【課題】 ベベリング工程で、ＧａＰウェーハの裏面と側面との交線の上に、あるいはその近辺に発生するチッピングが防止でき、従って、ベベリング工程以後の工程におけるＧａＰウェーハの割れを低減できるベベリング方法を提供する。
【解決手段】 断面が曲率半径（Ｒ）の円弧形状底部と、該底部に連続して接し、回転軸と垂直な面に対して１０°〜３０°の傾きで開口する側面とからなる溝が、回転軸に対して半径方向外側の全周に形成されたダイヤモンド砥石を用いて、ＧａＰウェーハ（６）の裏面と、ダイヤモンド砥石の回転軸に垂直で、溝の底部の円弧中心を通る面との間隔（ｔ１）を、１０°≦９０°−ｓｉｎ^-1（ｔ１／Ｒ）≦５５°となるように、制御する。 （もっと読む）

【課題】 ビスマス置換型磁性ガーネット膜の育成中に非磁性ガーネット基板が割れ難く、育成されたビスマス置換型磁性ガーネット膜に結晶欠陥が生じ難い非磁性ガーネット基板の製造方法と非磁性ガーネット基板およびビスマス置換型磁性ガーネット膜を提供する。
【解決手段】 非磁性ガーネット単結晶ウェハの外周端面をべべリングする工程と上記ウェハ表面をポリッシュする工程を有し、ビスマス置換型磁性ガーネット膜を液相エピタキシャル成長法により育成するために適用される非磁性ガーネット基板の製造方法において、ベベリング処理された単結晶ウェハのベベル面と研磨材との間に化学的作用を生じさせながらベベル面を機械的に研磨するメカノケミカルポリッシュによりベベル面に存在するマイクロクラックと加工歪み層を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

液晶ディスプレー（ＬＣＤ）のための基板に用いられる薄い（例えば０．７ｍｍ）シートのようなガラスシート（１１）のエッジ（２３）の仕上げ加工に回転ベルト（１０）が用いられる。ガラスシート（１１）のエッジ（２３）は、ベルト（１０）の作用ゾーン（１５）に対し１本の線分（１７）に沿って係合し、この接触線分（１７）は、ベルト（１０）の走行方向（１９）に対して１０度未満の角度をなす。作用ゾーン（１５）は、仕上げ加工ステーション（１２）におけるシート（１１）の位置決めの狂いを調整することが可能な、圧力に反応するプラテン（１３）によってエッジ（２３）に接触せしめられる。
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