説明

Fターム[4E351FF26]の内容

Fターム[4E351FF26]の下位に属するFターム

Fターム[4E351FF26]に分類される特許

1 - 9 / 9



【課題】 厚膜抵抗体層の抵抗値を所望の値に維持でき、信頼性を向上することができる配線基板を提供する。
【解決手段】 絶縁基体2と、絶縁基体2の上面に配置された、印加電圧に応じて面方向に伸縮する板状の圧電体4と、圧電体4の上面に積層された、酸化物導電体,ホウ化物導電体またはケイ化物導電体からなる抵抗体粒子がガラス中または樹脂中に分散されてなる厚膜抵抗体層3と、絶縁基体2の上面に形成された、圧電体4および厚膜抵抗体層3にそれぞれ電気的に接続されている複数の配線導体5,6とを備えている配線基板1である。圧電体4を面方向に伸縮させて厚膜抵抗体層3を伸縮させることによって、厚膜抵抗体層3の抵抗値を所望の値に維持することができる。 (もっと読む)


【課題】従来、回路幅が大きく異なる設計を必要とした信号伝達回路と電源供給用回路等との回路幅を極力近づけ、実質的な小型化の可能な抵抗回路付プリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電層と絶縁層とを含む金属張積層板をエッチング加工することにより得られるプリント配線板であって、同一基準平面に形成した厚さの異なる第1回路と第2回路とが併存した抵抗回路付プリント配線板を採用する。そして、当該プリント配線板の製造は、第1銅層/ニッケル系異種金属層/第2銅層の3層が順次積層した状態のクラッド複合材を出発材料として、ニッケル系異種金属層と銅層との選択エッチング特性を有効利用した点に特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】 任意の精緻な回路定数に制御可能な回路素子の製造方法及び製造装置を提供すること、また、その製造方法を利用して製造される所望の回路定数を有した回路素子及び回路基板を提供する。
【解決手段】 基板2の導電膜形成領域Lの略中央に、所定の大きさに制御されたビームスポットBs2を集光させてから、導電膜形成領域Lに、液滴吐出ヘッド32のノズルから導電性流動体4Lを微小液滴として吐出させて所定量塗布する。そして、抵抗値計測結果を確認しながらビームスポットBS2の大きさを制御して所定の抵抗値に合わせ込み(ビームスポットBs1とする)、ビームスポットBs1を集光させたまま、UV照射部34から導電性流動体4Lが塗布された導電膜形成領域LにUV光を照射して固化させると、略中央部に空隙T1が形成された導電膜4となって成膜され、抵抗素子1が得られる。 (もっと読む)


【課題】配線基板に内蔵する抵抗素子を形成する際に抵抗体の形成時に形成不良が発生するとトリミングの範囲を超えてしまい、抵抗値を調整することができなかった。
【解決手段】本発明では、第一の電極と第二の電極と両電極間を接続する抵抗体とを備え、抵抗体をトリミングすることで抵抗値の調整が可能な抵抗素子において、前記第一の電極は前記第二の電極に対して突出した突出部を有することを特徴とする抵抗素子とすることで、同じ基本形状の抵抗素子から大きな幅を持って抵抗値を調整することが可能となった。また、精度の高い加工が行える抵抗素子を得ることができた。 (もっと読む)


【課題】 サブストレート層の上側のコンポーネントをレーザ・トリミングする際に、下側のコンポーネントなどの損傷を防ぐ。
【解決手段】 サブストレート層12は第1主面16及び第2主面(下側の面)を有し、導電性第1層22、24、26が第1主面を覆い、導電性第2層20、34が第2主面を覆う。第1層がトリミング可能部分24を有する第1パターンの形状であり、第2層がトリミング可能部分の少なくとも一部と合う第1導電性要素34を有する第2パターンの形状である。第2層のパターンが第1導電性要素34から電気的に分離した第2導電性要素20を有すると共に、第2導電性要素が第1導電性要素を包囲する。 (もっと読む)


【課題】部品内蔵配線基板用のコンデンサの形成方法において、コンデンサの電極を誘電体を切断せずにトリミングで除去し、信頼性の低下と収率の悪化を防ぐ方法を提供する。
【解決手段】(1)コンデンサの下電極を、銅配線層をフォトリソグラフィとエッチングによって形成する工程(2)誘電体フィラーと絶縁樹脂が混合されている誘電体を下電極上に形成する工程(3)誘電体表面に導電性高分子膜を形成する工程(4)下電極の取出配線部と導電性高分子膜とにコンデンサ容量測定用の電極を接触し、容量を測定しながら所望の容量になるように導電性高分子膜をレーザー加工によって削り取り除去する工程(5)レーザー加工による導電性高分子膜を除去した部分を避け導電性高分子膜上ならびに誘電体上に導電性ペーストをコートする工程(6)導電性高分子膜上ならびに導電性ペースト上に電解めっきによって金属層を形成する工程によって、形成する。 (もっと読む)


【課題】
配線基板上に金属膜を用いて形成する抵抗素子形成では、同一の金属膜を用いた場合、素子の長さと幅で抵抗の抵抗値を調整していたため、一定範囲の制限された抵抗値しか作ることができなかった。
【解決手段】
金属膜を用いた配線回路基板上に、複数の抵抗素子を形成する形成方法において、前記同一の金属膜で形成した複数の特定の抵抗素子に異なる処理を施し、処理の有無により異なる抵抗値の抵抗素子を形成することにより解決することができた。 (もっと読む)


【課題】 集合基板上の複数の多層電子部品の特性を効率よく調整することが可能な多層電子部品の特性調整方法及び多層電子部品の特性調整装置を提供する。
【解決手段】 本発明による多層電子部品の測定方法は、多層電子部品の特性を測定する測定工程S21と、測定工程S21で得られた測定結果に基づき、必要なトリミング量を算出する算出工程S22と、算出工程S22で得られたトリミング量に従って、多層電子部品内に設けられたトリミングパターンをトリミングするトリミング工程S23とを備える。これにより、既に測定工程S21が完了した多層電子部品に対するトリミング工程S23と他の多層電子部品に対する測定工程S21とを並行して行うことが可能となる。 (もっと読む)


1 - 9 / 9