【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク９３５を介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線のビーム９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の焦点を層９１０の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム９３０を層９１０の面方向に沿って相対的に移動（面内移動）させつつ、ビーム９３０を照射する。これにより、焦点近傍とそれ以外の領域での積算光量の差に基づき、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】ミラー部材の位置合わせ及び固定が容易且つ的確に行われ、歩留まりが高く安価な光モジュール、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】光トランシーバ(10)は、透光性を有するとともに、少なくとも表面の一部にアンダークラッド層(58)を有する基板と、アンダークラッド層(58)に沿って延びるコア(60)と、アンダークラッド層(58)と協働してコア(60)を囲むオーバークラッド層(62)と、基板に設けられた導体パターンと、基板に対し、コア(60)とは反対側に固定された光電変換素子(38)と、基板に対しコア(60)と同じ側に固定されるミラー部材(48)とを備える。ミラー部材(48)は、基板に対する位置合わせ用のマーカとしての凹部(54)を有し、導体パターンは、ミラー部材(48)に対する位置合わせ用のマーカパターン(44)を含む。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に対して活性放射線のビーム９３０を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の移動経路の中心線近傍から離れるにつれて活性放射線の積算光量が連続的に減少するように、ビーム９３０の横断面形状およびビーム９３０中の強度分布の少なくとも一方を設定する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が徐々に変化するように、開口９３５１の形状が異なる複数枚のマスク９３５を順次介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】放熱性に優れ、且つ、大量生産に適した光電変換モジュール、及び、光電変換モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】光電変換モジュール(26)は、一方の表面にアンダークラッド層(49)を有する基板(32)と、コア(50)と、オーバークラッド層(52)と、コア(50)を横断する溝の壁面に設けられたミラー(42)と、基板(32)の実装面に実装された光電変換素子(36)と、導体パターン(33)の一部を介して光電変換素子(36)と電気的に接続されたＩＣチップ(35)と、オーバークラッド層(52)の表面上における、光電変換素子(36)及びＩＣチップ(35)と対向する領域に設けられた金属箔(44)と、金属箔(44)の表面上における光電変換素子(36)及びＩＣチップ(35)と対向する領域に、金属箔(44)の一部が露出した状態で積層される非金属製の補強部材(46)とを備える。 （もっと読む）

【課題】光の出射側における光の集光能力が高く、位置検知性能に優れたタッチパネルを実現することのできるタッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】コア３と、このコア３を被覆した状態で形成されたオーバークラッド層４とを備えたタッチパネル用光導波路であって、光を出射するコア３の端部がレンズ部３０に形成され、そのレンズ部３０の平面視形状が、端面に向かうにつれて徐々に拡幅するテーパ部３１と、その拡幅されたテーパ部３１の先端側を外側に向かって楕円弧状に膨出させた楕円弧部３２とからなり、上記楕円弧部３２の長軸方向が上記テーパ部３１の長手方向と一致する配置になっており、上記レンズ部３０の長手方向の長さ（Ｌ）と、テーパ部３１のテーパ角度（α）と、楕円弧部３２を構成する楕円の長軸半径（ａ）とが、特定の条件を満たしている。 （もっと読む）

【課題】光導波路を切断して外形加工を行なう際に、アライメントマークの視認性の向上による切断位置の精度が向上してなる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０表面にアンダークラッド層１，コア２，アライメントマーク２ａを形成する。つぎに、上記アライメントマーク２ａが露呈するようにフォトマスクを用いて、上記コア２を被覆するようオーバークラッド層３を形成し、上記基板１０を剥離して光導波路体を作製した後、上記アンダークラッド層１の裏面側からアライメントマーク２ａを基準として切断位置を位置決めし、上記アンダークラッド層１およびオーバークラッド層３を切断することにより光導波路を作製する。 （もっと読む）

【課題】複数の光導波路を一度に製造する場合において、オーバークラッド層の上面が平坦な光導波路を、生産性よく製造することができる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板Ａ上を複数の光導波路Ｗに対応する領域に区画し、その領域ごとに、アンダークラッド層１を形成するとともに、隣接し合うアンダークラッド層１の間に、そのアンダークラッド層１と隙間をあけて、ダミーアンダークラッド層Ｄを形成する。ついで、アンダークラッド層１およびダミーアンダークラッド層Ｄの上面にコア２を形成した後、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を一面に塗布する。そして、複数の光導波路Ｗに対応する、感光性樹脂層３ａの部分を選択的に露光し、その露光部分をオーバークラッド層３に形成することにより、アンダークラッド層１とコア２とオーバークラッド層３とからなる複数の光導波路Ｗを形成し、それらを基板Ａから剥離する。 （もっと読む）

【課題】コアパタンの視認性を向上させた光導波路及び光電気複合基板の製造方法と、それらにより得られる光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】本発明は、略直方体形状の発色性のクラッド層１０、及び該発色性のクラッド層１０の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層３０からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層４０を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光導波路１及び光電気複合基板の製造方法、並びに、その方法によって製造されてなる光導波路１及び光電気複合基板である。 （もっと読む）

【課題】使用する光信号の波長制約が少なく、かつ光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、光ファイバの位置ずれ・ピッチずれがしにくく、光学素子の実装が容易であり、かつ基板の大きさの制限を受けずに光路変換ミラーを備えられる光ファイバ配線板及び光ファイバ電気配線複合基板を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ配線板は、光ファイバを固定するための溝を有する光ファイバガイド部材と、クラッド層及びコアパターンを有する光導波路とが、該溝に固定された光ファイバと光信号を送受可能な位置に並設されてなる光ファイバコネクタと、前記溝に固定された光ファイバとが、第１基板上に具備されてなる。 （もっと読む）

【課題】複数の光導波路と光ファイバのような複数の光学素子とをそれぞれ接続する際の位置合わせのトレランスが確保できる光導波路基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光素子のような光ファイバ５が接続される光導波路基板１０は、基板２０の上面２２ａの上方に形成された、光ファイバ５に光学的に接続する光導波路であるコア層３２と、基板２０の上面２２ａの上方に形成されたガイド部４０と、を備える。ガイド部４０の壁部４４及び下部ガイド層としての第２下部クラッド層４２は、光ファイバ５の端部６の位置がコア層３２の端部３５の位置に合うように各光ファイバ５の端部６を案内するためのガイド溝部４５を形成する。ガイド溝部４５の底面４１は、光ファイバ５が挿入方向Ｘに進むに従って光ファイバ５の端部６がコア層３２の端部３５に光学的に接続できるように、一対の側面４３の間に形成された傾斜面４６を含む。 （もっと読む）

【課題】 ガイド穴部の設計自由度が高い光伝送体および光伝送モジュールを提供する。
【解決手段】 本発明の光伝送体は、上下方向に貫通孔30ａを有する基板30と、貫通孔30ａの内に全体が位置するか、または一部が基板30の上面の貫通孔30ａの周囲に張り出したクラッド部材40と、クラッド部材40を上下方向に貫通する光導波孔40ａと、クラッド部材40の上側の端面に設けられたガイド穴部40ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク９３５を介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が徐々に変化するように、開口９３５１の形状が異なる複数枚のマスク９３５を順次介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に対して活性放射線のビーム９３０を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の移動経路の中心線近傍から離れるにつれて活性放射線の積算光量が連続的に減少するように、ビーム９３０の横断面形状およびビーム９３０中の強度分布の少なくとも一方を設定する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線のビーム９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の焦点を層９１０の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム９３０を層９１０の面方向に沿って相対的に移動（面内移動）させつつ、ビーム９３０を照射する。これにより、焦点近傍とそれ以外の領域での積算光量の差に基づき、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】ハンドリング性を低下させることなく製造することができると共に、厚さを薄くし、且つ、屈曲性を向上させた光電気複合基板、この光電気複合基板の製造方法、及びこの光電気複合基板を用いた、光電気複合モジュールを提供すること。
【解決手段】導体パターンが形成された電気配線基板の導体パターン形成側表面に直接、下部クラッド層が積層され、該下部クラッド層上にコアパターン及び上部クラッド層が積層されてなる、光電気複合基板、この製造方法、及びこれを用いた光電気複合モジュール。 （もっと読む）

【課題】光学特性を向上させ、製造に要する期間の短縮及びコストの低減を図ると共に、クロストークノイズ等の発生を抑制すること。
【解決手段】２層光導波路１０は、第１の面１２ａ及びこれと反対側の第２の面１２ｂを有するコア層１２と、このコア層の第１の面１２ａに積層されたクラッド層１８とを有する。コア層１２の第１の面１２ａ側の少なくとも２箇所に、コア層１２内を伝搬する光信号を第２の面１２ｂ側に指向させるミラー構造が設けられている。このミラー構造は、コア層１２の第１の面１２ａ側から形成された傾斜面１４及び該傾斜面上に形成された金属膜１６を含む。 （もっと読む）

【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、パターニングされた下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、該レジスト用コアパターンと配線パターン、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、該配線パターンが、下部クラッド層のパターン形状の開口部に設けられ、かつ、積層方向において基材とレジスト用コアパターンとに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 （もっと読む）