【課題】ナノインプリント方法において、レジスト膜のはがれが生じ難い形状転写層を形成することができるナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】２５℃、１ａｔｍの条件下において、光又は熱により気体を発生する気体発生剤（Ａ）と、第二の反応性基を有し、光及び熱に対して安定な化合物（Ｂ）と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】特定の感紫外線化合物を用いて設計どおりの微細金属パターンを有する基板を容易に大量生産も可能に得ることができる金属パターンを有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】金属薄膜２を有する基板１表面に式（Ｉ）に示す感紫外線化合物３を吸着させ、該化合物上に熱可塑性高分子４により層を設け、紫外線を照射し、得られた熱可塑性高分子層上に熱ナノインプリント法によって凹凸を形成し、熱可塑性高分子の残膜を除去し、凹み部分に電気めっきにより金属層を形成し、熱可塑性高分子層を除去し、凹み部分における金属薄膜を除去して、金属パターンを形成する。
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【課題】パターン精度および基板密着性に優れ、かつ、耐熱性に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含む硬化性組成物であって、該硬化性組成物を平均厚さが０．５μｍ以上３０μｍ未満の範囲のいずれかとなる硬化膜としたとき、波長３６５ｎｍの光線の透過率が８０％以下となる、光ナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】透過性に優れた硬化物が得られるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも２種類の反応性の異なる硬化性官能基を同一分子内に有する単量体と、（Ｃ）酸化防止剤とを含有するナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】良好なインプリント性と光硬化性を有し、機械的特性や各種耐久性、中でも光硬化性、耐熱性および弾性回復率に優れたインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】光重合性単量体と、光重合開始剤と、酸化防止剤と、含有する光インプリント用組成物であって前記光重合性単量体の含有量が８０〜９９質量％であり、前記酸化防止剤の含有量が０．３〜７．質量％であり、前記酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とセミヒンダードフェノール系酸化防止剤の混合物、またはヒンダードアミン系酸化防止剤のみ、のいずれかであることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 表示装置に用いても表示ムラの発生しない微細パターンを提供可能なナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、硬化後の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、ナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）光重合開始剤、および（Ｃ）重合禁止剤を含み、かつ、該重合禁止剤の添加量が該重合性単量体に対して重量で３００ｐｐｍ〜５％であることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン化合物と、無機微粒子と、を少なくとも含み、更に必要に応じて、エチレン性不飽和結合含有基を１個以上有する重合性不飽和単量体、および重合開始剤を含む組成物を重合することを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）