【課題】設備や操作が簡単であり、高温を必要とせず、高純度で収率良く且つ経済的に芳香族多価カルボン酸無水物化合物を得ることができる改良された製造方法を提供すること。
【解決手段】分子内に芳香族１，２−ジカルボン酸エステル構造及び／又は１，８−ナフタレンジカルボン酸エステル構造を有する芳香族多価カルボン酸エステル化合物を、強酸及び有機カルボン酸化合物の存在下且つ有機溶媒の非存在下で加熱し、生成するアルコキシ化合物を除去しながら反応させ、ジカルボン酸エステル構造を無水物化することを特徴とする芳香族多価カルボン酸無水物化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、カルボン酸及び／又は無水カルボン酸を製造するための触媒系であって、重畳触媒層の大部分が反応管中に配置され、アンチモン酸バナジウムがその触媒層の少なくとも一層の活性触媒材料に導入されていること、を含む系に関する。さらに、本発明は、少なくとも一種の炭化水素及び分子状酸素を含むガス流が触媒層の大部分を通過し、且つ最大ホットスポット温度が４２５℃未満である、気相酸化のための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、ガス相中での炭化水素の部分的な酸化のための触媒であって、一般式（Ｉ）
Ａｇ_aＭｏ_bＶ_cＭ_dＯ_e^*ｆＨ₂Ｏ （Ｉ）
（但し、
Ｍが、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｕから選ばれる少なくとも１種の元素であり、
ａが、０．５〜１．５の値を有し、
ｂが、０．５〜１．５の値を有し、
ｃが、０．５〜１．５の値を有し、
ａ＋ｂ＋ｃが、３の値を有し、
ｄが、１未満の値を有し、
ｅが、式Ｉ内の酸素以外の元素の価数と頻度によって決定される数であり、
ｆが、０〜２０の値を有する）
の複金属酸化物を含み、該複金属酸化物は結晶構造で存在し、該複金属酸化物の粉Ｘ線回折グラムは、ｄ＝４．５３、３．３８、３．３２、３．２３、２．８８、２．５７、２．３９、２．２６、１．８３、１．７７Å（±０．０４Å）から選ばれる、少なくとも５つの格子面間隔での反射によって特徴付けられるガス相中での炭化水素の部分的な酸化のための触媒に関する。 （もっと読む）

少なくとも１の触媒層を含み、かつ、伝熱媒体により温度調節可能である、ｏ−キシレンを無水フタル酸へと酸化するための気相酸化反応器の始動方法であって、
ａ）触媒層が、この触媒層に比較して触媒活性がより少ない又は触媒不活性であるモデレーター層により中断されており、
ｂ）ガス流を、ｏ−キシレンの初期負荷でかつ伝熱媒体の初期温度で反応器に導通させ、
ｃ）ガス流の負荷を目的負荷に上昇させ、並行して伝熱媒体温度を運転温度に低下させる方法が記載される。モデレーター層の導入により、この負荷はより迅速に高められ、かつ、始動時間は短縮される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、配管の閉塞を発生させることなく、粗ナフタレン中の不純物である硫黄化合物及び窒素化合物を低減するナフタレンの精製方法と、該ナフタレンを用いて無水フタル酸を安定して製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】コールタールの蒸留から得られた粗ナフタレンに酸無水基含有高沸点物を添加・混合する添加・混合工程と、前記添加・混合工程で得られたナフタレンに含有される窒素量を低減する窒素低減工程と、前記窒素低減工程で得られたナフタレンを水添脱硫して、該ナフタレンに含有される硫黄量を低減する水添脱硫工程とをこの順序で有することを特徴とするナフタレンの精製方法。 （もっと読む）

環状シェル触媒Ｋの製造の際に生じる、環状シェル触媒Ｋの対を、反応管へのその装入前に少なくとも部分的に環状シェル触媒Ｋから分離させる、束管反応器の反応管中への環状シェル触媒Ｋの装入法。 （もっと読む）

本発明は、芳香族炭化水素及び分子酸素を含んでなるガス状流を、２つの又はそれを上回る触媒層に通すことによって気相酸化する方法に関する。さらに、本発明は、前方層を使用して気相反応するための触媒系に関する。前方にある不活性リング及び／又は触媒リングの直径×高さの積、又は前記体積は、少なくとも１つの後続の触媒層よりも小さいか、又は前方にある不活性リング及び／又は触媒リングの体積当たりの表面積の指数は、少なくとも１つの後続の触媒層よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】気相発熱反応に用いる流動層反応器について、従来よりも精細に温度を制御できる方法を提供する。
【解決手段】（１）少なくとも一つの温度検出部１５、（２）少なくとも一つの定常的に使用する除熱管６，７、（３）少なくとも一つの温度調整用の除熱管8を有している流動層反応器１を用いて気相発熱反応を実施するにおいて、温度検出部の温度と設定温度の差に応じて温度微調整用の除熱管の除熱能力を調節して温度を制御するに際し、実質的な調整範囲（０．０ＦＳ〜１．０ＦＳ）のうち能力１０％（０．１ＦＳ）から能力９０％（０．９ＦＳ）まで変化する間の平均変化速度を、０．１ＦＳ／分以上とすることを特徴とする流動層反応器の温度制御方法 （もっと読む）

本発明は、カルボン酸及び／又は無水カルボン酸の製造のための触媒系において、該触媒系が、反応管中に積み重ねて配置された少なくとも３の触媒層を有しているが、但し、触媒の全質量に対する中間の１以上の触媒層の活性材料の割合が、ガス入口側に向いている上方の１以上の触媒層の活性材料含分よりも低く、かつ、ガス出口側に向いている下方の１以上の触媒層の活性材料含分よりも低いことを特徴とする、カルボン酸及び／又は無水カルボン酸の製造のための触媒系に関する。更に、本発明は、上記触媒系使用下での気相酸化法に関する。 （もっと読む）

ｏ−キシロールと酸素含有ガスとのガス状混合物を主要反応器中で反応させ、未反応のｏ−キシロール、無水フタル酸酸化不足生成物および無水フタル酸を含有するガス状の中間体反応生成物を生じさせ、その際主要反応器中で生じる反応熱は、少なくとも部分的に伝熱媒体での間接冷却によって導出され、中間体反応生成物を後方反応器中に導入することにより、無水フタル酸をｏ−キシロールの接触気相酸化によって製造する方法が記載されている。中間体反応生成物中の未反応のｏ−キシロールの濃度は、少なくとも１質量％であり、中間体反応生成物中の無水フタル酸酸化不足生成物の濃度の総和は、少なくとも０．５質量％である。この方法は、製品品質の本質的な劣化なしに無水フタル酸の全収量の上昇を可能にする。 （もっと読む）

ｏ−キシロールと酸素含有ガスとのガス状混合物を主要反応器中で、互いに別々の温度調節可能な少なくとも２つの反応帯域に導通させ、未反応のｏ−キシロール、無水フタル酸酸化不足生成物および無水フタル酸を含有するガス状の中間体反応生成物に反応させ、および中間体反応生成物を後方反応器中に導入することにより、無水フタル酸をｏ−キシロールの接触気相酸化によって製造する方法が記載されており、この場合、主要反応器中での反応帯域の温度は、中間体反応生成物中の未反応のｏ−キシロールの濃度が少なくとも０．５質量％であるように調節される。この方法は、製品品質の本質的な劣化なしに無水フタル酸の全収量の上昇を可能にする。 （もっと読む）

この発明は、炭化水素の気相酸化、特にｏ−キシロールおよび／またはナフタリンの気相酸化のための触媒を製造するための元素硫黄として計算して約１０００ｐｐｍ未満の硫黄含有率と少なくとも５ｍ^２／ｇのＢＥＴ比表面積を有してなる二酸化チタンの適用を開示する。さらにその種の触媒を製造するための好適な方法が開示される。 （もっと読む）

本発明は、反応管中に重ねて配置された少なくとも３つの触媒層を有し、ただし流動方向で見て、最も活性の低い触媒層の前方に少なくとも１つのより活性の高い触媒層が配置されている、カルボン酸及び／又はカルボン酸無水物を製造するための触媒系に関する。さらに本発明は、炭化水素及び分子酸素を有するガス状流を複数の触媒層に導通する気相酸化法において、流動方向で見て、最も活性の低い触媒層の前方に、より活性の高い触媒層が配置されている気相酸化法に関する。 （もっと読む）

本発明は、酸化触媒を始動させる方法に関し、この場合、この方法は、触媒を３６０℃〜４００℃の温度で、１．０〜３．５Ｎｍ^３／ｈの空気量および２０〜６５ｇ／Ｎｍ^３の炭化水素装填量で、触媒層の最初の７〜２０％中で、３９０℃から４５０℃未満の温度でホットスポットを形成しながら始動することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、酸化触媒を予備成形する方法に関し、この場合、この方法は、触媒前駆物質を、０．０５〜４．０Ｎｍ^３／ｈの供給された空気量を有する空気含有雰囲気中で、少なくとも３５０℃の温度で加熱し、かつ前記触媒前駆物質を少なくとも３５０℃で少なくとも９時間に亘って活性化することから成る。 （もっと読む）

この発明は、ガス流入側に配置された第１の触媒層と、よりガス流出側の近くに配置された第２の触媒層と、さらにガス流出側の近くあるいはガス流出口上に配置された第３の触媒層とを少なくとも含み、各触媒層がそれぞれ異なった組成からなるとともにいずれも０．３重量％未満のＮａ含有率でＴｉＯ_２を含んだ活性材料を有していて、活性材料含有率が第１の触媒層から第３の触媒層に向かって低下するものであってその度合いが、ａ）第１の触媒層が約７ないし１２重量％の活性材料含有率を有し、ｂ）第２の触媒層が約６ないし１１重量％の活性材料含有率を有し、その際この第２の触媒層の活性材料含有率が前記第１の触媒層の活性材料含有率よりも小さいかあるいは等しいものとなり、ｃ）第３の触媒層が約５ないし１０重量％の活性材料含有率を有し、その際この第３の触媒層の活性材料含有率が前記第２の触媒層の活性材料含有率よりも小さいかあるいは等しいものとなるような、ｏ−キシロールおよび／またはナフタリンの気相酸化によって無水フタル酸を製造するための多層触媒に関する。さらに、そのような多層触媒床の製造方法ならびに本発明に従って使用されるＴｉＯ_２の適用方法が記載されている。 （もっと読む）

この発明は、ｏ−キシロールおよび／またはナフタリンの気相酸化によって無水フタル酸を製造するためのものであって、少なくともガス流入側に配置された第１の触媒層と、よりガス流出側の近くに配置された第２の触媒層と、さらにガス流出側の近くあるいはガス流出口上に配置された第３の触媒層とを含み、それらの触媒層がいずれもＴｉＯ_２を含んだ活性材料を有する触媒の適用方法に関し、前記第１の触媒層の触媒活性度が前記第２の触媒層の触媒活性度よりも高いことを特徴とする。さらに、好適な無水フタル酸の製造方法が記載されている。 （もっと読む）

【課題】着色度が低く、高純度な９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物を効率良く製造できる方法を提供すること。
【解決手段】ビスジアルキルフェニルフルオレンを触媒存在下、空気酸化した後、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレンを生成させ、炭化水素系溶媒と極性溶媒とで構成された晶析溶媒を用いて反応混合物から結晶を析出させた後、加熱処理による脱水を行い、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物を生成することを特徴とする９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 収率が高く、副生物が抑制され、ばらつきなく再現性よく適用可能なオキシジフタル酸無水物の製造方法の提供。
【解決手段】 ４−オキシジフタル酸無水物のようなオキシジフタル酸無水物が、ハロフタル酸無水物と炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩との反応によって製造される。この反応は、相間移動触媒としてヘキサアルキルグアニジニウムハライド又はα，ω−ビス（ペンタアルキルグアニジニウム）アルカンハライドの存在下で進行する。 （もっと読む）

本発明は、冷却剤により冷却される２個以上の反応帯域、反応帯域の間の反応混合物の中間冷却のための、反応帯域の間に配置される１個以上の装置を有する装置中で、酸素含有ガスを使用してｏ−キシレンおよび／またはナフタリンの接触部分酸化により無水フタル酸を製造する方法に関し、第２反応帯域または他の反応帯域に導入する場合の冷却剤の温度を第１反応帯域に導入する場合の冷却剤の温度に比べて低下する。本発明の方法は、第１反応帯域に導入する場合の冷却剤の温度が第２反応帯域または他の反応帯域に導入する場合の冷却剤の温度より２０°より高いことを特徴とする。
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