するマスクを用意する工程であって、順次、ｉ）第１の部分を第１の速度の光線で走査し、その後露光領域で感光材料に衝突させ、ｉｉ）第２の部分内に走査する工程を固定し、ｉｉｉ）第３の部分にわたって走査を再開する、工程と、を含む。該プロセスにわたって、該基板が露光領域を通って移動する。該プロセスを実行するための装置は、光線源と、マスクマウントと、マスクステージと、コンベヤーアセンブリと、光線を矩形光線に操作するための少なくとも１つの光学素子と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 パターン形成装置（１０）は、基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成する。そして、パターン形成装置（１０）は所定のエネルギーに応じて硬化する硬化性材料（ＬＲ）を基板（ＦＢ）の表面に接触させる接触装置（１２）と、パターンに対応するパターン情報に基づいて基板（ＦＢ）の表面と接触した硬化性材料（ＬＲ）に所定のエネルギーを付与し該硬化性材料（ＬＲ）を硬化させる硬化装置（１１）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長いシート状の感光物体に対しても効率的に露光を行う。
【解決手段】マスクＭが有するパターンの像でプレートＰを露光する露光方法であって、マスクＭをＸ方向に沿って往復移動させる工程と、マスクＭの移動とプレートＰの＋Ｘ方向へ移動とを同期して行う工程と、その往復移動中のマスクＭが＋Ｘ方向へ移動される第１期間に、マスクＭの第１パターンの像を＋Ｘ方向に関して正立像としてプレートＰに投影する工程と、その往復移動中のマスクＭが−Ｘ方向へ移動される第２期間に、マスクＭの第２パターンの像を＋Ｘ方向に関して倒立像としてプレートＰに投影する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高い生産性を維持しつつ、設備費を軽減することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに隣接して且つ平行に配置された一対の露光ユニット１，２と、該一対の露光ユニット１，２のそれぞれが共用する光源手段３と、を含む。露光ユニット１，２の各々は、帯状基板４をその長手方向に沿って間欠的に送るための搬送機構５，６，７，８と、帯状基板４の搬送経路に配置された露光部９にして、少なくとも一つのフォトマスク１０を有する露光部９と、を備える。光源手段３は、フォトマスク１０に描かれたパターンを帯状基板４の露光面に転写するために、一対の露光ユニット１，２におけるそれぞれの露光部９へと交互に光を照射可能となされている。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長いシート状の感光物体に対しても効率的に露光を行う。
【解決手段】マスクを介してプレートを露光する露光方法であって、マスクＭを走査方向に沿って往復移動するとともに、マスクＭの往復移動中の第１期間に、マスクＭのパターン及び第１投影光学系ＰＬＡを介してプレートＰを露光しつつ、マスクＭ及びプレートＰを同期して移動して、プレートＰの第１領域を露光し、マスクＭの往復移動中の第２期間に、マスクＭのパターン及び第２投影光学系ＰＬＢを介してプレートＰを露光しつつ、マスクＭ及びプレートＰを同期して移動して、プレートＰの第２領域を露光する。 （もっと読む）