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Fターム[4F034BA32]の内容

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Fターム[4F034BA32]に分類される特許

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【目的】電着レジストを高精度に形成できるスプレーレジスト法による水晶ウェハに対するレジスト膜の電着機構を提供する。
【構成】レジスト液を収容するレジスト容器と、前記レジスト液を霧状に噴霧する吐出ノズルと、前記吐出ノズルの先端に前記レジスト液を帯電させる電極針とを備えた電着機構において、前記レジスト容器に加圧ガスを供給するとともに前記レジスト液を吸引して噴霧するアトマイジングスプレーノズルを設け、前記アトマイジングスプレーノズルから噴霧されたレジスト粒子のうちの重量の大きいレジスト粒子を前記レジスト液に落下させ、前記レジスト粒子のうちの重量の小さいレジスト粒子を前記レジスト容器の上方に設けられて前記吐出ノズルに連通する流出口から排出する。又、前記電極針は複数本として前記吐出ノズルの外周に均等間隔で配置された構成とする。 (もっと読む)


粉末スプレーガンは、加工部品をコーティングするために、部品を回転させることなく、また粒子偏向板を用いることなく、静電気を帯電させた粒子の好適なパターンを形成する。ガンの粉末帯電チャンバ内に導入される接線方向に渦巻状に動作する空気と協働する漏斗状アウトプットを用いて、粒子パターンが形成される。渦巻空気を追加的に用いて、帯電チャンバ内の帯電電極から集塊した粉末粒子が取り除かれる。帯電チャンバ表面は、摩擦の小さい材料で構成されるか、粉末の衝突による固着に対する抵抗性が高い材料で構成される。
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