【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク３との間に介在するように基準板４が配置されており、基準板４には、各マスク３毎に、マスク３が配置されるべき位置の基準を示す第１基準マーク４１が設けられている。カメラ５１により第１基準マーク４１及びマスクアライメントマーク（スリット３２）を検出し、制御部７は、検出された両者間の距離ａに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク３のずれを検出し、駆動部６によりマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】複数枚のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光において、露光ムラを防止できるマイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ１は、ガラス板１１の上面及び下面に、夫々単位マイクロレンズアレイが積層され、上板１０及び下板１３により各単位マイクロレンズアレイが保持されている。各単位マイクロレンズアレイと、ガラス板１１には、位置合わせ用のマークが形成されていて、単位マイクロレンズアレイとガラス板１１とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを使用した露光装置において、スキャン方向に垂直の方向についても、露光ムラが発生することを防止することができるマイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２はその反転結像位置の６角視野絞り１２の配置、即ち、マイクロレンズの配置を、スキャン方向に垂直の方向に多数のマイクロレンズを配置してマイクロレンズ列を構成し、３列のマイクロレンズ列に関して、６角視野絞りの三角形部分がスキャン方向に重なるように夫々スキャン方向に垂直の方向に（長さＬ）だけ偏倚させて配置し、更に、この３列のマイクロレンズ列から構成されるマイクロレンズ列群に関して、例えば、微小シフト量Ｆ（２μｍ）づつ、スキャン方向に垂直の方向に偏倚させて配置する。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】負圧室の天板をマスクホルダの下方から搬入する利便性を損なうことなく、マスクをより平坦に保持して、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０の露光光が通過する開口２０ａの下方に、開口２０ａより広く、下側が開放された天板収容部２０ｂを設ける。天板２３を、搬送装置３０により、マスクホルダ２０の下方から天板収容部２０ｂへ搬入する。天板２３を天板収容部２０ｂに収容し、天板２３より大きいマスク２をマスクホルダ２０の天板収容部２０ｂの周囲の下面に保持して、天板２３とマスク２との間に負圧室を形成し、負圧室に負圧をかけてマスク２のたわみを抑制する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。不一致の場合に、マイクロレンズアレイ２を基板１に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイ２による基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。 （もっと読む）

【課題】複数個のマイクロレンズアレイを使用する露光装置において、各マイクロレンズアレイの光軸を高精度で相互に一致させることができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】複数個のマイクロレンズが２次元的に配置されて構成された複数個のマイクロレンズアレイ２が１個の支持板１に配置されている。３個の圧電素子３が支持板１の孔１ａの周辺部に設置され、マイクロレンズアレイ２は３点で圧電素子３に支持されている。これにより、圧電素子３の印加電圧を調節してこれを変形させることにより、マイクロレンズアレイ２の光軸を調整する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】矩形状の面に２次元的にマイクロレンズ４ａが配列されたマイクロレンズアレイ４は、その４辺でマイクロレンズアレイプレート３により支持されている。このマイクロレンズアレイプレート３はその長手方向に直交する方向に移動することにより、基板１の露光すべき領域が露光光で走査される。このマイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部（多孔質部分５）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】電極を有する基板と、基板に対して一端を固定されて弾性変形する基板側捩じり軸部と、捩じり軸部の他端に支持されつつ、静電力により電極に引き付けられて基板に対して揺動する枠体と、枠体に対して一端を固定されて弾性変形する枠側捩じり軸部と枠側捩じり軸部の他端に支持されつつ、静電力により電極に引き付けられて枠体に対して揺動する可動部と可動部に支持されて、可動部と共に基板に対して揺動する反射鏡とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の上に発光素子の光軸と光学部品の光軸を正確に位置合わせした光源装置を低コストで実現する。
【解決手段】本発明の光源装置は次のような構成である。基板４は第１の電極パッド４１１と第２の電極パッド４１２を有し、発光素子２は、出光面２１と第３の電極パッド２６を有するパッケージと、前記パッケージの内部に収容された発光素子チップを有し、光学部品は、レンズ部３１と台座部３２と、台座部３２に形成された接合面３３を有し、レンズ部３１は発光素子２の出光面２１を覆っており、基板４に形成された第１の電極パッド４１１と発光素子２に形成された第３の電極パッド２６ははんだ１０で接合され、基板４に形成された第２の電極パッド４１２と光学部品の台座部３２に形成された接合面３３は、はんだ１０によって接合されている。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の温度を、効率的に保持板に伝熱して変形や破損を防止する。
【解決手段】液晶露光用の波長を選択的に反射する第１平面鏡１１７は、保持板２０１に面接触で保持されている。その保持板２０１側の接触面には、全面に亘って負圧発生用の穴が形成され、真空ポンプ４０７からリザーブタンク４０３を介して真空吸引することで、第１平面鏡１１７の背面を保持板２０１に密着させ、その伝熱効果を高めている。水ポンプ４０１は、パイプ２０３に冷却媒体を流すことで、第１平面鏡１１７等の温度も制御可能としている。 （もっと読む）

【課題】０次光成分を極力少なくし、透過±１次光の回折効率を極力多くして、転写した光ファイバー等の光導波路の回折格子の反射スペクトル中にノイズが発生しないようにした回折格子作製用位相マスクを提供する。
【解決手段】光ファイバー２２に対して、相互に平行で断面略矩形の凹溝２６と凸条２７の繰り返しパターン面２８を向けて配置され、繰り返しパターン面２８とは反対側の面から露光光２３を照射し、０次光２５Ａを５％以下に抑え、透過±１次光２５Ｂ、２５Ｃによる所定ピッチの干渉縞を露光して回折格子を作製する。凹溝２６の深さｄが露光光の位相を３πラジアン近傍にずらすようにすることにより、その位相をπラジアン近傍にずらす場合より、透過±１次光の回折効率あるいは透過０次光に対するコントラストを高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置の振動によるマスクの損傷を防止する。
【解決手段】基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持する。所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０との間隔を広げて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。あるいは、所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０又はチャック１０に支持された基板１との間に緩衝部材を入れて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】負圧室の天板を安全に搬送する。
【解決手段】チャック１０に、チャック１０の内部から上昇して、天板（負圧ガラス２３ａ，２３ｂ）の周辺部を支持する複数の突き上げピン１２ｃを設ける。マスクホルダ２０に、開口を形成する複数の移動可能なホルダ部２１ａ，２１ｂ、及び天板をホルダ部２１ａ，２１ｂから持ち上げるリフト機構３０を設ける。ホルダ部２１ａ，２１ｂを移動して、マスクホルダ２０の開口を天板より大きく広げ、複数の突き上げピン１２ｃにより、天板を、ホルダ部２１ａ，２１ｂの下方から、マスクホルダ２０の広げた開口を通して、ホルダ部２１ａ，２１ｂの上方へ搬入する。そして、リフト機構３０により、天板を複数の突き上げピン１２ｃから受け取り、ホルダ部２１ａ，２１ｂを移動して、開口を天板より小さくした後、リフト機構３０により、天板をホルダ部２１ａ，２１ｂに搭載する。 （もっと読む）

【課題】製造工程でレンズアレイに生じたうねりや反りを矯正する。
【解決手段】複数のレンズ素子が光軸に対して略直交する方向に延在する列を形成するように配列されたレンズアレイにおいて、前記レンズ素子が配列された方向と平行する方向に延在し、該レンズ素子の入射面側および出射面側に、該レンズ素子の光軸と平行する方向に突出するリブを設け、また複数のレンズ素子が光軸に対して略直交する方向に延在する列を形成するように配列されたレンズアレイと、複数の絞りが前記光軸に対して略直交する方向に延在するように配列された遮光部材とを有するレンズユニットにおいて、前記レンズアレイは、前記遮光部材と係合するための係合部を有し、前記遮光部材は、前記係合部と係合し、前記レンズアレイの反りを矯正するための矯正部を有することを特徴とする。 （もっと読む）