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Fターム[2H147EA13]の内容

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Fターム[2H147EA13]に分類される特許

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【課題】光導波路ユニットの溝部に基板ユニットの嵌合部を嵌合させてなる光センサモジュールにおいて、基板ユニットの嵌合部が片側のみであっても、基板ユニットの支持が安定している光センサモジュールを提供する。
【解決手段】光導波路ユニットW2 と、光学素子8が実装された基板ユニットE2 とを結合させてなる光センサモジュールであって、光導波路ユニットW2 は、オーバークラッド層3の片側側縁部を軸方向に延長した片側延長部分4に、基板ユニット嵌合用の縦溝部60が形成され、この縦溝部60内の側壁面に基板ユニットE2 の嵌合部5aに当接する突出片61が形成されている。基板ユニットE2 は、縦溝部60に嵌合する嵌合部5aを備えている。そして、光導波路ユニットW2 の縦溝部60に嵌合された基板ユニットE2 の嵌合部5aは、縦溝部60内の突出片61に当接している。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、活性放射線930の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク935を介して活性放射線930を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、寸法安定性の良い硬い基板によらずとも光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に、光ファイバを固定するための光ファイバ導入溝を有する光ファイバガイド用コアパターン5から構成される光ファイバガイド部材10と、光信号伝達用コアパターン4とその上に形成された上部クラッド層6とから構成される光導波路20とが並設され、前記光ファイバガイド用コアパターン5と前記光信号伝達用コアパターン4とが、基板の一方表面上に形成された同一の下部クラッド層3上に形成され、かつ前記光ファイバガイド部材10の光ファイバ導入溝に固定された光ファイバと、前記光導波路の光信号伝達用コアパターン4とが、光信号を送受可能な位置に接合されてなる。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易な光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された光ファイバガイド部材10と、光導波路20とが並設された光ファイバコネクタであって、前記光ファイバガイド部材の2つのコア間が光ファイバを固定するための溝を形成し、該溝の幅が固定される光ファイバの直径以上であり、前記基板表面からファイバガイド用コアパターン上面までの高さが該光ファイバの半径以上であり、基板表面からファイバガイド用コアパターン上の第1の上部クラッド層の表面までの高さが該光ファイバの直径以上であり、かつ該光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバガイド部材と前記光導波路が並設されてなる光ファイバコネクタである。 (もっと読む)


【課題】基板のうち光導波路を形成していない部分に素子実装を行うことが可能な光導波路の製造方法、光電気複合基板の製造方法、かかる製造方法によって製造される光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】下部クラッドパターン201及びコアパターン301を有する光導波路5を、基板1の表面の一部に積層形成する光導波路5の製造方法であって、基板の上面に下部クラッド層形成用樹脂を積層して下部クラッド層2を形成した後、基板の表面の一部が露出するように下部クラッド層をパターン化して下部クラッドパターン201とする第1の工程((c)〜(d))と、下部クラッドパターン上及び基板1上にコア層形成用樹脂を積層してコア層3を形成した後、コア層をパターン化して下部クラッドパターン上のみにコアパターン301を形成する第2の工程((e)〜(f))とを順に有する。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、基板によらずに光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、光ファイバを固定するための溝を有するファイバガイド用コアパターンが形成された光ファイバガイド部材と、第1下部クラッド層上に光信号伝達用コアパターンが形成され、該光信号伝達用コアパターン上に上部クラッド層が形成された光導波路とが並設された光ファイバコネクタであって、前記光ファイバガイド部材が接着剤導入スリットを有し、かつ前記光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバガイド部材と前記光導波路が並設されてなる光ファイバコネクタである。 (もっと読む)


【課題】厚さを低減できると共に金属層よりなるミラー部を保護できるミラー付き光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】下部クラッド層2、コアパターン3、及び上部クラッド層4を有する光導波路8と、光導波路8に設けられた光路変換用の切り欠き部5と、切り欠き部5に存在する光路変換用のミラー6とを有するミラー付き光導波路9の製造方法であって、光導波路8に切り欠き部5を形成する工程A1、切り欠き部5にミラー6を形成する工程B1、感光性の樹脂層7によって切り欠き部5を充填する工程C1、及び感光性の樹脂層7をパターン化し、切り欠き部5以外の感光性の樹脂層7の少なくとも一部を除去する工程D1を有するミラー付き光導波路の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 リブ型光導波路デバイス及びその製造方法に関し、光導波路における光閉じ込め効果を減少させることなく、単結晶コアの側面ラフネスを低減する。
【解決手段】 SiOからなる下部クラッド層と、前記下部クラッド上に設けられたSi1−xGe(但し、0≦x≦0.3)からなる単結晶コアと、前記単結晶コアの側面に拡散防止膜を介して設けられた屈折率緩和層と、前記単結晶コアの上面と前記拡散防止膜及び屈折率緩和層の露出面を覆うSiOからなる下部クラッド層とを有する光導波路を備え、前記屈折率緩和層の屈折率を、前記単結晶コアの屈折率より小さく且つ前記上部クラッド層の屈折率より大きくする。 (もっと読む)


【課題】光導波路を切断して外形加工を行なう際に、アライメントマークの視認性の向上による切断位置の精度が向上してなる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板10表面にアンダークラッド層1,コア2,アライメントマーク2aを形成する。つぎに、上記アライメントマーク2aが露呈するようにフォトマスクを用いて、上記コア2を被覆するようオーバークラッド層3を形成し、上記基板10を剥離して光導波路体を作製した後、上記アンダークラッド層1の裏面側からアライメントマーク2aを基準として切断位置を位置決めし、上記アンダークラッド層1およびオーバークラッド層3を切断することにより光導波路を作製する。 (もっと読む)


【課題】使用する光信号の波長制約が少なく、かつ光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、光ファイバの位置ずれ・ピッチずれがしにくく、光学素子の実装が容易であり、かつ基板の大きさの制限を受けずに光路変換ミラーを備えられる光ファイバ配線板及び光ファイバ電気配線複合基板を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ配線板は、光ファイバを固定するための溝を有する光ファイバガイド部材と、クラッド層及びコアパターンを有する光導波路とが、該溝に固定された光ファイバと光信号を送受可能な位置に並設されてなる光ファイバコネクタと、前記溝に固定された光ファイバとが、第1基板上に具備されてなる。 (もっと読む)


【課題】複数の光導波路と光ファイバのような複数の光学素子とをそれぞれ接続する際の位置合わせのトレランスが確保できる光導波路基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光素子のような光ファイバ5が接続される光導波路基板10は、基板20の上面22aの上方に形成された、光ファイバ5に光学的に接続する光導波路であるコア層32と、基板20の上面22aの上方に形成されたガイド部40と、を備える。ガイド部40の壁部44及び下部ガイド層としての第2下部クラッド層42は、光ファイバ5の端部6の位置がコア層32の端部35の位置に合うように各光ファイバ5の端部6を案内するためのガイド溝部45を形成する。ガイド溝部45の底面41は、光ファイバ5が挿入方向Xに進むに従って光ファイバ5の端部6がコア層32の端部35に光学的に接続できるように、一対の側面43の間に形成された傾斜面46を含む。 (もっと読む)


【課題】ミラーによって光信号を小さい光損失にて光路変換することができるミラー付き光導波路等を提供する。
【解決手段】ミラー付き光導波路9は、主に、基板1と、下部クラッド層2と、コアパターン3と、コアパターン3に間隔をおいて形成された1対の傾斜面4a,5aと、傾斜面4a,5aに形成された金属層よりなる1対のミラー6a,7aと、コアパターン3上の上部クラッド層8とを有する。1対の傾斜面4a,5aの間の部分は、途切れることなく連なる連続部3aとなっている。第1図(b)の矢印Aのとおり、一方のミラー6aで光路変換された光信号は、コアパターン3の連続部3a内を一度も出光することなく進行して他方のミラー7aまで到達し、かつこの他方のミラー7aが光信号を通過することなく確実に光路変換させるため、光損失が小さい。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、活性放射線930の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク935を介して活性放射線930を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線のビーム930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、ビーム930の焦点を層910の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム930を層910の面方向に沿って相対的に移動(面内移動)させつつ、ビーム930を照射する。これにより、焦点近傍とそれ以外の領域での積算光量の差に基づき、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に対して活性放射線のビーム930を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、ビーム930の移動経路の中心線近傍から離れるにつれて活性放射線の積算光量が連続的に減少するように、ビーム930の横断面形状およびビーム930中の強度分布の少なくとも一方を設定する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】成形型を用いてオーバークラッド層を形成する場合に、その成形型を位置決めする際に利用するアライメントマークを、CCDカメラ等の認識装置により容易に認識できるようにする光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板10上に形成したアンダークラッド層1の上面に、コア2とアライメントマークとをフォトリソグラフィ法により突出形成し、そのアライメントマークを目印として位置決めされる成形型を用いてオーバークラッド層を形成する光導波路の製法において、上記アライメントマークの形成に、フォトマスク20として、アライメントマーク形成用の開口パターン23が、開口部23aと、この開口部23aの周囲の、開口率が10%を上回り80%を下回る範囲内に設定された透光量減少領域23bとからなるものを用い、アライメントマークの周側面を傾斜面に形成する。 (もっと読む)


【課題】小型光変調器及びそれを含む光送信器を提供する。
【解決手段】光変調器は、変調されていない入力光信号を受信して、第1光信号と第2光信号とに分けて光導波路の第1及び第2経路にそれぞれ伝送する光入出力部と、第1及び第2経路のうち少なくとも1つに位置して、電気信号によって、第1経路に伝送される第1光信号及び第2経路に伝送される第2光信号のうち少なくとも1つの位相を変調して位相変調信号を出力する位相遷移器と、第1経路に伝送された信号及び第2経路に伝送された信号をそれぞれ同じ経路に反射させる反射型グレーティングカプラと、を含み、安定性の確保及び小型化が可能な効果がある。 (もっと読む)


【課題】コアパターン層の平坦性に優れ、光伝搬損失を低損失化すると共に、光伝搬損失のばらつきが少ない光導波路を有する光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第1下部クラッド層、そこに埋め込まれた配線パターン、コアパターン及び上部クラッド層を有する光電気複合基板の製造方法であって、(A)支持体上に第1下部クラッド層を形成し、パターニングする工程と、(B)第1下部クラッド層のパターン形状の開口部に配線パターンを形成する工程と、(C)第1下部クラッド層上にコアパターンを形成する工程と、(D)コアパターンを覆うように上部クラッド層を形成する工程と、(E)支持体を除去して配線パターンを露出させる工程とを有する光電気複合基板の製造方法、並びに該方法によって製造された光電気複合基板。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、基板によらず、光ファイバを取り付けやすく光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、光ファイバを固定するための溝を有するファイバガイド用コアパターンが形成された光ファイバガイド部材と、第1下部クラッド層上に光信号伝達用コアパターンが形成され、該光信号伝達用コアパターン上に上部クラッド層が形成された光導波路とが並設され、前記光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記ファイバガイド用コアパターンの溝が、前記光導波路とは反対側から前記溝に挿入される前記光ファイバの端部を前記光導波路に案内する光ファイバコネクタであって、前記溝が、前記光ファイバと前記光導波路側の接合部から反対側に向かって、幅が大きくなっている光ファイバコネクタ。 (もっと読む)


【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、パターニングされた下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、該レジスト用コアパターンと配線パターン、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、該配線パターンが、下部クラッド層のパターン形状の開口部に設けられ、かつ、積層方向において基材とレジスト用コアパターンとに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 (もっと読む)


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