Fターム[4C075KK02]の内容
セファロスポリン系化合物 (1,025) | 化合物の形態 (34) | 溶媒和物 (4)
Fターム[4C075KK02]に分類される特許
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セフォゾプランの改良した製造方法
本発明は、一般式(I)のセフォゾプラン、その塩酸塩、その水和物およびその溶媒和物の改良した製造方法に関する。より具体的には、本発明は、セフォゾプラン塩酸塩IPA溶媒和物の製造方法、セフォゾプラン塩酸塩又はその水和物の新規な結晶形、ならびにセフォゾプランの医薬組成物の改良した製造方法を提供する。
【化1】
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3−プロペニルセファロスポリンDMF溶媒和物の調製方法
本発明は、3-プロペニルセファロスポリンDMF溶媒和物の改良された調製方法に関し、特に、本発明は、式(XIV)のセフプロジル(cefprozil)の調製に有用である、式(I)のセフプロジルDMF溶媒和物の改良された調製方法に関する。
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セフェム化合物の結晶
【課題】セフカペンピボキシルの新規結晶およびそれを使用する抗菌剤の製造方法を提供する。
【解決手段】式:
【化1】
で示される化合物(I)またはその溶媒和物の、結晶。
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3−ピリジニウムメチルセフェム化合物
式:
【化1】
(式中、Aは置換されていてもよい低級アルキレン(置換基:モノまたはジ低級アルキル、低級アルキリデン、または炭素2以上の低級アルキレン);Z+は以下のいずれかの基:
【化2】
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよいアミノ低級アルキル、置換されていてもよいアミノシクロアルキル、置換されていてもよい環状アミノ、または置換されていてもよい環状アミノ低級アルキル;R9は水素または低級アルキル、またはR1およびR9は隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい環状アミノを形成してもよい;R3は水素またはアミノ;XはNまたはCR4(R4は水素または置換されていてもよい低級アルキル))
で示される化合物、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
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