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Fターム[4F204AJ09]の内容

プラスチック等の注型成形、圧縮成形 (61,336) | 装置又は装置部材の材料の特徴 (1,067) | 構造の特徴 (334) | 積層構造(被覆層、表面層の構造等) (87)

Fターム[4F204AJ09]に分類される特許

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【課題】 成型用鋳型の上面に施蓋するための蓋であって、薄いポリマーシートを成形する際、プレポリマー原料を無駄にせず、気泡が混入する危険性が低く、しかも、成形後にポリマーシートのハンドリング治具としても使用できるを容易に鋳型から剥離することができる蓋を提供する。
【解決手段】 ポリマーシート成型用鋳型の上面に施蓋するための蓋であって、着脱可能な厚板シートと、薄板シートとからなり、前記薄板シートは、支持基板と、該支持基板の一方の面側のポリジメチルシロキサンからなる薄膜と、該ポリジメチルシロキサン薄膜上に形成された離型膜とからなる一体構造を有し、前記厚板シートと薄板シートは同じ位置に少なくとも1個の貫通孔を有することを特徴とする蓋。 (もっと読む)


【課題】 成形型と可塑性素材との摩擦係数に応じて冷却速度を調整することにより、成形品の形状精度の向上を図ることができ、また、冷却速度を速くしてサイクルタイムを短縮することができる可塑性素材の成形方法を提供する。
【解決手段】 加熱溶融させた可塑性素材16を成形型11,12によりプレス成形した後に冷却する可塑性素材の成形方法において、可塑性素材16と成形型11,12との摩擦係数に応じて、可塑性素材16の冷却速度を設定する。また、可塑性素材16と成形型11,12との摩擦係数が0.1以下のときに、冷却速度を0.3℃/秒以上とする。さらに、可塑性素材16を成形型11,12でプレス成形する前に、成形型11,12にカーボン19を付着させて、可塑性素材16と成形型11,12との摩擦係数を低くする。 (もっと読む)


【課題】薄い基板又は脆性を有する基板に装着されたチップを樹脂封止する際に、基板の圧痕、クラック等の損傷や、基板が有する配線パターンの断線等の不良を防止する。
【解決手段】相対向する下型1と上型2とが設けられ、下型1の型面4上には基板5が載置され、基板5のチップ装着面6にはチップ7が装着されている。型面4上には、平面視した場合に基板5を含むようにして、エンジニアリングプラスチックからなる圧力吸収層12が形成される。圧力吸収層12は、流動性樹脂を硬化させる際の温度に耐えうる耐熱性と、各々一定の厚さ、硬度、弾性、及び圧縮強さとを有する。チップ7が樹脂封止される際には、下型1と上型2とが型締めした状態で上型2のキャビティ11に流動性樹脂が注入される。この場合に圧力吸収層12が局所的に変形することにより、基板5に加えられる圧力である、型締めによるクランプ圧と流動性樹脂による樹脂圧とが低減される。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性樹脂を低配合として、しかも既往製品と同様な外観意匠を確保し、既往の配合率であるなら外観意匠の一層の向上を実現するレジンコンクリート製品の製造方法を提供する。
【解決手段】金型の内周面に離型剤を塗布する工程と、前記離型剤層の上へ硬化促進剤を更に塗布する工程と、熱硬化性樹脂を5〜15重量%配合したレジンコンクリートを前記金型内面へ注入充填する工程と、前記レジンコンクリート製品を金型から離型して取り出す工程とから成る。 (もっと読む)


【課題】疎水性トップコート層を有する眼科用レンズを成形型から作製する方法を提供する。
【解決手段】以下の工程を含む、一対の成形型の少なくとも片側の成形型の製造方法:(a)各が協働して成形キャビティの輪郭を定めるように意図された互いに対向した光学表面を有する一対の成形型を準備する工程、(b)前記一対の成形型の少なくとも片側の前記光学表面に、疎水性トップコート層を形成する工程、および(c)前記疎水性トップコート層上に、反射防止膜を形成する工程、ここで、- 該反射防止膜は、高屈折率および低屈折率の交互に積層した誘電体層を含み、かつ- 前記疎水性トップコート層上に成膜した第1の誘電体層は、第1段階において、真空成膜により第1の誘電体サブレイヤを成膜し、第2段階において、イオンアシスト真空蒸着により第2サブレイヤを成膜する2段階プロセスを用いて成膜される。 (もっと読む)


【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第1のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル(PFPE)系材料の使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。 (もっと読む)


【課題】 コア基板上に絶縁層及びヴィアを形成する際に、形成された絶縁層の表面が平滑となり、薄膜素子等を信頼性及び歩留り良く、高い自由度を以って形成でき、更には微小なヴィア形成が可能な絶縁層及びヴィア形成方法、配線構造の形成方法、並びにこれらの方法の実施に使用する型材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基板1上の電極2を含む面に液状の絶縁層材料3を塗布し、この上から突起22が形成された型材21の突起22側を押込み、この突起22を電極2に接当させて絶縁層3を硬化した後に、型材21を剥離する。これにより突起22の部分の絶縁層3にヴィア23を形成することができる。従って、型材21の突起22を除く面を平滑に形成し、突起22を所望の形状及びサイズの形成しておくことにより、表面が平滑な絶縁層3及び所望のヴィア23が形成され、この方法を用いて薄膜素子等を形成すれば信頼性及び歩留りの良い製品を作製することが可能になる。 (もっと読む)


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