【課題】生産効率を向上させる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワーク５に液滴を吐出する前にワーク５に前処理を施す前処理部２０と、液滴を吐出可能に取り付けられた液滴吐出ヘッドを備え、液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して液滴をワーク５に塗布する液滴吐出部３０と、液滴が吐出されたワーク５に後処理を施す後処理部５０と、ワーク５の平面を水平に保持可能なワーク保持部７７を有する搬送部７０と、を有し、前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とが搬送部７０のワーク保持部７７の移動範囲内において順に配置され、搬送部７０のワーク保持部７７がワーク５を保持した状態で前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とを順次移動可能である。 （もっと読む）

【課題】 糸条の外周に蓄光材のパウダーを混合した樹脂を被覆した良好な蓄光コーティング糸および蓄光コーティング装置を得る。
【解決手段】 糸条Ｙ１を送り出し、糸条Ｙ１の周囲に蓄光材のパウダーを混合した樹脂Ｊを被覆すべく、蓄光材Ｔのパウダーを樹脂Ｊに混合せしめたボックス１１内に供給した後、ノズル装置１３により均一化し、加熱手段１５で加熱し、さらに、送り出し装置２１で送り出し巻き取り装置２７に巻き取る蓄光コーティング装置１であって、前記ボックス１１の前に前記糸条Ｙ１に樹脂を付けやすくするための糸条改質手段４３を設けると共に下方に配した前記ボックス１１内の上方に配置したノズル装置１３を介して前記ボックス１１の上方に前記加熱手段１５を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程を終えた基板から水分の除去を効果的に行って塗布基板を作製することができる塗布装置システムを提供する。
【解決手段】液体洗浄された基板に対して前処理を行う前処理装置と、前処理がされた基板に対して塗布液を塗布する塗布装置本体３とを備えている。前記前処理装置は、液体洗浄された基板に、プラズマによって生成されたラジカルを照射するプラズマ処理機５と、このプラズマ処理機５のヘッド部と基板とを相対的に基板の面方向に沿って移動させる駆動機構６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高速で連続的に走行する基材に対する塗布液の濡れ性を向上させ、薄膜化のために塗布液の希釈率を上昇させた際にも擦れ等の欠陥が発生しないロール塗布方法およびロール塗布装置を提供する。
【解決手段】３ロールコーターにおいて、アプリケーターロール３の位置より上流側の位置にプラズマ照射装置９を設置し、このプラズマ照射装置９からのプラズマ照射によって、基材１の表面を改質して濡れ性が良好な状態にしてから、アプリケーターロール３で塗布液７を塗布する。 （もっと読む）

【課題】エアロゾルデポジション法による複合構造物作製において、原料微粒子粉体の表面の付着物を除去し、作製される構造物の強度の向上、不純物の混入の防止を行う。
【解決手段】エアロゾルデポジション法によって複合構造物を形成させる場合に、プラズマ照射やマイクロ波照射により使用する微粒子の表面を予めクリーニングし、時間をかけて活性化処理する。引き続いてこの微粒子をエアロゾル化し、基材に向けて噴射することで基材上に微粒子の構成材料からなる構造物を作製する。 （もっと読む）

【課題】液滴が基板に着弾した際の位置精度を改善した液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。選択的に形成した親液性領域を撥液性で挟むことで、着弾後の液滴は着弾位置から移動せず形成することができる。 （もっと読む）

【課題】水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制する。
【解決手段】ウェブＷに水系塗液を塗布する方法であって、水系塗液塗布前に、ウェブＷにおいて塗膜Ｃが形成される領域の縁部Ｔのみにプラズマを照射する。 （もっと読む）