【課題】 記録材料にしわ等を生ずることなく、画像を正確に記録することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 巻き出しローラ１１と、巻き取りローラ１４と、巻き出しローラ１１から巻き出され巻き取りローラ１４により巻き取られることで一方向に移動する記録材料１をその下面から吸着保持した状態で往復移動する吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１と同期して移動する一対の剥離ローラと、記録材料１の移動方向と交差する方向に移動する記録ヘッド３４と、第１のダンサーローラ機構１２と、第２のダンサーローラ機構１３と、ニップローラ３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】テープ幅を変更した場合においても押圧板を交換する作業などを必要とせず、位置合わせマークの近傍でテープを押さえることによりテープの反りや弛みを防ぎテープの位置合わせマークを観察できるようにする。
【解決手段】露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。被露光体を押さえる押さえ板４２と、被露光体に形成された第１アライメントマークと回路パターンマスクに形成された第２アライメントマークとを観察するための画像認識部５４と、押さえ板と画像認識部とを被露光体の所定幅方向に同時に移動させる第１移動部４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ワークＷに掛かる張力を一定に保ち、且つワークのパターン形成面に異物を付着させないで確実にワークを搬送する搬送装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置は、第１面に感光材が塗布された長尺状のワークを搬送する搬送装置である。長尺状のワーク（Ｗ）が巻き回されている供給リール（２）と、供給リールから送られたワークの感光材を感光させる感光処理部（２０）と、感光処理部で感光されたワークを巻き取る巻き取りリール（５）と、供給リールから巻き取りリールに至るまで、ワーク（Ｗ）の第１面以外に接触してワークを搬送する搬送補助手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクパターンの位置が理想の位置に収束するまでの露光回数が少なくて済む、帯状ワークの露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】初回の回路パターンの露光時に露光マスクに設けられた帯状ワークの側端位置を検出するエッジセンサの第１の出力を記憶し、２回目の露光の前に、帯状ワークを所定の搬送距離だけ搬送した後、初回の回路パターンの端部に露光された露光マークと、露光マスクの端部に設けられた撮像窓と、の位置合わせを行い、前記エッジセンサの第２の出力を記憶し、初回の回路パターンの露光時に記憶したエッジセンサの第１の出力と、２回目の露光の前に記憶したエッジセンサの第２の出力から帯状ワークに対する露光マスクの傾きを計算し、求められた傾きに基づいて露光マスクの角度を補正し２回目の回路パターンの露光を行う。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。
【解決手段】放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、放射線感受性材料をイメージングするために回転式マスクが使用される、大面積の基体のナノパターン形成に有用な方法および装置に関する。典型的には、この回転式マスクは円筒を含む。このナノパターン形成技術は、基体をパターン形成するために使用されるマスクがその基体と動的接触にある、近接場フォトリソグラフィを利用する。この近接場フォトリソグラフィはエラストマーの位相シフトマスクを利用してもよいし、または回転する円筒表面が金属ナノホールまたはナノ粒子を含む表面プラズモン技術を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】 フィルム状のワークＴを弛ませた箇所で、ワークＴの幅方向の位置を規制するとともにワークＴが摩擦なく送り出すことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置（ＦＥ）は、所定幅の長尺のフィルム状のワーク（Ｔ）を巻回した供給リール（２）と、供給リールから送り出された長尺のフィルム状のワークを巻き取る巻取リール（５）と、供給リールから巻取リールまでの間に配置され、長尺のフィルム状のワークに弛み領域を持たせる第１ガイドローラ（３２ａ）及び第２ガイドローラ（３２ｂ）と、第１ガイドローラと第２ガイドローラとの間で長尺のフィルム状のワークに弛みを持たせたワークの所定幅方向の少なくとも一方の端部と交差するように配置し、ワークの送り方向に回転可能な回転ガイド（２１）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】クロック信号に同期してデータ信号を展開するデータ線駆動回路において、クロック信号とデータ信号との位相のズレを解消する。
【解決手段】データ線駆動回路３２０は、縦続に接続された複数のブロックを含む。各ブロックｉは、ブロック毎に順番に複数の選択信号をクロック信号ＣＬＫに同期して順次に出力するシフトレジスタ３２３−ｉと、複数のデータが時系列に配列されたデータ信号ＤＡＴＡの位相を、クロック信号ＣＬＫを基準として調整して次段のブロックに出力するデータ同期回路３２２−ｉと、データ同期回路３２２−ｉによる調整後のデータ信号ＤＡＴＡの各データを複数の選択信号によって複数の系統に展開して保持するラインメモリ３２５−ｉと、ラインメモリ３２５−ｉによる展開後の各データに応じた駆動信号を生成する出力回路３２９−ｉとを含む。 （もっと読む）

【課題】長時間の連続露光により寸法精度が損なわれることが無く、更に、画質が劣化することなく均一な露光を行うことができる連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒体と、該透明円筒体の内部に配置されたＬＥＤ光源と、該透明円筒体と該ＬＥＤ光源の間に配置された拡散板を有する連続露光装置。 （もっと読む）

【課題】周波数選択透過型の電磁波シールド材において、所定の周波数の電磁波のみを選択的に透過し、他の周波数の電磁波を遮蔽する、透視性および生産性を向上する電磁波シールド材およびその製法を提供する。
【解決手段】透明基材２の少なくとも一方の面に、所定周波数の電磁波が透過するためのスリット５を有する金属メッシュパターン３が配設された周波数選択透過型の電磁波シールド材１であって、透明基材２の上に写真製法により現像銀層を生成することにより前記金属メッシュパターン３の金属層を構成する。 （もっと読む）

【課題】正確に像様に露光処理を行い、長期間、安定に露光処理を行える連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒基材に画像パターンが描画された原稿円筒体１と該原稿円筒体の内部に配置された光源２と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材３で構成されている連続露光装置であって、該原稿円筒体の外周に透明な帯電防止層７０を有して、原稿円筒体の外周面と前駆体との間に塵・異物の混入がないようにし、外周面が摩耗しにくい原稿円筒体を用いる。 （もっと読む）

【課題】マスク上のパターンを高精度で基板上に投影露光する。
【解決手段】マスク１１に照明光を照射する照明光学系１０と、照明光を基板上に投影する投影光学系１２とを備えた露光装置において、マスクのパターン面に所定の第１曲面を形成させる第１保持体２１ａ，２１ｂと基板の結像面に所定の第２曲面を形成させる第２保持体２２ａ，２２ｂとを有し、第１曲面と第２曲面とを維持しつつ、マスク上のパターンを基板上に投影露光する。また、第２曲面は第１曲面に合わせて形成されるものとする。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。
【解決手段】放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 （もっと読む）

【課題】テープ６の中央領域１７と側辺領域１９とを露光ステージ２に固定することができる露光装置を提供する。
【解決手段】パーフォレイションホール２０が両側に形成されたフイルム状のテープ６を露光ステージ２に１ブロック２１ずつ送りながら、露光ステージ２にて１ブロック２１ごとにテープ６を露光する露光装置１において、露光ステージ２は、パーフォレイションホール２０を境として内側に配置されるテープ６の中央領域１７を引き付ける第１吸気力を働かせ、中央領域１７を吸引し吸着させる中央吸引口１３が設けられた中央部２２と、パーフォレイションホール２０を境として外側に配置されるテープ６の側辺領域１９を引き付ける第１吸気力より大きい第２吸気力を働かせ、側辺領域１９を吸引し吸着させる側辺吸引口３が設けられた側辺部２３とを有する。 （もっと読む）

【課題】装置の水平方向及び垂直方向の大きさを抑制して設置容積を従来の装置と比較して大きくとることがない投影露光装置を提供することを課題とする。
【解決手段】投影露光装置２０は、鉛直方向に配置した露光ステージ２４を用いて、フィルムテープ状のワークＦにマスクＭのパターンを照射光により投影して露光する投影露光装置において、露光ステージへのワークの移動を鉛直方向に行う搬送機構２５と、この搬送機構とは露光ステージを境に隣り合う位置に配置されるダイソン光学系２３を有する投影光学機構と、を備え、ダイソン光学系は、当該ダイソン光学系に入射する照射光の光軸、及び、当該ダイソン光学系から出射する照射光の光軸が、露光ステージのワークに対して直交するように配置させた構成とした。 （もっと読む）

【課題】テープ状のワークに負荷をかけることなく安定した状態で搬送することが可能な搬送機構を提供すること。
【解決手段】搬送機構Ａの供給リール回転部１は、供給側第１ガイドローラ２より高い位置に配置されている。供給側第２ガイドローラ３は、供給側第１ガイドローラ２と同等又は低い位置に配置されると共に、第１搬送ローラ４より高い位置に配置されている。巻取リール回転部９は、巻取側第２ガイドローラ８より高い位置に配置されている。巻取側第２ガイドローラ８は、巻取側第１ガイドローラ７と同等又は高い位置に配置されると共に、巻取リール回転部９より低い位置に配置されている。第１搬送ローラ４および第２搬送ローラ６には、ワークをローラ表面４１ａに吸着させる吸着手段４２が備えられている。 （もっと読む）

【課題】描画対象物が連続的に相対移動する間に該描画対象物が全面に亘って直接描画されるように並んだ複数の描画ヘッドを用いて、描画図形にずれが生じることのない高い描画精度を有する直接描画処理を実行する描画方法および描画装置を実現する。
【解決手段】描画装置１は、描画対象物Ｓの搬送方向に沿って規定された走査領域ごとに割り当てられた描画ヘッド１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃおよび１１Ｄと、描画ヘッド１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃおよび１１Ｄとの間の描画対象物Ｓの搬送方向に沿った距離が、描画ヘッド全てについて同一となるようにそれぞれ設置されるセンサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃおよび１２Ｄと、を備え、各センサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃおよび１２Ｄが、描画対象物Ｓの面上に搬送方向に沿って略一定のピッチで配列されたマークを検知したときに、各センサに対応する各描画ヘッド１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃおよび１１Ｄは、描画処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】 硬い平面基板への高精細パターン形成が基板の大型化に伴い困難を増していることに着目し、柔軟性のあるウェブ状基材にロールｔｏロール型のパターン形成法を適用できる方法を提供し、さらに品質・効率を向上する。
【解決手段】 ロールｔｏロール工法でウェブ基材の表面上にパターンを形成する工程に引き続いて、形成直後のパターン表面にロール状物体を近接させて表面処理をする。特に研磨専用ロールの構成と動きにより、均一かつ平坦なパターン表面を実現する。これにより、長尺ウェブ基材上に高精細パターンの画像をロールｔｏロールで製造することが可能となり、例えば各種のディスプレイ用途に用いられるパターン形成用基材の大型化や低コスト化に有効に対応できる。 （もっと読む）

【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】感光層が設けられた帯状ワーク１１は、ワーク搬送速度Ｖでワーク搬送方向Ｆに搬送される。第１照明部３０は、ワーク搬送速度Ｖに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期Ｔ１で、第１フォトマスク２９に光を照射する。第２照明部６６は、ワーク搬送速度Ｖに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期Ｔ２で、第２フォトマスク６５に光を照射する。第１フォトマスク２９及び第２フォトマスク６５は、帯状ワーク１１に対してプロキシミティギャップを隔てて配置されており、それぞれのマスクパターンが周期的なパターンとして帯状ワーク１１に露光される。 （もっと読む）