【課題】アルカリ現像液によるコアパターンの形成が容易であり、その際にアルカリ現像液の劣化が抑制されて生産性の向上が図られる光導波路用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】特殊な構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂〔（Ａ）成分〕を主成分とし、その硬化用として光重合開始剤〔（Ｂ）成分〕を含有する光導波路用樹脂組成物であって、前記（Ａ）成分は、（メタ）アクリロイル基、カルボキシル基、エポキシ基及び水酸基の全ての官能基を一分子中に有する。そして、基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に、光信号を伝搬するコア部が形成されてなる光導波路において、上記コア部を上記光導波路用樹脂組成物によって形成する。 （もっと読む）

【課題】フィルム光導波路の両面に光デバイスを実装でき、しかもフィルム光導波路の強度を下げることがないフィルム光導波路とその製造方法を提供する。
【解決手段】第一のクラッドフィルム１Ａと第二のクラッドフィルム１Ｂとが対向配置されて、光導波路コア４が狭持されている。第一のクラッドフィルム１Ａを貫通し光導波路コア４の一端部に接続する入光部１２と、第二のクラッドフィルム１Ｂを貫通し光導波路コア４の他端部に接続する出光部１５と、前記一端部側に入光部１２からの光を光導波路コア４に導く第一のミラー面３Ａと、前記他端部側に光導波路コア４を伝播した光を出光部１５に導く第二のミラー面３Ｂと、を有している。 （もっと読む）

【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜製造方法であって、基板２０上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板２０を配置する配置工程と、基板２０の第１主面２０ａに光を照射することにより、第１主面２０ａ上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、膜厚均一性に優れ、かつ生産性に優れる光導波路の製造方法を提供することにある。また、本発明の別の目的は、性能に優れた光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することにある。
【解決手段】 本発明の光導波路の製造方法は、コア部を形成するための第１屈折率を有するコアフィルムを、切断して線状のコア部を形成する切断工程と、前記線状のコア部の周囲を、前記第１屈折率よりも低い屈折率を有するクラッド材料で覆う被覆工程と、を有する。また、本発明の光導波路は、上記に記載の光導波路の製造法によって得られる。また、本発明の光配線は、上記に記載の光導波路を備える。また、本発明の光電気混載基板は、電気配線と、上記に記載の光配線とを、有する。また、本発明の電子機器は、上記に記載の光導波路を備える。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３とを有する光導波路９０と、該光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有する。コア層９０は、主鎖と該主鎖から分岐し、分子構造の少なくとも一部が前記主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するノルボルネン系ポリマーを含有し、コア部９４とクラッド部９５とは、前記主鎖に結合した状態の前記離脱性基の数が異なること、および、前記ノルボルネン系ポリマーと異なる屈折率を有するノルボルネン系モノマーの反応物の含有量が異なることにより、それらの屈折率が異なっている。 （もっと読む）

【課題】石英系光導波路の作製方法において、作製される光導波路の光学特性を良好に保ちつつ、コア層に対する引っ張り応力による亀裂の発生を抑制すること。
【解決手段】まず、シリコン基板上に下部クラッド層をＦＨＤ法を用いて作製する（ステップ１）。次に、反応性スパッタ法を用いてＳｉＯＮコア層を堆積する（ステップ２）。そして、フォトリソグラフィー及び反応性イオンエッチング法を用いて、１ミクロンから２００ミクロンまでコア幅を変化させたコアパターンを形成する（ステップ３）。その後、１２００℃で熱処理を行う（ステップ４）。最後に、上部クラッドの形成を行う（ステップ５）。コアパターンに作用する応力は、コア層を光導波路（コアパターン）へと加工することによって大幅に軽減されるため、コア層の状態での熱処理では亀裂が入ってしまう場合でも、コアパターン加工後に熱処理を行うことで亀裂の発生を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】光導波路において、下部クラッド層中に残留する泡に起因する下部クラッド層およびコア溝の形成不良が生じ難い光導波路の製造方法およびそれに用いる型を提供する。
【解決手段】光導波路の製造方法は、ソフトリソグラフィーを利用し、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝に対応する凸部を有する第２の型（凸型）を用いて、基板上に、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝とを有する下部クラッド層を形成する。第２の型は、上記スペーサ溝対応凸部の長手方向に垂直な断面の形状が、スペーサ溝底面に対応する凸部の下端辺がスペーサ溝上端面に対応する凸部上端辺よりも短い逆台形状であり、少なくともコア溝対応凸部側のスペーサ溝対応凸部の辺が傾斜している。 （もっと読む）

【課題】散乱損失が低く、製造工程が簡単な垂直方向テーパ構造を持つ光結合器を提供する。
【解決手段】基板上に誘電体層と半導体結晶層を有し、この半導体結晶層の少なくとも一部に光の伝搬方向に沿って基板平面に垂直方向の厚さが徐々に変化する垂直方向テーパ構造を有し、この垂直方向テーパ構造部の上面のラフネスが前記半導体結晶層を構成する原子１層分程度である、光結合器。 （もっと読む）

【課題】所要の光導波路を容易かつ高能率に製造する方法を提供すること、その製造方法を実施するに好適なコア部形成用の鋳型を提供すること。
【解決手段】鋳型本体１と、鋳型本体１に対して摺動自在に備えられた第１及び第２のスライダ２，３とをもって光導波路形成用鋳型を構成する。鋳型本体１の主面には、光導波路のコア部に対応する凹溝４を形成し、凹溝４の両端部と対向する鋳型本体１の側面には、一端が凹溝４の端部に連通する樹脂供給路５及び空気排出路を開設する。また、鋳型本体１の他の側面には、樹脂供給路５を横断する第１スライダ貫通孔７及び空気排出路６を横断する第２スライダ貫通孔８を開設し、これらの各孔内に第１及び第２のスライダ２，３を摺動自在に挿入する。スライダ２，３の側面は、凹部４の端部を構成する。 （もっと読む）

【課題】光学性能の高いミラーを備え、高品質の光通信が可能な光導波路、およびかかる光導波路の形成に用いられ、光学性能の高いミラーを容易に形成可能なミラー形成部を備える光導波路形成用部材を提供すること。
【解決手段】光導波路１０は、下側からクラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２をこの順に積層してなるものであり、コア層１３には、コア部１４と、コア部１４を側方から挟む２つの側面クラッド部１５とが形成されている。また、コア部１４の途中には、クラッド層１１の一部、コア層１３の一部、およびクラッド層１２の一部の積層体からなるミラー形成部１４５が設けられている。ミラー形成部１４５のうち、コア層１３の部分はコア部１４を構成する材料のみで構成されている。また、ミラー形成部１４５内を加工してミラー１７が形成されており、ミラー１７のうち、コア層１３の露出面には、コア部１４を構成する材料のみが露出している。 （もっと読む）

【課題】コアパターンの凹凸による気泡の発生がなく、光学特性に優れた光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して下部クラッド層を形成する工程、該下部クラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムを積層してコア層を形成する工程、該コア層を露光現像してコアパターンを形成する工程、及び該コアパターンの上に上部クラッド層形成用樹脂を積層して上部クラッド層を形成する工程を有する光導波路の製造方法であって、該上部クラッド層を形成する工程が、平板型ラミネータを用いて加熱圧着するものであり、該平板型ラミネータの基材側の加圧材としてデュロメータＡ硬度が５０以下の弾性材料を用い、上部クラッド層側の加圧材としてデュロメータＡ硬度が７０以上の材料を用いることを特徴とする光導波路の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】選択成長において、露出しているコア層の端面の酸化を抑制し、選択成長前にハリゲン系ガスを用いる必要をなくし、端面の酸化に起因する異常成長を抑制する。
【解決手段】半導体基板の上に、Ａｌを含まない化合物半導体からなる第１のコア層２０を形成する。半導体基板の上に形成すべき導波路の導波方向に関する一部分である第１の領域Ａ１に接する第２の領域Ａ２の第１のコア層を除去し、第１の領域と第２の領域との境界に第１のコア層の端面を露出させる。第１のコア層が除去された第２の領域に、Ａｌを含む化合物半導体からなる第２のコア層３０を形成する。第１の領域を基準として第２の領域とは反対側に配置され、第１の領域に接する第３の領域Ａ３内の第１のコア層を除去し、第１の領域と第３の領域との境界に第１のコア層の端面を露出させる。第１のコア層が除去された第３の領域に、Ａｌを含む化合物半導体からなる第３のコア層３５を形成する。 （もっと読む）

【課題】２次元フォトニック結晶による帰還効果を向上させ、その結晶層に分布する光の割合を増加させ、素子を形成する半導体が良好な結晶性を維持し、素子面積を小さくできるＤＦＢ型の面発光レーザを提供する。
【解決手段】バリア層と井戸層とで形成される活性層を含む複数の半導体層からなる積層中に、屈折率の異なる媒質が面内方向に周期的に配列された２次元フォトニック結晶層を備え、該結晶層の面内方向に共振モードを有する面発光レーザであって、
第１クラッド層と、２次元フォトニック結晶層と、活性層と、第２クラッド層とが順次積層されており、
バリア層、第１クラッド層、第２クラッド層のいずれの屈折率よりも高い屈折率を有し、
かつ、井戸層のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有する光誘引層が、２次元フォトニック結晶層と活性層との間、または、２次元フォトニック結晶層と第１クラッド層との間に設けられる構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴ製基板の表面に光導波路を形成しても、その光導波路のコア側面の粗面化を抑制することができる光導波路装置の製造方法およびそれによって得られた光導波路装置を提供する。
【解決手段】ＰＥＴ製基板１部分と、このＰＥＴ製基板１部分の裏面に形成された、照射線Ｌを吸収する色の着色層５とからなる着色層付きＰＥＴ製基板Ａの表面に、アンダークラッド層２の形成を経て、コア３形成用の感光性樹脂層３Ａを形成した後、この感光性樹脂層３Ａに対して照射線Ｌを照射し所定パターンに露光し、その露光部分をコア３に形成する。このコア３形成工程において、照射線ＬがＰＥＴ製基板１部分の底面に達した際に、その殆どを上記着色層５に吸収させ、ＰＥＴ製基板１部分の底面で反射する照射線Ｌを殆どなくす。これにより、ＰＥＴ製基板１部分で乱反射して感光性樹脂層３Ａに達する照射線Ｌを大幅に減少させ、コア３側面の粗面化を効果的に抑制する。 （もっと読む）

【解決課題】簡便な光導波路の製造方法を提供すること。更には、鮮明なコアパターンが得られる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】活性放射線を照射することによりマレイミド基と反応する低分子量化合物を含有するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー層を作製する活性放射線硬化性ポリマー層作製工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する第一の照射工程と、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物を揮発させる低分子量化合物揮発工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層全体に、活性放射線を照射する第二の照射工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、結晶成長技術以外の方法を用いて、量子ドット集合体のスペクトル幅の狭帯化を実現することを課題とする。
【解決手段】量子ドット集合体を有する第１の基板を用意する工程と、第１の基板とウエハ接合を行うための第２の基板を用意する工程と、第１及び第２の基板の少なくとも一方の基板上面にＳＯＤを塗布する工程と、第１の基板の量子ドット集合体が形成された側と第２の基板とを接合する工程と、接合した基板を加熱する工程と、第１の基板の薄膜化を行う工程とを含む光デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比べて、工程数の簡略化による低コスト生産が可能となるだけでなく、コアの形状を一定に保持したままフィルム幅方向に周期的に規則正しく微細なコアを配列させることが可能であり、コアの光損失性に優れた光導波路フィルムを提供すること。さらに、繰り返し屈曲・高温高湿環境下でも信頼性に優れた光導波路フィルムを提供することができる。
【解決手段】断面形状としてクラッドとなる熱可塑性樹脂Ｂに周りを囲まれたコアとなる熱可塑性樹脂Ａからなる分散体（コア）がフィルム長手方向に延在しながらフィルム幅方向に４個以上配列した構造である光導波路フィルムであって、コアとクラッド間の境界面のコア表面の平均粗さＲａが１００ｎｍ以下である光導波路フィルム。 （もっと読む）

【課題】コアパターンに蛇行が見られず、かつ、耐熱性に優れ、熱履歴によって、光導波路のシリコン基板からの剥離やシリコン基板の割れなどが生じない光導波路複合基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）基板上に粘接着剤層を介して下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層してクラッド層を形成する工程、（Ｂ）その上にコア層形成用樹脂フィルムを積層してコア層を形成する工程、（Ｃ）露光・現像によりコアパターンを形成する工程、及び（Ｄ）コアパターン上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層して上部クラッド層を形成する工程を含む光導波路複合基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ハーフミラーによる分岐を有した自己形成光導波路の製造方法において、自己形成光導波路のコア径を均一に形成すること。
【解決手段】一端が筐体１０の中空部１０ａ側となるようにＰＯＦ１１を固定し、ハーフミラー１３を中空部１０ａ内に設置して固定する（図１ａ）。中空部１０ａを光硬化性樹脂１４で満たし、筐体１０の外側であって、ＰＯＦ１１を介して光を照射した際に、ハーフミラー１３による透過光および反射光が筐体１０を透過する位置にアルミ板１５を配置する（図１ｂ）。ＰＯＦ１１を介してレーザ光を光硬化性樹脂１４に照射し、ハーフミラーによる分岐を有した自己形成光導波路のコア１６を形成する（図１ｃ）。このとき、アルミ板１５による反射のためコア１６の末端１６ａの成長が促進される。 （もっと読む）

【課題】クラッド材料の無駄・不足を生じることがなく、上クラッド層および下クラッド層の膜厚を精密に製造でき、鋭角なエッジを有する凹溝を形成できるフレキシブル光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】凹溝４を形成する凸型パターン９が形成された下スタンパ基板１０の縁周囲に、成形する下クラッド層５の厚さと同じ高さの壁１１を形成した下クラッド層成形用スタンパ８を形成し、その下クラッド層成形用スタンパ８に下クラッド層用樹脂組成物１５を充填すると共に、その上面に基板１６を押し当てて平坦化した後、その下クラッド層用樹脂組成物１５を硬化させ、下クラッド層成形用スタンパ８から下クラッド層５を離型し、その凹溝４にコア用樹脂組成物１７を充填して硬化させる方法である。 （もっと読む）