【課題】Ｆ／Ｃが１．８以下の非パーフルオロ系フッ素樹脂成形体の表面に優れた低温ヒートシール性を付与する。
【解決手段】表層の少なくとも一部に低温ヒートシール性の表層部分を有する非パーフルオロ系フッ素樹脂成形体であって、該低温ヒートシール性表層部分の炭素原子数に対するフッ素原子数の比Ｆ／Ｃが０．２≦Ｆ／Ｃ≦０．９でありかつ炭素原子数に対する酸素原子数の比Ｏ／Ｃが０．０９≦Ｏ／Ｃ≦０．４０であり、表層の残余の部分の炭素原子数に対するフッ素原子数の比Ｆ／Ｃが低温ヒートシール性表層部分よりも大きくかつ０．８≦Ｆ／Ｃ≦１．８であることを特徴とする、特に太陽電池用カバーフィルムとして好適な非パーフルオロ系フッ素樹脂成形体。 （もっと読む）

【課題】処理時間が短く、且つ、対象物との距離が大きくとも高分子材料の表面での極性を付与する官能基が生成されやすい高分子材料表面改質方法を提供する。
【解決手段】高分子材料２の表面を加熱処理する工程と、加熱処理された高分子材料２の表面に対して、乾式法である表面改質法を用いてぬれ張力値が大きくなる表面改質を行う工程とを含むことを特徴とする高分子材料表面改質方法。 （もっと読む）

【課題】フィルムのコロナ処理において、裏ヌケさせずに、片面のみの効果を得る方法を提供する。
【解決手段】高周波の高電圧を印加する放電電極と、絶縁物で被覆し電気的に接地された接地電極とで構成され、放電電極先端近傍の両側に均等に接地電極を配置した電極を用いて、ストリーマ状のコロナ放電を発生させ、フィルムをこのストリーマコロナ放電領域を通過させることで、フィルム表面をコロナ処理することを特徴とするフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【解決課題】ホモポリマーの発生を低減させて、グラフト率の高いグラフト化基材を得ることができるグラフト化基材の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】高分子基材に反応活性点を生成させる反応活性点生成工程と、反応活性点を生成させた高分子基材に反応性モノマーをグラフト重合するグラフト重合反応工程と、形成されたグラフト鎖に官能基を導入する官能基導入工程と、を具備し、反応活性点生成工程とグラフト重合反応工程とは別個に行う、グラフト化基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面改質されたフィルムを経済的に製造する方法を提供すること。また、高度に表面改質されたフィルムを提供すること。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂と、ポリオレフィン系樹脂１００重量部あたり、帯電防止剤０．０２〜０．５重量部とを含有する樹脂組成物を成形してなるフィルムの少なくとも片面に、希ガス雰囲気下でコロナ処理を行うことを特徴とするフィルムの製造方法。フィルムの少なくとも片面のぬれ張力が、６５ｍＮ／ｍ以上であるポリオレフィン系樹脂フィルム。 （もっと読む）