マイクロニードル形態のネガ像を特徴とするネガ型インサート（４４）を提供することを含む、成形可能なマイクロニードルアレイ（５４）の製造方法を記載するが、ここで、マイクロニードルの少なくとも１つのネガ像は、約２：１〜約５：１のアスペクト比を特徴とする。ネガ型インサート（４４）を使用して、ネガ型キャビティ（４２）の構造化表面を画成する。加熱されたネガ型キャビティの中に溶融プラスチック材料を射出する。その後、溶融プラスチック材料を冷却して金型インサートから取り外し、成形されたマイクロニードルアレイ（５４）を提供する。本発明のマイクロニードルアレイの一使用法は、薬剤又は他の物質を送達するため、および／又は、皮膚を通して血液又は組織を抽出するために皮膚を貫通することを含む。
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成形サイクルを短くすることができ、生産性を高くすることができる加圧成形装置、金型
及び加圧成形方法を提供する。第１の金型と、第１の金型と対向させて配設され、かつ、基板（１４）、基板（１４）より第１の金型側に配設された断熱材（２１）、及び断熱材（２１）より第１の金型側に配設され、第１の金型と対向する面に凹凸が形成された加工部材を備えた第２の金型と、第１の金型に被加工部材を装填する装填処理部と、加工部材を、被加工部材を構成する材料の状態変化点より高い成形温度に加熱する加熱処理部と、加工部材を被加工部材に押し付けて、凹凸を被加工部材に転写するための転写処理部とを有する。この場合、加工部材が断熱材より第１の金型側に配設されるので、短時間で、加工部材を加熱して成形温度にし、加工部材を冷却して離型温度にすることができる。 （もっと読む）

本発明は、転写パターン層とは異なる材料からなるベースによって支持された、ポリマー材料からなるポジ型突起パターン表面を備えた転写パターン層を有する転写用成形型に関する。転写パターン層は、周囲温度で硬化可能な組成物から形成される。本発明はまた、転写用成形型のポジ型又はネガ型複製品を製造する方法ならびに転写用成型型の成形後の複製品（レプリカ）から微細構造体（例えば、プラズマバリアリブ）を製造する方法に関する。
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定盤（１）がガス状で排出されるよう構成される場合に、カプセル製品および同様な製品処理において迅速な排出と利用の可能な定盤（１）が設けられる。該定盤（１）には、基盤プレート（２）、該基盤プレート（２）を貫通して通じるよう構成される少なくとも１本の排気管（１１）ならびに該基盤プレート（２）との間で各ガス排気管（１１）と通じる高圧空間（９）を生み出すよう該基盤プレート（２）とは別に間隔をおいて配置される支持プレート（３）が含まれる。該定盤（１）には、さらに、支持プレート（３）の高圧空間（９）から遠い表面に形成される第１配列溝（１４）が含まれ、そこには複数のメサ（１５）が該溝中間の支持プレート面領域に定められるとともに、複数の孔（１９）が該溝（１４）に位置してその各々は支持プレート（３）を貫通する。

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通常の射出成形の温度及び圧力以下でスタンパの微細加工又は、金型形状を精密に転写することができる樹脂組成物及び該組成物を用いたマイクロ部品の提供を目的とする。ポリプロピレン系樹脂と一般式Ｘ−Ｙで表記されるブロックコポリマーの水素添加誘導体とを含有していることを特徴とする。 ここで、ポリマーブロックＸは、ポリプロピレン系樹脂に相溶しないポリマーブロックであり、ポリマーブロックＹは、共役ジエンのエラストマー性ポリマーブロックである。 （もっと読む）

コンタクトレンズ（１０）は、モールドツール１にエッチングされたしるし（６４）を有して成形される。１つの実施形態では、このツールは、ステンレス鋼から作製され、マスクされ、そして塩化ナトリウムの溶液で電気化学的にエッチングされる。電圧および電流はＤＣであり、これらおよび時間および温度は、所望の深さのエッチングを提供するように制御される。しるしを有するコンタクトレンズを製造するための、そして該しるし内および該しるし近傍での該コンタクトレンズにおける亀裂および割れを減らすためのプロセスもまた提供される。
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表面の少なくとも一部が微小構造化又はナノ構造化された寸法を有する複雑な鋳型表面を正確に複製するポリマー・フィルムを生産するための方法及び装置が開示されている。ポリマー粉体が基礎となる鋳型表面上に電気堆積される。続いて、粉体はポリマー・フィルムを作成するために硬化される。最後に、フィルムは鋳型表面から除去される。
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本発明は、成形技術に関する。さらに詳しく述べると、本発明は、可とう性成形型と、その製造方法と、微細構造体の製造方法とに関する。本発明は、例えばプラズマディスプレイパネルの背面板のバリアリブのような種々の微細構造体の製造に利用することができる。
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