【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。
【解決手段】ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマＵＶランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。 （もっと読む）

【課題】均一な紫外線照射することにより、高性能で液晶パネル製造の歩留まり向上を実現する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間１１を備えた発光管１２内の軸方向に一対の放電用の電極１３ａ，１３ｂを対向して配置する。放電空間１１内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ１００を冷却ユニット２００で冷却させるとともに、被照射物とは反対側に反射板１９を配置し、被照射物に照射させる。反射板１９の複数の向きの異なる反射面６１で入射された紫外線を拡散したことで、被照射物に照射させる紫外線の照度の均一化を実現する。 （もっと読む）

【課題】基板上の複数箇所に遮光マスクを用いて露光を行う際に、基板と遮光マスクの位置合わせが1回のみで、複数箇所の露光を精度良く、しかも短時間で行うことが可能な偏光露光装置を提供する。
【解決手段】被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の温度を、効率的に保持板に伝熱して変形や破損を防止する。
【解決手段】液晶露光用の波長を選択的に反射する第１平面鏡１１７は、保持板２０１に面接触で保持されている。その保持板２０１側の接触面には、全面に亘って負圧発生用の穴が形成され、真空ポンプ４０７からリザーブタンク４０３を介して真空吸引することで、第１平面鏡１１７の背面を保持板２０１に密着させ、その伝熱効果を高めている。水ポンプ４０１は、パイプ２０３に冷却媒体を流すことで、第１平面鏡１１７等の温度も制御可能としている。 （もっと読む）

【課題】物体に照射される照明光を所期の照度分布に調整できるフィルタ装置を提供する。
【解決手段】フィルタ装置は、入射した光の強度をその入射した光の入射角及び入射位置に応じて変化させるフィルタ素子と、フィルタ素子に入射する入射光に対してそのフィルタ素子を動かして、入射光の入射角及び入射位置の少なくとも一方を変化させるフィルタ駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの感度が多様に変更されても、高精度の露光描画を大きなスループットで行うことができる走査型パターン描画装置の提供。
【解決手段】ステージと、光源の光を変調する光変調部と、変調された光を感光性材料層に照射する照射部と、光変調部へ入射する光の光量を調節する光量調節部と、照射部をステージに対し相対的に走査方向に沿って走査させる走査機構と、光量調節部および走査機構を制御する制御部と、感光性材料層の光感度に応じて選択される複数の露光量と、各露光量にそれぞれ適した走査速度とを対応付けて記憶する第１記憶部と、各走査速度にそれぞれ適した、制御部の制御パラメータの値を記憶する第２記憶部とを備え、制御部は、第１記憶部に記憶された走査速度の中から、入力された露光量に対応する走査速度を選択し、選択された走査速度に適した制御パラメータの値を第２記憶部に記憶された制御パラメータの値の中から選択する。 （もっと読む）

【課題】 光ビームの投射位置の回転調整を精度良くかつ簡単に行えるレーザ直接描画装置を提供する。
【解決手段】ＤＭＤ７と基板Ｗとの間に設けられたガラス板１は、長方形の板状をなし、固定枠２０に支持されたピエゾ素子２１上に保持されている。ピエゾ素子２１はガラス板１の相対する２つの端部１０、１０の両端部、即ち長方形のガラス板１の４つの角部１１に設けられ、ねじり制御装置２の制御によりピエゾ素子２１ａｂｃｄのそれぞれを適宜伸長、短縮することにより端部１０、１０を反対方向にねじる。これにより、ガラス板１の表面角度が変動し、ガラス板１を透過して基板Ｗ上に照射するレーザビームの基板Ｗ上の照射位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】サブミクロンサイズのドットパターンを有する従来型フィルタを用いる場合よりもリソグラフィ装置を簡素で安価にする。
【解決手段】基板と、基板上に形成される吸収フィルムと、を備えるリソグラフィ装置で使用されるシステム及び方法である。吸収フィルムの厚さは、基板を透過する放射ビームの強度不均一性を軽減するよう基板の少なくとも一部において空間的に調整されている。 （もっと読む）

極端紫外放射ビームを供給するように構成された放射システムと、ビーム（２３）内に配置され、放射ビームの少なくとも一部を吸収するように構成されたアブソーバ（２４）とを含む、基板上にパターンを結像するための極端紫外線リソグラフィ装置（２０）である。アブソーバは、吸収ガスの流れを収容するように構成された容積を有する。この流れはビームに対して横断方向に向けられる。アブソーバは、極端紫外放射透過ビーム入射領域及び極端紫外放射透過ビーム出射領域を有する構造を含む。この装置は更に、ガスを容積内に注入するように構成されたガスインレットアクチュエータアレイ及びガスを容積から排出するように構成されたガスアウトレットアクチュエータアレイを含む。 （もっと読む）

【課題】製造の歩留まりが良好な窓部材を備えた露光装置を提供する。
【解決手段】フィルタ６は、複数のタイル状フィルタ１０を組み合わせてガラス板５の表面上に配置して構成されている。フィルタ６は、ガラス板５の表面に隙間無く相互に接して配置され、その全周端部は筐体４に備わる押さえリブ７によって保持されている。タイル状フィルタ１０は端面同士が相互に隙間なく接しており、その接触面９は上下から相互に重なり合うように形成されている。断面が略台形となるようにタイル状フィルタ１０の４つの端面を斜めに切除して、端面にそれぞれ斜面を形成する。この斜面同士を隣り合う端面同士で上下逆に重ね、図２中のフィルタ６のようにタイル状フィルタ１０同士を組み合わせて配置する。 （もっと読む）

【課題】基板の有効表示エリア内にアライメントマークを設けた場合であっても表示を妨げることなく、基板とフォトマスクとの相対位置を高精度に調整できる、基板位置調整システムを提供する。
【解決手段】基板上に形成されたアライメントマークを、光学的に撮像する撮像手段と、その撮像した画像を最適化する画像最適化手段と、その画像情報に基づき前記基板のアライメント微調整動作を行うアライメント調整手段とを備える、基板位置調整システムにおいて、前記撮像手段が、一対の偏光板の間に基板を挟入し、一方の偏光板側から投光して、他方の偏光板側からアライメントマークを撮像するものであり、前記画像最適化手段が、撮像したアライメントマークのコントラストを最大になるように、一対の前記偏光板の少なくとも一方を光軸周りに回転させるものであり、前記アライメント調整手段が、最適化された画像情報に基づいて、基板の位置の微調整を行うものであり、前記アライメントマークを液晶材料により形成する。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 ソルダーレジスト層にフォトマスクを介して所望パターンを露光しレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、露光光を発生する光源とフォトマスクとの間に、３７０ｎｍ以下の光を５０％以上カットし且つ４００ｎｍ以上の光を８０％以上透過するフィルムを介在させ、光源から発生する露光光を前記フィルム及びフォトマスクを介してソルダーレジスト層に照射することを特徴とするソルダーレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】主走査手段において光ビームを分割して、複数の光ビームで走査露光を行なうインナードラム型の露光装置において、適正な円偏光の光ビームを主走査手段に入射できる露光装置を提供する。
【解決手段】傾斜して配置されるλ／４波長板によって楕円偏光の光ビームを生成し、この楕円偏向の光ビームを、少なくとも１枚の反射ミラーによって所定の光路で主走査手段に光ビームを入射させる光ビーム光学系に入射させることにより、記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】空間的にフィルファクタの変化が可能であり、かつ生産性が高い、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置を提供する。
【解決手段】サブ波長の微細凹凸構造の光学素子製作等のため、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法おいて、光の分割に回折により光を分割する回折光学素子を用い、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを光源と光を分離する回折光学素子の間に設けることを特徴とする周期構造パターン形成方法を主たる構成とすることにより、空間的にフィルファクタの変化が可能であり、かつ生産性が高い、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置の提供を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】配線パターンの設計仕様に応じて配線間隔等を比較的自由に調節することができる露光装置を提供する。
【解決手段】周期的に配列された複数の素子によって構成される光像形成部ＶＭを有し、且つ該光像形成部に投影すべきパターンを生成する可変パターン生成装置と、前記可変パターン生成装置によって生成された前記パターンの像を感光性基板ＰＬ上に投影像として投影する投影手段６１とを備え、前記光像形成部は回転可能であり、前記投影手段の光学特性を可変とする光学特性可変手段６７を備える。 （もっと読む）

【課題】 露光対象物の露光面上に照射する光のエネルギー量を適正露光値にすることができる直接露光装置のための光源制御装置を実現する。
【解決手段】 光源制御装置は、光源２１とＤＭＤ２２との間に配置されるフィルタ１１であって、露光対象物３の露光面相当位置におけるフィルタ１１の透過後の光の照度が露光対象物３の相対移動方向に沿って濃淡変化するように光の透過率が変化するフィルタ１１と、フィルタ１１に透過させてＤＭＤ２２に照射した光源２１からの光が全て露光対象物３の露光面に相当する位置に到達したときの、該露光面に相当する位置における光の照度を計測する計測手段１２と、ＤＭＤ２２中の相対移動方向に沿う微小ミラーの列ごとに、光の照度の当該移動方向に沿った積算値を適正露光値にすることができるような微小ミラーを選択し、これを使用可能微小ミラーとして設定する設定手段１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】静的光学系を使うパターニング生成システムでは、用途に応じて光学系を設計し直す必要があり、照明源出力の径時変化や複数特性の同時補償ができない。それで実測または検出した特性に応じて調整可能な動的光学系を提供する。
【解決手段】本発明のシステム１００は、中に流体が通るチャンネルがある光学部品１０４を照明源が出す放射線ビーム１０３によって照明する。流体源１０６がこのチャンネルに供給する流体の圧力および／または濃度を圧力制御器１０８および／または濃度制御器１１２によって調整して、この光学部品を通過する放射線ビームの特性を変える。検出器１２０が光学部品１０４を通過した後のビームの光学特性を検出し、それに応じた信号を各制御器等へ送る。この補正対象となるビーム特性は、照明強度均一性、楕円性、またはテレセントリック性でもよい。 （もっと読む）

【課題】 短時間で露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置１は外箱３ａを有し、外箱３ａの内部には内箱３ｂが設けられている。
ランプ９ａ、９ｂは、内箱３ｂの内部に設けられており、ランプ９ａ、９ｂは光源２１ａ、２１ｂを有している。
光源２１ａ、２１ｂは、主として長波長紫外線を照射する。
長波長紫外線は、大部分がガラス基板を透過するため、ガラス基板上に塗布された感光層を短時間で感光することができる。
このような光源としては、メタルハライドランプが用いられる。 （もっと読む）

【課題】 短時間で露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 ランプ９ａは、光源２１ａを有し、光源２１ａの上部にはコールドフィルタ２３が設けられている。
また、光源２１ａの周囲には反射板２５ａ、２５ｂが設けられている。
コールドフィルタ２３と反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２７ａ、２７ｂが設けられており、反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２９が設けられている。 なおランプ９ａは、露光装置の内部に設けられている。
ランプ９ａに反射板２５ａ、２５ｂを設けることにより、光源２１ａの側面や下面に照射された紫外線３９ａ、３９ｅも光源２１ａの上面に照射されるため、基板に照射される紫外線量を増やすことができる。 （もっと読む）