【課題】耐薬品性、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び／又は加水分解後の水に対する溶解性を向上できる新規なラクトン骨格を含む高分子化合物を提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^aは水素原子等を示し、Ａは炭素数１〜６のアルキレン基等を示し、Ｙは炭素数５以上の２価の有機基を示す）で表されるラクトン骨格を含むモノマー単位と、酸の作用により脱離してアルカリ可溶となるモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】不純物による着色等のない高品質のカルボン酸エステルを、効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】３級アミンの存在下、一般式（１）で表される化合物を、アルコールに対して、０.０５〜２.０モル当量用いることを特徴とする、カルボン酸ハライドをアルコールと反応させるカルボン酸エステルの製造方法。
【化１】


一般式（１）中、
ｎは０または１の整数を表す。
ｎが０のときＲａは水素原子を表し、ｎが１のときＲａは置換基を有していてもよいアルキル基をまたは水素原子を表す。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、なかでも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるカルボキシル基を有するラクトン化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＣ１〜１０の１価炭化水素基又はＨ。あるいは、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｗは−ＣＨ₂、−Ｓ−又は−Ｏ−。ｋ¹は０〜４の整数。ｋ²は０又は１。） （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、特に現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂製造用の単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＨ、１価炭化水素基。又は、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｒ⁴はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁵。Ｒ⁵はハロゲン原子又は酸素原子を有していてもよい１価炭化水素基。Ｗは、ＣＨ₂、Ｏ又はＳを示し、ＷがＣＨ₂の場合、Ｒ⁴はＣＯ₂Ｒ⁵。ＷがＯ又はＳの場合、Ｒ⁴はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁵。ｋ¹は３〜５の整数。） （もっと読む）

【課題】高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規な電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル、高分子化合物及びフォトレジスト樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ¹は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示す。Ａは炭素数１〜６のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子又は非結合を示す。）で表される電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、一般式（１ａ）で示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
ＲＣ（＝Ｏ）Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
（Ｒは水酸基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はヘテロアリールオキシ基。Ｒ¹は酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を持つ置換基を有してもよい二価有機基で、Ｒと共に環状構造を形成してもよい。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】高い解像度及び良好な露光マージンを示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で示されることを特徴とする塩。


（式（Ｉ）中、Ｑ¹およびＱ²は互いに独立にフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、Ｘは炭素数１〜１２の２価の基であって直鎖または分岐の鎖状炭化水素基を表し、Ｙは炭素数１〜３０の置換されていてもよい炭化水素基を表す。Ａ⁺は有機対イオンを表す。） （もっと読む）

【課題】微細加工技術に適した化学増幅型レジスト材料のベース樹脂用高分子化合物の単量体として有用な新規エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料の提供。
【解決手段】下式で代表される４種類の重合性エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料。


（もっと読む）

【解決手段】式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（Ｒ⁴はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁵。Ｒ⁵はハロゲン原子又は酸素原子を有していてもよい１価炭化水素基。ＷはＣＨ₂、Ｏ又はＳ。）
【効果】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、中でも波長５００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物


［式中、Ａ、Ｂは炭素数１１〜４８からなる置換もしくは無置換のアリール基であり、ＡとＢは一致しない。ｎは２〜４の整数である。］
【効果】新規なアントラセン化合物、および発光寿命が長く、耐久性に優れ、発光効率が高い有機電界発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ポリマー等に誘導した場合に耐薬品性等の安定性を保持しつつ親水性や溶媒に対する溶解性等の特性を向上しうる、高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規な重合性不飽和基を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｘはメチレン基又は酸素原子を示し、Ｚはカルボニル基又はメチレン基を示す。ｎは０又は１を示す。式中の環は置換基を有していてもよい）
で表される多環式エステル。 （もっと読む）

以下にインスリン耐性、レプチン耐性、あるいは高血糖に関連するインスリン代謝異常の治療に有用なフォーミュラ(I)に基づく化合物および薬学上適正な塩が明示される。発明の化合物は、糖尿病や、その他癌や神経変性障害のようなPTP媒介疾患治療に有用なプロテインチロシンホスファターゼ、特にプロテインチロシンホスファターゼ1B(PTP-1B)を含む。また、発明の化合物の調合構成、および前述の疾病治療の方法が開示される。
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【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で示されることを特徴とする塩。


（式中、Ｑ¹、Ｑ²は互いに独立にフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、環Ｙは炭素数３〜３０の単環式または多環式炭化水素基を表し、環構造中にエステル結合を有する。ｎは０〜１２の整数を表し、Ａ⁺は有機対イオンを表す。式中の環Ｙは炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。） （もっと読む）

【課題】 低複屈折で光透過性が高く、溶剤に対する溶解性に優れ、アルカリ等による高い加水分解性から半導体リソグラフィーのフォトレジストの原料として優れたモノマーの提供を課題とする。
【解決手段】 式［１］で表される脂環式ラクトン化合物、及び式［４］で表される５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸化合物と式［５］で表される環状エーテル化合物及び又は式［６］で表されるエチレングリコ−ル化合物を、タングステン金属を含むヘテロポリ酸触媒の存在下、加熱し反応させることを特徴とする該脂環式ラクトン化合物の製造法。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｐは１〜１０の整数を表し、ｎは２〜１０の整数を表し、ｍは１〜５の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】常温で液状であり、取り扱いが容易である（メタ）アクリレートの提供、さらには溶剤に対する溶解性が向上した（メタ）アクリレート（共）重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレート。
【化１】


（上式において、Ｒ₁は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜３の整数、Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表す。）
また、一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる（共）重合体。
本発明の好ましい態様として、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、共重合可能な化合物の少なくとも１種を含む単量体混合物を重合することによって得られる共重合体であって重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜２０００００である共重合体。 （もっと読む）