【課題】マイクロ波を利用して乾燥炉内に装入された塊成化物の下層部位を選択的に加熱すること。
【解決手段】本発明に係るマイクロ波乾燥装置は、被乾燥物をコンベアにより搬送する際に当該被乾燥物に対して熱風を吹き付けることで被乾燥物に含まれる水分を低減させる熱風式の乾燥炉に対して設置され、被乾燥物を乾燥させるために用いられるマイクロ波を発振するマイクロ波発振機と、コンベアの直上に設けられ、マイクロ波を導波する導波管の上面に複数の開口部を有し、当該複数の開口部それぞれから被乾燥物に対してマイクロ波を照射する複数のスリットアンテナとを備え、複数のスリットアンテナの開口部が乾燥炉幅方向の全体を覆うように、複数のスリットアンテナが被乾燥物の搬送方向に配置される。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波処理装置において被処理体に対して均一な処理を行う。
【解決手段】マイクロ波処理装置１は、ウエハＷを収容する処理容器２と、マイクロ波導入装置３と、制御部８とを備えている。マイクロ波導入装置３は、マイクロ波を生成する複数のマグネトロン３１を有し、制御部８は、ウエハＷを処理するための状態が継続している間に、複数のマグネトロン３１の各々を任意に組み合わせた複数の組み合わせ毎に、且つ、各組み合わせ内で同期して、マイクロ波を生成する状態とマイクロ波を生成しない状態とが交互に複数回繰り返されるように、複数のマグネトロン３１を制御する。 （もっと読む）

【課題】被加熱物を収容する加熱室内で吸収されずに反射するマイクロ波を、加熱室に供給する水蒸気を生成する蒸気生成供給部に供給する。マイクロ波の損失を効果的に低減して被加熱物を適正に加熱するマイクロ波加熱装置を提供すること。
【解決手段】内部に被加熱物を収容して、マイクロ波発生手段のマグネトロン３０で発生するマイクロ波を供給して加熱調理する主加熱室３３と、前記主加熱室に水蒸気を生成して供給する蒸気生成供給部３７とを備え、前記マイクロ波発生手段の動作時に前記主加熱室で吸収されずに前記マイクロ波発生手段側に反射するマイクロ波を、前記蒸気供給生成部に供給して蒸気生成用の熱源とするように構成したので、マイクロ波の損失を抑えて被加熱物を適正に加熱することができる。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑えつつ、加熱対象である固体の少なくともの周囲部分に対するマイクロ波の照射を均一化させることが可能なマイクロ波加熱装置、導波管を複数用いたマイクロ波加熱装置および吸着再生装置を提供する。
【解決手段】 吸着剤１０を加熱対象とした吸着再生装置１００であって、第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０および環状導波管２０を備えている。環状導波管２０は、第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０で生じたマイクロ波を内部に導入できるように各第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０にそれぞれ接続されている。環状導波管２０は、吸着剤１０が配置される側に開口した複数のスリットＳを有している。環状導波管２０は、加熱対象の吸着剤１０の径方向外側を覆うように配置されている。 （もっと読む）

【課題】単一のマイクロ波発振源から複数の反応場にマイクロ波を分岐させ、各反応場に薬液を連続的に流しながらマイクロ波を照射し、各反応場を並列して、各反応場を同時に、他の反応場で生じた反射波の影響を受けることなく各々の反応場を独立に加熱制御することができ多量処理が可能なマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発振機１００から発振されたマイクロ波をN分岐する（N：自然数）ことが可能な分岐導波管１０１Ａ〜Ｂを設置し、該分岐導波管１０１Ａ〜Ｂとアプリケーター１０５の間に各反応場で生じた反射波を吸収するためのアイソレーター１０２を設置し、該アイソレーター１０２と前記アプリケーター１０５の間には入射波と反射波の大きさを計測するためのパワーモニター１０３を備え、さらに、該パワーモニター１０３と前記アプリケーター１０５の間に導波管内のインピーダンスを調整するためのチューナー１０４を設置する。 （もっと読む）

【課題】加熱皿を備え、加熱皿で区切られた加熱室の上方側空間へ回り込むマイクロ波と下方側空間に放射されるマイクロ波の割合を可変して加熱を行う高周波加熱装置を提供する。
【解決手段】制御部２６が、操作部によって受け付けた加熱処理に関する情報に基づいてマイクロ波を放射する際に、加熱室２に設けた加熱皿１９を支持する係止手段２０ａ、２０ｂの下方側に設けられた四角穴２１ａ、２１ｂのインピーダンス値をインピーダンス可変手段である回転板２５ａ、２５ｂの回転方向を変更することにより変化させ、加熱皿１９と加熱室２の左右側壁３、４の隙間を経由して、加熱皿１９上方側に回り込むマイクロ波の量を可変するので、加熱皿１９に載置した被加熱物がマイクロ波により誘電加熱される割合が変わる。 （もっと読む）

【課題】反射電力を最小とする２箇所の給電部間の位相差より、被加熱物の配置を検知することで、最適な加熱条件を把握でき、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を短時間で所望の状態に加熱し、同時に効率よく動作するマイクロ波処理装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波は、２波長以下の間隔に配置した２箇所の給電部５ａ、５ｂから加熱室８に放射される。加熱室８から戻る反射電力を最小にする位相差より被加熱物の配置を検知して、最適な加熱条件で制御することで、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を短時間で所望の状態に加熱し、同時に効率よく動作させることができる。 （もっと読む）

【課題】被加熱物にマイクロ波を照射する際、マイクロ波が強く照射される指向性を制御して、高い加熱効率と加熱の仕上がり具合の向上を実現する。
【解決手段】発振部１ａ、１ｃ、電力分配部２ａ、２ｃ、増幅部４ａ〜４ｄ、被加熱物９を収納する加熱室８、加熱室８の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部５ａ〜５ｄ、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部３ａ〜３ｄを備え、給電部５ａ〜５ｄより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物９に対して反射電力を最小に抑制し、指向性を被加熱物９に向け操作した高効率な加熱を実現させることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の給電部それぞれから放射されるマイクロ波を最適に結合させて、被加熱物を所望の状態に加熱する。
【解決手段】加熱室１０の底壁面１３の略中央に加熱室の外側に向かって凸とした略四角形の凸部１６を形成し、凸部１６の各側壁面に給電部１７ａ〜１７ｄを配する。マイクロ波発生手段２０から各給電部１７ａ〜１７ｄに供給されるマイクロ波の位相は制御部３１が制御する。各給電部１７ａ〜１７ｄから放射されたマイクロ波は、凸部１６内で衝突し結合して、位相変化に応じた特有の放射分布を形成する。この放射分布を利用して凸部１６上方に載置された被加熱物を所望の状態に加熱する。 （もっと読む）

【課題】高周波発振器から発振される高周波を均等かつ広範囲に加熱室へ伝播可能にするアンテナの形状および構造とすることにより、加熱効率の向上と被加熱物の加熱ムラの抑制を実現するようにした高周波加熱装置を提供する。
【解決手段】被加熱物を収容する加熱室１と、被加熱物を加熱するための高周波を発振する高周波発振器２と、加熱室に接続され、高周波発信器から発振された高周波を加熱室に導く導波管３と、導波管内を伝播する高周波を加熱室へ伝播するアンテナ４とを備えた高周波加熱装置であって、前記アンテナは、高周波を前記加熱室側へ放射するアンテナ平板２０と、アンテナ平板に２分岐されて接続されたループ状の導電径路部Ａ２１、Ｂ２２と、導電径路部に結合され、導波管内に位置する給電シャフト２３と、加熱室の底部に設けられたアンテナ室１４内にアンテナを固定するアンテナ固定手段５とを備える。 （もっと読む）

【課題】加熱効率を向上させることにより調理時間を短縮できる高周波処理装置を提供する。
【解決手段】発振部２ａ、２ｂにより発生させた高周波を給電部７ａ〜７ｄより加熱室８に供給する第１高周波電力供給手段１Ａと第２高周波電力供給手段１Ｂを有しているので、第１高周波電力供給手段１Ａおよび第２高周波電力供給手段１Ｂに設けられている電力検知部６ａ〜６ｄによって加熱室８の被加熱物９を検知し、第１高周波電力供給手段１Ａおよび第２高周波電力供給手段１Ｂによって被加熱物１Ｂを最適な条件で加熱することができ、加熱性能の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し夫々の給電部からの放射マイクロ波の周波数および位相差を最適化することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生部１は発振部２ａ，２ｂ、電力分配部３ａ，３ｂ、増幅部５ａ〜５ｄ、被加熱物を収納する加熱室８、加熱室８の壁面に配置されマイクロ波発生部１の出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室８内に放射供給する給電部７ａ〜７ｄ、マイクロ波伝送路に挿入した位相可変部４ａ〜４ｄを備え、給電部７ａ〜７ｄより出力されるマイクロ波の位相差および発振周波数の可変制御とにより、様々な被加熱物に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。 （もっと読む）

【課題】２つのマイクロ波放射手段を備える場合において、被調理食品の調理状況を正確に検知することができる電子レンジを提供すること。
【解決手段】赤外線センサ３０を、一対のアンテナ部１５の対称中心に設ける。換言すれば、赤外線センサ３０の視野３２に対して対称な位置に一対のアンテナ部１５を配置する。このため、赤外線センサ３０は、一対のアンテナ部１５に対して均等な視野範囲を有することになる。よって、一対のアンテナ部１５によって被調理食品をマイクロ波加熱する場合において、被調理食品の調理状況を正確に検知することができる。 （もっと読む）

【課題】加熱室内のマイクロ波と結合した複数の結合部を連結し、供給されたマイクロ波を加熱室を介して循環させる構成としたマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】被加熱物を収納する加熱室１０は、底壁面１１の略中央部に配設しマイクロ波を放射する回転アンテナ１８、左壁面１２と右壁面１３および上壁面１４に設けた結合部２１〜２４、各結合部を連結する導波部２５、２６を配する。そして、回転アンテナ１８から加熱室１０内に供給されたマイクロ波エネルギの一部を結合部を介して導波部２５、２６と加熱室１０とを略循環させることにより、加熱室１０からマグネトロン１６側へ反射するマイクロ波エネルギ量を減少させることができる。また、加熱室１０内へのマイクロ波の供給は結合部からも行われるので、被加熱物に対して多方面からマイクロ波の供給が行われて被加熱物を高効率かつ均一に加熱させることができる。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ波吸収体の生産ライン長を可能な限り短縮し、エネルギーの利用効率を向上させるマイクロ波連続加熱装置を提供する。
【解決手段】 本発明のマイクロ波連続加熱装置は、マイクロ波照射部に連接するマイクロ波発射部と、マイクロ波照射部の下方に配設される搬送部とを備えるマイクロ波連続加熱装置であって、互いに隣接して配置される複数のマイクロ波照射手段を有し、マイクロ波エネルギーをマイクロ波照射手段の数に対応する複数のマイクロ波に分割して、それぞれを複数のマイクロ波照射手段に伝送し、マイクロ波を前記マイクロ波照射手段より照射することによって、搬送部によって移動してマイクロ波照射部の下方を通過する誘電体を、当該マイクロ波に加熱させる。 （もっと読む）

【課題】加熱開始時の温度の異なる複数の被加熱物を同時に加熱でき、しかも夫々の量に違いがあっても均一に加熱することができるマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】制御部６０は、赤外線センサ５９からの温度検出情報に基づいて、加熱開始時の温度の異なる少なくとも２つの被加熱物（冷凍食品と常温食品）のうち、加熱開始から所定時間経過後の温度が低い方の被加熱物の量の大小を判別し、その判別結果に基づいてモータ４０、４１を制御して回転アンテナ３８、３９の回転方向の向きを制御する。被加熱物の量の大小判別は、赤外線センサ５９を使用して加熱室３４内の温度を複数のポイントで検出し、そのポイント数に基づいて行う。これにより、被加熱物の量を正確に把握することができる。 （もっと読む）

【課題】均等性ある出力電力でかつ出力間の位相を変えられるマイクロ波発生装置およびその発生装置を利用したマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生装置１０は半導体素子を用いて構成した発振部１１ａ、１１ｂ、３ｄＢブランチラインカプラー構成の電力分配部１２、半導体素子を用いて構成した増幅部１３ａ、１３ｂ、１５ａ、１５ｂ、出力部１６ａ、１６ｂとで構成し、発振部１１ａ、１１ｂのいずれか一つを動作させることで、出力部１６ａのマイクロ波信号の位相を基準にすると、出力部１６ｂのマイクロ波信号の位相は、略９０度遅くなったり、９０度進むように変化させることができ、マイクロ波加熱装置に適用することで様々な被加熱物の加熱の均一化を促進させることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し夫々の給電部からの放射マイクロ波の位相差を最適化することで、様々な被加熱物を所望の状態に加熱する装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生部１０は発振部１１、２段構成の電力分配部１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、初段増幅部１３ａ〜１３ｄ、主増幅部１５ａ〜１５ｄ、被加熱物を収納する加熱室１９、加熱室１９の各壁面に配置されマイクロ波発生部１０の４つの出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室１９内に放射供給する給電部２５ａ〜２５ｄ、マイクロ波伝送路１４ｃに挿入した位相可変部２６を備え、給電部２５ａ〜２５ｄの配置構成および各給電部間のマイクロ波の位相差の可変制御により、様々な被加熱物の加熱の集中化あるいは均一化を促進させ所望の加熱状態を実現させることができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波発生装置の複数の出力間の位相を連続的に変化させることのできる位相可変手段を着脱自在な構造体として提供する。
【解決手段】マイクロ波発生装置１０の分配部１２と初段増幅部１３ａを接続するマイクロ波伝送路１４ａの両端部（点Ａ、点Ｂ）に接続される位相可変手段２１は、入力部２２と出力部２３とを接続するジグザグ形状のマイクロ波伝送路２４と、マイクロ波伝送路２４の所定領域を覆う半円形状の誘電体板２８を備え、誘電体板２８をマイクロ波伝送路２４に摺動回転させてマイクロ波伝送路２４を伝送するマイクロ波の位相を遅延させる。そして、位相可変手段２１における位相遅延量の連続的変化はマイクロ波発生装置１０の２つの出力の位相差に反映され、このような位相差が変化する２つのマイクロ波信号を加熱装置に適用することで様々な被加熱物の加熱の均一化を促進させることができる。 （もっと読む）

【課題】位相可変による加熱の均一性の効能を被加熱物が確実に享受できるマイクロ波利用装置を提供する。
【解決手段】被加熱物を収納する加熱室１０の左右の壁面１３、１４に互いに重なり合わない位置に放射手段１５、１６の開口部を設け、半導体素子を用いて構成したマイクロ波発生手段１７の二つの出力を放射手段１５、１６に結線するとともにそれぞれの放射手段から放射するマイクロ波の位相を可変制御することで、一対の対向配置した放射手段１５、１６によって形成される電界集中領域は加熱室１０の左右方向に順次移動し、被加熱物の収納場所に関わらず被加熱物上の加熱部位を確実に移動させて均一加熱を促進する。 （もっと読む）